一种抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面及其制备方法技术

技术编号:32644772 阅读:28 留言:0更新日期:2022-03-12 18:24
本发明专利技术公开了一种抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面及其制备方法,该制备方法包括以下步骤:(1)硅基倒四棱锥微结构的制备;(2)纳米二氧化硅表面的制备;(3)铠甲化超疏水表面的制备;(4)铠甲化双亲表面的制备。本发明专利技术通过向纳米级超疏水表面引入连续微结构的设计,将导热、表面化学、固

【技术实现步骤摘要】
一种抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面及其制备方法


[0001]本专利技术属于超疏水材料
,具体涉及到一种抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面及其制备方法。

技术介绍

[0002]超疏水材料具有独特的固

液界面性质,液滴在其表面呈现出极低的粘附力(接触角>150
°
,滚动角<10
°
),在排斥液体的同时亲和气体,使液体无法润湿表面却可保持气体通透,具有自清洁、保持干燥、减阻等功能,在工业、国防、生物医学等领域具有广阔的应用前景。然而在用于户外防污、高效集水器件、流体管道、冷凝器以及气体交换膜等具有高湿度,甚至是高过冷度的环境中时,超疏水材料的表面或结构内部会不可避免的发生气

液相变冷凝。理论上,超疏水材料实现超疏水性能往往需要借助粗糙结构和低表面能通过截留空气并托起液滴的方式创造固



气复合界面呈现Cassise

Baxter态,从而达到超疏水效果。所以超疏水材料表面的冷凝物如果不能及时排除,同时结构内部的空气逐渐被本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)硅基倒四棱锥微结构的制备采用光刻和湿法刻蚀于基底上制备硅基倒四棱锥微结构;(2)纳米二氧化硅表面的制备将步骤(1)制得的基底放置于蜡烛火焰上20~40s后,与TEOS和浓氨水共同置于真空环境下,静置30~40h后,取出基底煅烧并保温后冷却至室温,制得纳米二氧化硅表面;(3)铠甲化超疏水表面的制备将钠米二氧化硅表面平整后清洁,再与全氟十二烷基三氯硅烷共同真空干燥,制得铠甲化超疏水表面;(4)铠甲化双亲表面的制备使用锐器对铠甲化超疏水表面来回刮擦3~6次,即可制得铠甲化双亲表面。2.如权利要求1所述的抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面的制备方法,其特征在于,所述基底包括硅片、玻璃、金属或合金,所述锐器包括刀片、螺丝刀或刮刀。3.如权利要求1所述的抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面的制备方法,其特征在于,所述光刻包括以下步骤:使用等离子体处理基底后烤片,以3000~4000rpm的速度旋涂光刻胶并依次进行前烘、曝光、显影、后烘、刻蚀以及去胶。4.如权利要求1所述的抗冷凝失效的铠甲化超疏水表面的制备方法,其特征在于,...

【专利技术属性】
技术研发人员:王德辉章伟邓旭周昱
申请(专利权)人:电子科技大学长三角研究院湖州重庆前沿新材料技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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