抗菌膜体构造制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抗菌膜体构造，包括一底层、一结合力改性面、一二氧化硅基层、一有机亲水抗菌层、一二氧化硅保护层、一抗指纹AF/AS层，该有机亲水抗菌层设在该二氧化硅基层上；该二氧化硅保护层设在该有机亲水抗菌层上。该抗菌膜体可达到抗菌、抗指纹及抗污和防水的功能。水的功能。水的功能。

【技术实现步骤摘要】
抗菌膜体构造


[0001]本技术涉及一种抗菌膜体构造，尤其涉及一种抗菌、抗指纹及防水的多层结构。

技术介绍

[0002]TW I636146B“功能性膜层的成膜方法、功能性膜层，及抗菌抗指纹组件”提供了一种成膜方法，利用物理性共镀膜方式于一基材表面形成一层由该第一待镀材料及第二待镀材料共同构成且具有抗菌及抗指纹特性的功能性膜层，该第一待镀材料包含抗菌化合物，该第二待镀材料包含抗指纹化合物。此外，还提供一种可同时具有抗菌性及抗指纹特性的功能性膜层，及一含有该功能性膜层的抗菌抗指纹组件。不过，该功能性膜层并不具有防水功能。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于克服现有技术的不足之处，提供了一种抗菌膜体构造，具备抗菌、抗指纹及防水功能。
[0004]本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：
[0005]一种抗菌膜体构造，包括：一二氧化硅基层；一有机亲水抗菌层，设在该二氧化硅基层上；一二氧化硅保护层，设在该有机亲水抗菌层上。
[0006]进一步，在一底层上设置该二氧化硅基层，且该底层上设有一结合力改性面。该二氧化硅基层设在该结合力改性面。例如，该底层通过等离子体、射频或离子源进行表面改性而形成该结合力改性面。
[0007]进一步，该二氧化硅基层的厚度为5nm～20nm。
[0008]进一步，该有机亲水抗菌层厚度为20nm～40nm。例如，将一抗菌配方与该二氧化硅基层反应，生成该有机亲水抗菌层，其中，反应温度为60℃～150℃，在真空度10
‑5～10
‑3大气压力之下。
[0009]进一步，再将该有机亲水抗菌层利用等离子体技术进行清洁处理。
[0010]进一步，该二氧化硅保护层的厚度为2nm～5nm。
[0011]进一步，该二氧化硅保护层上设有一抗指纹AF/AS层。
[0012]进一步，该二氧化硅保护层局部的散布在该有机亲水抗菌层上，并界定出一亲水区域及一疏水区域；该有机亲水抗菌层上具有该二氧化硅保护层的部分形成该疏水区域，该有机亲水抗菌层上没有该二氧化硅保护层的部分形成该亲水区域。
[0013]进一步，该有机亲水抗菌层包括有机锌。
[0014]进一步，该二氧化硅基层呈三维结构，例如为不规则的波浪状。
[0015]进一步，该底层为PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、PI(聚酰亚胺)等塑料、金属、玻璃或陶瓷材质。
[0016]本技术方案与
技术介绍
相比，它具有如下优点：
[0017]1.本技术的二氧化硅保护层局部地散布于有机亲水抗菌层，并产生亲水区域及疏水区域，该疏水区域可以有效避免该有机亲水抗菌层受到外界的水、清洁剂、或刮除等方式的影响而脱落，而该亲水区域因为没有沉积到该二氧化硅保护层，当外界的物品或皮肤接触到该亲水区域，将会透过毛细现象而接触到该有机亲水抗菌层，进而达到杀菌灭菌的效果。
[0018]2.本技术设置该二氧化硅基层的目的在于便于结合该有机亲水抗菌层。
[0019]3.现有技术一般采用纳米银作为抗菌配方，而本技术的有机亲水抗菌层使用具有亲肤性的天然抗菌配方。
[0020]4.本技术的有机亲水抗菌层中含有有机锌，通过带正电的锌离子吸引带负电的细菌等微生物，锌离子破坏细胞膜，使细菌丧失活性甚至死亡，从而实现抗菌目的。
附图说明
[0021]图1为本实施例的抗菌膜体构造的制造流程图。
[0022]图2为本实施例的抗菌膜体构造的立体外观示意图。
[0023]图3为本实施例的抗菌膜体构造的二氧化硅保护层的俯视图。
[0024]图4为本实施例的抗菌膜体构造的有机亲水抗菌层吸引细菌的示意图。
[0025]图5为本实施例的抗菌膜体构造的有机亲水抗菌层破坏细菌的示意图。
[0026]图6为水滴在本实施例的抗菌膜体构造的抗指纹AF/AS层上的示意图。
[0027]附图标记：
[0028]1:底层，2:结合力改性面，3:二氧化硅基层，4:有机亲水抗菌层，41:有机锌，5:二氧化硅保护层，51:亲水区域，52:疏水区域，6:抗指纹AF/AS层，7:细胞，8:水滴，θ:角度。
具体实施方式
[0029]下面结合附图和实施例对本技术作进一步说明。
[0030]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“横”、“竖”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系是基于附图中的立体图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
[0031]请参阅图1及图2所示，为本实施例的一种抗菌膜体构造，包括：一底层1、一结合力改性面2、一二氧化硅基层3、一有机亲水抗菌层4、一二氧化硅保护层5及一抗指纹AF/AS层6。该有机亲水抗菌层4沉积在该二氧化硅基层3上；该二氧化硅保护层5沉积在该有机亲水抗菌层4上。
[0032]该底层1可采用PET、PI等塑料、金属基板、玻璃或陶瓷等材质，且该底层1需耐70℃以上温度，将该底层1通过等离子体技术进行表面改性处理，使该底层1原先的光滑表面变为多孔隙的表面，形成该结合力改性面2，使该结合力改性面2可以具有较小的水滴接触角。再以蒸镀等物理性镀膜方式、化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)任一种方式，使二氧化硅沉积于该结合力改性面2，生成该二氧化硅基层3，该二氧化硅基层3的厚度为5nm～ 20nm，且该二氧化硅基层3呈三维结构。
[0033]请再进一步参考图2，可以很清楚地看到，所沉积的该二氧化硅基层3呈现不规则的波浪状，设置该二氧化硅基层3的目的在于方便结合后面的该有机亲水抗菌层4，原因在于该底层 1的材料不一定能够结合上该有机亲水抗菌层4。
[0034]随后，将一抗菌配方与该二氧化硅基层3反应，反应温度为60℃～150℃，在真空度10
‑5～ 10
‑3大气压力之下生成该有机亲水抗菌层4，其中，该抗菌配方主要为针对真菌类的抗菌防霉剂及针对革兰氏阴性菌的抗菌防霉剂两种类型，抗真菌类的抗菌防霉剂例如由辛丁酯磺酸钠为主要成份，其他次要成分包含有溴、硝基丙二醇、氯、甲基、氢异噻唑及酮，用于棉纺特别有效，适用水性及油性材质。而针对革兰氏阴性菌的抗菌防霉剂成分例如由二甘醇及异十三烷醇乙氧基化物所组成，为水性，用于抗革兰氏阴性菌。该有机亲水抗菌层4还可包括有机锌。且该有机亲水抗菌层4厚度为20nm～40nm。
[0035]接着将该有机亲水抗菌层4以等离子体技术进行表面清洁处理，目的为去除该有机亲水抗菌层4表面的油脂或脏污，再以蒸镀等物理性镀膜方式、化学气相沉积(CVD)或物理气相沉积(PVD)等技术将二氧化硅沉积在该有机亲水抗菌层4，形成该二氧化硅保护层5，该二氧化硅保护层5的厚度为2nm～5nm，且该二氧化硅保护层5呈一维结构。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗菌膜体构造，其特征在于：包括：一二氧化硅基层；一有机亲水抗菌层，设在该二氧化硅基层上；一二氧化硅保护层，设在该有机亲水抗菌层上。2.根据权利要求1所述的抗菌膜体构造，其特征在于：在一底层上设置该二氧化硅基层，且该底层上设有一结合力改性面。3.根据权利要求1或2所述的抗菌膜体构造，其特征在于：该二氧化硅基层的厚度为5nm～20nm。4.根据权利要求1所述的抗菌膜体构造，其特征在于：该有机亲水抗菌层的厚度为20nm～40nm。5.根据权利要求1所述的抗菌膜体构造，其特征在于：该二氧化硅保护层的厚...

【专利技术属性】
技术研发人员：李锦旺，周宗平，王一峰，
申请(专利权)人：煜炀烯厦门新材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：