【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种双通带频率选择表面,其特征在于基片为具有双面金属面的介质基片(4),在双面金属面(1)上刻尺寸相同的外正方环形缝隙槽(2)和中心位置与之重合的内正方环形缝隙槽(3),最后在基片上面围绕每个周期性外正方环形缝隙单元(2)以均匀的间隔设有一系列金属化通孔(5),形成等效于传统金属腔体的基片集成波导腔体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:洪伟,罗国清,蒯振起,
申请(专利权)人:东南大学,
类型:实用新型
国别省市:84[中国|南京]
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