静磁波器件及其原材料制造技术

技术编号:3266513 阅读:153 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种静磁波器件,由通过为R↓[3-x]Ca↓[x]Ma↓[5-2y+x]Zr↓[y]Mb↓[y-x]O↓[12]的磁石榴石单晶薄膜组成,其中R为Y、La、Bi、Gd、Lu和Sc的起码其中之一元素,Ma为Fe、Ga和Al的起码其中之一元素,Fe为必不可少的成分,Mb为Mg和Mn的起码其中一个元素,且满足下列不等式的条件:0≤X≤1,0.1≤Y≤1,且X≤y。(*该技术在2016年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种静磁波器件以及制造这种器件的材料。含Fe的磁石榴石单晶历来都用作静磁波器件的材料。具体地说,Y3Fe5O12(以下简称“YIG”)单晶,其铁磁半幅值(ΔH)小,因而用YIG制造静磁波器件时能使输入信号与输出信号之间的信号差变小,所以YIG历来得到广泛的应用。这种石榴石单晶是用例如液相外延生长法作为外延生长在诸如G3Gd5O12(以下简称“GGG”)之类的衬底上的薄膜制取的。采用YIG单晶的静磁波器件,其工作频率约为2京赫。但静磁波器件用作广播卫星(BS)调谐器的杂波滤波器时,其工作频率要求在数百兆赫至数十万兆赫的范围。在静磁波(MSW)模式下选用静磁体积前进波(MSFVW)模式时,器件的工作频率可用(1)式表示ω=γ(Hex-N·4πMs)(1)其中,ω为频率;γ为回转磁比;Hex为所加的磁场;N为去磁系数;4πMs为饱和磁化强度。采用静磁表面波(MSSW)模式时,器件的工作频率可用(2)式和(3)式表示。ω=γ{Hi(Hi+4πMs)}1/2(2)Hi=Hex-N·4πMs+Ha (3)其中,Hi为内部磁场;Hex为所加的磁场;N为去磁系数;4πMs为饱本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种静磁波器件,由通式为<chemistry-cwu>的磁石组成的元的起码一个元素,且满足以下不等式的条件:0≤x≤1,0.1≤y≤1,且x≤y。2.如权利要求1所述的静磁波器件,其特征在于,所述磁石榴石组成的材料群的一种材料制成的衬底上。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:藤野优
申请(专利权)人:株式会社村田制作所
类型:发明
国别省市:JP[日本]

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