一种超薄ZIF-67纳米片及其制备方法技术

本发明专利技术涉及超薄二维修饰金属有机框架材料技术领域，尤其是涉及一种超薄ZIF

【技术实现步骤摘要】
一种超薄ZIF
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67纳米片及其制备方法


[0001]本专利技术涉及超薄二维修饰金属有机框架材料
，尤其是涉及一种超薄ZIF
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67纳米片及其制备方法。

技术介绍

[0002]ZIF
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67是由地球中储量丰富且无毒的碳、钴、氮、氢及氧元素组成，是一种环境友好的正十二面体结构的多孔材料，其具有分布均匀的两种孔洞(孔径约为0.34nm、1.1nm)，并且具有超大的比表面积(约1500m2/g)。具有良好的催化和气体分离性能。此外，ZIF
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67纳米片还是n型窄带隙半导体，禁带宽度为1.36
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1.6eV，具有良好的载流子迁移率、光学透过性能等。然而，目前关于ZIF
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67的制备还主要集中在三维的较大尺寸的范围(200nm
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2μm)，尽管可以通过喷涂等方法制成均匀的薄膜，但其厚度依然超过100nm，且杂质颗粒较多，这都限制了材料的应用范围。因此采用室温方法合成的超薄二维ZIF
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67纳米片具有重要意义本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种超薄ZIF
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67纳米片的室温制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将钴盐溶于无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂中，混匀后得到钴盐溶液；(2)将二甲基咪唑溶于无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂中，混匀后得到二甲基咪唑溶液；(3)将步骤(1)得到的钴盐溶液加入到步骤(2)得到的二甲基咪唑溶液中反应，反应后静置老化，后处理得到超薄ZIF
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67纳米片；整个过程在室温下进行。2.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF
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67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述钴盐选自六水合硝酸钴或六水合氯化钴中的一种或几种。3.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF
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67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂中无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的体积比为1：1
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5；优选地，无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂中无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的体积比为1：1。4.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF
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67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(1)中，钴盐与无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂的用量比为3.5
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4.5mmol：100
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140ml；优选地，钴盐与无水乙醇和N,N
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二甲基甲酰胺的混合溶剂的用量比为4mmol：120ml。5.根据权利要求1所述的一种超薄ZIF
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67纳米片的室温制备方法，其特征在于，步骤(2)中，无水乙醇和N,N

【专利技术属性】
技术研发人员：芮一川，金作明，徐雨田，石江珊，王晓洁，
申请(专利权)人：上海工程技术大学，
类型：发明
国别省市：