壳体及其制备方法、电子设备技术

本申请公开了一种壳体及其制备方法、电子设备，包括：基板，所述基板包括中心区和包围所述中心区的边缘区；通过遮挡板遮挡部分所述基板以使膜料溅射至所述边缘区上的镀膜层，所述镀膜层的宽度为0

【技术实现步骤摘要】
壳体及其制备方法、电子设备


[0001]本申请涉及电子设备
，尤其是涉及一种壳体及其制备方法、电子设备。

技术介绍

[0002]PVD(物理气相沉积)镀膜普遍应用于电子设备表面改性，通过PVD镀膜可以改变产品表面的光学性能(如增加光的透过率)、增加表面硬度、改变表面的外观颜色等；其中改变表面的外观颜色即颜色膜的应用非常广泛，颜色膜通常与油墨搭配，使产品外观更多样，更富有美感；按照厚度均匀性可将颜色膜划分为纯色膜和渐变颜色膜，渐变颜色膜近来应用广泛，如各大手机厂商的旗舰手机产品，其后盖都有渐变颜色膜的应用，但渐变形式单一，产品外观多样性有待改进。

技术实现思路

[0003]本申请提出一种壳体，以增加渐变颜色膜的渐变形式，提升壳体的广泛应用。
[0004]本申请提出一种上述壳体的制备方法，以在边缘区向中心区方向上形成厚度逐渐减小的渐变颜色膜，增加渐变颜色膜的渐变种类，实现在0～30mm范围任意宽度表面精确控制膜层的渐变程度。
[0005]本申请还提出一种具有上述壳体的电子设备。
[0006]根据本申请实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种壳体，其特征在于，包括：基板，所述基板包括中心区和包围所述中心区的边缘区；通过遮挡板遮挡部分所述基板以使膜料溅射至所述边缘区上的镀膜层，所述镀膜层的宽度为0-30mm，所述镀膜层的内边缘和外边缘分别为膜内圈和膜外圈，所述膜外圈的厚度大于所述膜内圈的厚度，所述镀膜层从所述边缘区至所述中心区方向上厚度渐变以使颜色渐变。2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述镀膜层沿厚度方向包括依次层叠设置的打底层、第一保护层、金属层和第二保护层，所述打底层设在所述基板上。3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述膜外圈的厚度为30-300nm，所述膜内圈的厚度为0-50nm。4.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述膜外圈的亮度大于所述膜内圈的亮度，所述镀膜层在所述膜外圈与所述膜内圈之间亮度渐变。5.一种壳体的制备方法，其特征在于，包括：提供工作台，所述工作台可转动地设于镀膜腔体内；提供基板，所述基板包括中心区和包围所述中心区的边缘区，所述基板设在所述工作台上；提供垫块，所述垫块贴合于所述中心区；提供遮挡板，所述遮挡板设于所述垫块远离所述中心区的一侧；提供镀膜源，所述镀膜源用于朝向所述边缘区溅射膜料以使所述膜料沉积在所述边缘区上形成镀膜层，其中，形成的所述镀膜层的宽度为0-30mm，所述镀膜层的内边缘和外边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢湘武，田振煌，
申请(专利权)人：OPPO广东移动通信有限公司，
类型：发明
国别省市：