【技术实现步骤摘要】
介观尺度成形极限弯曲试样及制备方法及力学测量方法
[0001]本申请涉及应变测量
,特别涉及介观尺度成形极限弯曲试样及制备方法及力学测量方法。
技术介绍
[0002]随着微电子、微机械行业的发展,薄板微型构件的需求量越来越大,但是由于介观尺度下塑性变形的尺度效应的存在,使得金属薄板的塑性变形能力异于宏观条件,为改进塑性微成形工艺,需要对金属薄板介观尺度下的塑性变形行为进行系统的研究。
[0003]其中,由于弯曲工艺在薄板塑性微成形工艺中的所占比例较大,尤其是微型引线框架的成形过程中,微弯曲工艺更是承担着重要作用。宏观弯曲工艺中,板材上与一个表面发生压缩类变形,另一个表面发生伸长类变形。由于宽板在宽度方向的尺寸较大,宽度方向上的材料会相互限制其向宽度方向发生塑性流动,最终宽板的应变状态为平面应变状态,其厚度方向的横截面与原板材的横截面几乎相同,仍为矩形。而在窄板变形区中,由于其宽度方向上尺寸较小,宽度方向上的材料相互限制变形的能力较差,最终窄板变形区的应变状态为三向应变状态,窄板变形区在厚度方向上的横截面积会变为 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种介观尺度成形极限弯曲试样,其设有宽部夹持部(42),其特征在于,其还设有狭长测试部(41),所述宽部夹持部(42)连接设置在所述狭长测试部(41)的其中一端,在所述狭长测试部(41)的上下表面分别磁控溅射金属镀膜(8),所述金属镀膜(8)为多个介观尺寸的微小圆形,呈阵列式分布,且所述金属镀膜(8)的厚度不超过200nm。2.根据权利要求1所述的介观尺度成形极限弯曲试样,其特征在于,所述金属镀膜(8)呈矩形阵列分布,所述金属镀膜(8)的直径D0为100μm。3.根据权利要求1所述的介观尺度成形极限弯曲试样,其特征在于,所述弯曲试样(4)的厚度(t)不超过0.2mm;当B/t>3时,则B大于0.6mm;当B/t<3时,则B小于0.6mm;当B/t=3时,则B等于0.6mm;其中B为所述狭长测试部(41)的宽度。4.根据权利要求1所述的介观尺度成形极限弯曲试样,其特征在于,所述弯曲试样(4)为纯铜、纯铝、铜合金、铝合金的其中一种,所述金属镀膜(8)为纯钛、纯铜、纯金、银、铝的其中一种;所述金属镀膜(8)与所述弯曲试样(4)的颜色对比鲜明。5.制备权利要求1
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4任一项所述的介观尺度成形极限弯曲试样的方法,其特征在于,其包括以下步骤:(1)制备所述弯曲试样(4),所述弯曲试样(4)的厚度D不超过0.2mm;(2)制备金属镀膜成形板(2),所述金属镀膜成形板(2)为板状结构,其开设有多个介观尺寸的微小几何图形的第一通孔(21),所述第一通孔(21)呈阵列式分布,所述第一通孔(21)与所述金属镀膜(8)的大小及分布相适配;(3)将一对所述金属镀膜成形板(2)紧密覆盖贴合在所述弯曲试样(4)的狭长测试部(41)的上下表面;(4)将所述弯曲试样(4)连同一对所述金属镀膜成形板(2)一起放入磁控溅射设备的磁控溅射腔室内,在位于所述第一通孔(21)的底部的所述狭长测试部(41)的表面磁控溅射所述金属镀膜(8),所述金属镀膜(8)与所述弯曲试样(4)颜色对比鲜明;控制所述金属镀膜(8)的厚度不超过200nm;在所述弯曲试样(4)的狭长测试部(41)的上下表面分别完成磁控溅射后,将所述弯曲试样(4)连同所述金属镀膜成形板(2)一起从所述磁控溅射设备取出;(5)将所述金属镀膜成形板(2)与所述弯曲试样(4)相互分离,获得可进行微观弯曲的介观尺度成形极限弯曲试样。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述步骤(1)采用电火花线切割加工方法制备所述弯曲试样(4),所述弯曲试样(4)制备完成后,对所述弯曲试样(4)的表面进行预处理;所述预处理方法采用电化学腐蚀的方法,使用抛光液去除其表面氧化层,所述抛光液为纯度99.5%的无水酒精、磷酸与蒸馏水按照1:1:2的比例配置。7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述步骤(2)采用激光切割方法制备所述金属镀膜成形板(2),所述金属镀膜成形板(2)的厚度不大于0.1mm,所述第一通孔(21)为圆形通孔,且所述第一通孔(21)的孔径为100μm,呈矩形阵列式分布;在所述第一通孔(21)的孔壁上沿向外倒有第一斜角(211),所述第一斜角(211)的角度α为45
°
,在位于所述第一斜角(211)下部的所述第一通孔(21)的孔壁设有第二斜角(212),且所述第二斜角(212)的角度β小于第一斜角(211)的角度α。8.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述步骤(3)中,使用磁控溅射成形装置将一对所述金属镀膜成形板(2)紧密覆盖贴合在所述弯曲试样(4)的狭长测试部(41)的上下<...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈刚,王瀚,张鹏,朱强,王传杰,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学威海,
类型:发明
国别省市:
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