基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统技术方案

本发明专利技术提出了一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统，涉及质量检测技术领域，包括以下步骤：步骤一、对涂胶图像进行数据采集，得到原始涂胶图像；步骤二、对原始涂胶图像进行亮度处理得到待检测的涂胶图像；步骤三、建立涂胶检测模型并设置检测参数，通过涂胶检测模型对待检测的涂胶图像进行检测并输出检测结果；步骤四、基于UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果；步骤五、基于统计结果将涂胶图像分为优良涂胶图像或缺陷涂胶图像两类。本发明专利技术操作便捷，节省了人力成本，提高了工作效率，实现了矿用本安型控制器的涂胶的缺陷检测自动化。陷检测自动化。陷检测自动化。

【技术实现步骤摘要】
基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统


[0001]本专利技术涉及质量检测
，具体而言，涉及一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统。

技术介绍

[0002]CCD(Charge Coupled Device)，即电荷耦合器件，它是一种特殊半导体器件，上面有很多一样的感光元件，每个感光元件叫一个像素，在摄像机里充当一个极其重要的角色，起到将光线转换成电信号的作用，类似于人的眼睛。矿用本安型控制器全称为矿用本质安全控制器，而在矿用本安型控制器的生产线中，涂胶是关键的工序环节，涂胶的目的为了将其密封并达到IP68防护等级，关于涂胶的质量直接关系到控制器的密封性和可靠性。
[0003]目前，在矿用本安型控制器的生产线中，涂胶的工序环节常常由人工挤压胶桶涂抹进行作业，导致工作效率低、胶层厚薄不一，多涂少涂、因人而异，造成涂胶杂乱不美观，还占用人力，使得人力成本居高不下，而且涂胶工序工人的劳动强度大、效率低，且直接面对胶体溶剂挥发，影响工人的身体健康。
[0004]基于此，提出一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测系统来解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术的目的在于提供一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统，其能够节省涂胶质量检测成本、提高工作效率。
[0006]本专利技术的实施例是这样实现的：
[0007]第一方面，本申请实施例提供一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其包括以下步骤：
[0008]步骤一、对涂胶图像进行数据采集，得到原始涂胶图像；
[0009]步骤二、对原始涂胶图像进行亮度处理得到待检测的涂胶图像；
[0010]步骤三、建立涂胶检测模型并设置检测参数，通过涂胶检测模型对待检测的涂胶图像进行检测并输出检测结果；
[0011]步骤四、基于UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果；
[0012]步骤五、基于统计结果将涂胶图像分为优良涂胶图像或缺陷涂胶图像两类。
[0013]在本专利技术的一些实施例中，上述对涂胶图像进行数据采集的方法为灰度变换处理。
[0014]在本专利技术的一些实施例中，步骤二中上述对原始涂胶图像进行亮度处理前还包括对原始涂胶图像进行中值滤波处理。
[0015]在本专利技术的一些实施例中，上述亮度处理的方法包括：
[0016]对原始涂胶图像设定不同的光亮度进行对比，进而得到最高清晰度的图像，即作
为待检测的涂胶图像。
[0017]在本专利技术的一些实施例中，步骤三中上述对待检测的涂胶图像进行检测前还包括对待检测的涂胶图像通过Roberts边缘检测获取检测区域，并通过阈值分割法锁定检测区域来对待检测的涂胶图像进行检测。
[0018]在本专利技术的一些实施例中，上述步骤四还包括采用JDBC与上述MySQL数据库连接，并根据实际检测需求采用JAVA语言对上述检测结果进行描述。
[0019]在本专利技术的一些实施例中，上述检测参数包括最大检测范围和缺陷检测精度。
[0020]第二方面，本申请实施例提供一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测系统，其包括:
[0021]图像采集单元，用于对涂胶图像进行数据采集，得到原始涂胶图像；
[0022]图像预处理单元，用于对原始涂胶图像进行亮度处理得到待检测的涂胶图像；
[0023]图像检测单元，用于建立涂胶检测模型并设置检测参数，通过涂胶检测模型对待检测的涂胶图像进行检测并输出检测结果；
[0024]检测结果统计单元，用于基于UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果；
[0025]缺陷识别分类单元，用于基于统计结果将涂胶图像分为优良涂胶图像或缺陷涂胶图像两类。
[0026]第三方面，本申请实施例提供一种电子设备，其包括存储器，用于存储一个或多个程序；
[0027]处理器；
[0028]当上述一个或多个程序被上述处理器执行时，实现如上述第一方面的方法。
[0029]第四方面，本申请实施例提供一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现如上述第一方面的方法。
[0030]相对于现有技术，本专利技术的实施例至少具有如下优点或有益效果：
[0031]本专利技术的实施例提供一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，包括以下步骤：步骤一、对涂胶图像进行数据采集，得到原始涂胶图像；步骤二、对原始涂胶图像进行亮度处理得到待检测的涂胶图像；步骤三、建立涂胶检测模型并设置检测参数，通过涂胶检测模型对待检测的涂胶图像进行检测并输出检测结果；步骤四、基于UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果；步骤五、基于统计结果将涂胶图像分为优良涂胶图像或缺陷涂胶图像两类。
[0032]本专利技术一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法及系统，通过对涂胶图像进行采集并进行亮度处理，得到最清晰的涂胶图像作为待检测图像，再通过建立涂胶检测模型并设置一定的检测参数进行检测，最后利用UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果，通过涂胶图像分类即可区分涂胶的优良品或缺陷品，操作便捷，节省了人力，提高了工作效率，使得产品的漏检率小于0.1％，大大地降低了成本，提升了产品质量，通过采用一键式软件自动运行模式，便捷易操作，实现了矿用本安型控制器的涂胶的缺陷检测自动化。
附图说明
[0033]为了更清楚地说明本专利技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本专利技术的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
[0034]图1为本专利技术实施例1的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法的步骤图；
[0035]图2为本专利技术实施例2的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测系统的示意性结构框图；
[0036]图3为本专利技术实施例3的一种电子设备的示意性结构框图。
[0037]图标：101、存储器；102、处理器；103、通信接口。
具体实施方式
[0038]为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本申请实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0039]因此，以下对在附图中提供的本申请的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本申请的范围，而是仅仅表示本申请的选定实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一、对涂胶图像进行数据采集，得到原始涂胶图像；步骤二、对原始涂胶图像进行亮度处理得到待检测的涂胶图像；步骤三、建立涂胶检测模型并设置检测参数，通过涂胶检测模型对待检测的涂胶图像进行检测并输出检测结果；步骤四、基于UBC大数据建立MySQL数据库，在MySQL数据库中写入检测结果并进行统计得到统计结果；步骤五、基于统计结果将涂胶图像分为优良涂胶图像或缺陷涂胶图像两类。2.如权利要求1所述的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其特征在于，所述对涂胶图像进行数据采集的方法为灰度变换处理。3.如权利要求1所述的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其特征在于，步骤二中所述对原始涂胶图像进行亮度处理前还包括对原始涂胶图像进行中值滤波处理。4.如权利要求1所述的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其特征在于，所述亮度处理的方法包括：对原始涂胶图像设定不同的光亮度进行对比，进而得到最高清晰度的图像，即作为待检测的涂胶图像。5.如权利要求1所述的一种基于CCD的矿用本安型控制器涂胶质量检测方法，其特征在于，步骤三中所述对待检测的涂胶图像进行检测前还包括对待检测的涂胶图像通过Roberts边缘检测获取检测区域，并通过阈值分割法锁定检测区域来对待检测的涂胶图像进行检测。6....

【专利技术属性】
技术研发人员：王建飞，李杰，王国珲，杨峰，郑智炜，李文进，邱继义，
申请(专利权)人：苏州清翼光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：