一种靶材组件用沉孔塞制造技术

本实用新型专利技术涉及一种靶材组件用沉孔塞，为凸型结构，包括凸端和底端；所述沉孔塞凸端的直径为靶材组件中沉孔直径的1.15

【技术实现步骤摘要】
一种靶材组件用沉孔塞


[0001]本技术涉及靶材领域，具体涉及一种靶材组件用沉孔塞。

技术介绍

[0002]目前，靶材作为溅射镀膜的常用材料，用于各行各业的镀膜。
[0003]如CN112962073A公开了一种靶材溅射镀膜装置及其使用方法，其包括密封箱体，负压空间内设置有镀膜腔，镀膜腔内设置有靶材基座和沉积基底，所述密封箱体的内壁设置有承接清洁装置，承接清洁装置包括承接输送带、靶材刮除装置和两个滚轮，承接输送带用于承接飞向密封箱体内壁的粒子；靶材刮除装置包括负压吸拾嘴和刮刀，刮刀安装于吸拾嘴的内部且刀刃贴合于承接输送带，负压吸拾嘴用于吸拾刮刀从承接输送带刮除的物质；所述承接清洁装置设置有四个，四个承接清洁装置的承接输送带将镀膜腔合围，所述靶材基座和沉积基底的形状相同且呈矩形，四个承接清洁装置的承接输送带分别与靶材基座/沉积基底的四个边贴合。该靶材溅射镀膜装置及其使用方法，四个承接清洁装置的承接输送带将镀膜腔合围，尽可能避免了被轰击出的靶材粒子的外溢。进一步提高了清洁程度。
[0004]CN205774779U公开了一种真空镀膜设备，包括设置在真空腔室中的靶材、敲击探头和样品基片，所述靶材与电源阴极相连，敲击探头与电源阳极相连，样品基片与靶材平行相对设置，所述敲击探头位于靶材与样品基片之间，所述敲击探头往复运动设置，并敲击靶材表面，所述靶材与敲击探头相对转动设置，使敲击探头能够沿靶材圆周方向均匀敲击靶材表面。该镀膜设备能够实现敲击点从某一固定点改变为360度的敲击轨道，不管是金属/合金，还是石墨靶材，都能够使靶材表面达到稳定的、均匀的和高沉积速率的刻蚀，并提高了靶材利用率，增加了设备的维护周期，降低了成本。
[0005]然而，靶材在使用过程中通常要安装在溅射机台上，此时靶材的沉孔面需要安装陶瓷法兰圈，而在溅射镀膜过程中因为靶材温度的升高会导致背板变形，进而会磨损陶瓷法兰圈，导致溅射所得镀膜不理想，性能较差。

技术实现思路

[0006]鉴于现有技术中存在的问题，本技术的目的在于提供一种靶材组件用沉孔塞，解决了沉孔塞无法和沉孔锁紧导致沉孔塞容易脱落的问题，同时避免了法兰圈的磨损，保证了溅射所得镀膜具有良好的性能。
[0007]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0008]本技术提供了一种靶材组件用沉孔塞，所述靶材组件用沉孔塞为凸型结构，包括凸端和底端；
[0009]所述沉孔塞凸端的直径为靶材组件中沉孔直径的1.15
‑
1.3倍；
[0010]所述凸端的顶部设置有凹槽；
[0011]所述凸端的侧壁设置有盲孔；
[0012]所述盲孔的等效圆直径为所述凸端高度的1
‑
3％；
[0013]所述凸端和所述底端采用螺纹结构进行连接；
[0014]所述凸端和所述底端的连接为过盈配合。
[0015]本技术提供的沉孔塞，通过对沉孔塞的设计，采用过盈配合及凸端侧面设置盲孔的形式，保证了沉孔塞和沉孔可以良好的锁紧，避免溅射过程中法兰圈的磨损，从而保证溅射所得薄膜的性能。同时采用过盈配合的螺纹结构，可以实现沉孔塞高效的装卸，避免沉孔塞的损坏。通过在侧壁设置盲孔，避免了背板变形过程中对沉孔塞的损伤，也有利于沉孔塞的固定。
[0016]本技术中，所述沉孔塞凸端的直径为靶材组件中沉孔直径的1.15
‑
1.3倍，例如可以是1.15倍、1.16倍、1.17倍、1.18倍、1.19倍、1.2倍、1.21倍、1.22倍、1.23倍、1.24倍、1.25倍、1.26倍、1.27倍、1.28倍、1.29倍或1.3倍等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0017]本技术中，所述盲孔的等效圆直径为所述凸端高度的1
‑
3％，例如可以是1％、1.1％、1.2％、1.3％、1.4％、1.5％、1.6％、1.7％、1.8％、1.9％、2％、2.1％、2.2％、2.3％、2.4％、2.5％、2.6％、2.7％、2.8％、2.9％或3％等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0018]作为本技术优选的技术方案，所述凹槽的深度为所述凸端高度的30
‑
35％，例如可以是30％、30.2％、30.4％、30.6％、30.8％、31％、31.2％、31.4％、31.6％、31.8％、32％、32.2％、32.4％、32.6％、32.8％、33％、33.2％、33.4％、33.6％、33.8％、34％、34.2％、34.4％、34.6％、34.8％或35％等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0019]作为本技术优选的技术方案，所述凹槽的等效圆直径为所述凸端直径的0.27
‑
0.3倍，例如可以是0.27倍、0.272倍、0.274倍、0.276倍、0.278倍、0.28倍、0.282倍、0.284倍、0.286倍、0.288倍、0.29倍、0.292倍、0.294倍、0.296倍、0.298倍或0.3倍等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0020]作为本技术优选的技术方案，所述盲孔的深度为所述凸端直径的0.2
‑
0.5倍，例如可以是0.2倍、0.21倍、0.22倍、0.23倍、0.24倍、0.25倍、0.26倍、0.27倍、0.28倍、0.29倍、0.3倍、0.31倍、0.32倍、0.33倍、0.34倍、0.36倍、0.37倍、0.38倍、0.39倍、0.4倍、0.41倍、0.42倍、0.43倍、0.44倍、0.45倍、0.46倍、0.47倍、0.48倍、0.49倍或0.5倍等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0021]作为本技术优选的技术方案，所述凸端和所述底端之间的过渡段为倒角结构。
[0022]本技术中，采用倒角结构进行过度，可以进一步强化沉孔塞和沉孔的锁紧效果。
[0023]作为本技术优选的技术方案，所述倒角结构的倒角为半径R＝0.2
‑
0.4mm的倒角，例如可以是0.2mm、0.21mm、0.22mm、0.23mm、0.24mm、0.25mm、0.26mm、0.27mm、0.28mm、0.29mm、0.3mm、0.31mm、0.32mm、0.33mm、0.34mm、0.35mm、0.36mm、0.37mm、0.38mm、0.39mm或0.4mm等，但不限于所列举的数值，该范围内其他未列举的组合同样适用。
[0024]作为本技术优选的技术方案，所述底端的直径为所述凸端直径的2.5
‑
3倍，例如可以是2.5倍、2.51倍、2.52倍、2.53倍、2.54倍、2.55倍、2.56倍、2.57倍、2.58倍、2.59倍、
2.61倍、2.62倍、2.63倍、2.64倍、2.65本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种靶材组件用沉孔塞，其特征在于，所述靶材组件用沉孔塞为凸型结构，包括凸端和底端；所述沉孔塞凸端的直径为靶材组件中沉孔直径的1.15
‑
1.3倍；所述凸端的顶部设置有凹槽；所述凸端的侧壁设置有盲孔；所述盲孔的等效圆直径为所述凸端高度的1
‑
3％；所述凸端和所述底端采用螺纹结构进行连接；所述凸端和所述底端的连接为过盈配合。2.如权利要求1所述的靶材组件用沉孔塞，其特征在于，所述凹槽的深度为所述凸端高度的30
‑
35％。3.如权利要求1所述的靶材组件用沉孔塞，其特征在于，所述凹槽的等效圆直径为所述凸端直径的0.27
‑
0.3倍。4.如权利要求1所述的靶材组件用沉孔塞，其特征在于，所述盲孔的深度为所述凸端直径的0.2
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【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，边逸军，王学泽，袁锦泽，陈玉蓉，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：新型
国别省市：