支撑件、振动隔离系统、光刻设备、物体测量设备、器件制造方法技术方案

本发明专利技术提供了一种支撑件(1)，包括：第一端部(2)和第二端部(3)，其中第二端部(3)在支撑件的纵向方向上位于与第一端部(2)相反的一侧上；线圈弹簧(4)，被布置在第一端部(2)和第二端部(3)之间，该线圈弹簧(4)包括：第一螺旋构件(5)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸；以及第二螺旋构件(6)，在支撑件(1)的圆周方向上在第一端部(2)和第二端部(3)之间延伸，其中线圈弹簧的第一螺旋构件(5)和线圈弹簧(4)的第二螺旋构件(6)相对于彼此是可移动的，其中支撑件(1)还包括被附接到第一螺旋构件(5)的阻尼器装置(20)。被附接到第一螺旋构件(5)的阻尼器装置(20)。被附接到第一螺旋构件(5)的阻尼器装置(20)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】支撑件、振动隔离系统、光刻设备、物体测量设备、器件制造方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年8月5日提交的欧洲专利申请19190011.7和于2019年12月16日提交的欧洲专利申请19216580.1的优先权，并且其通过引用被整体并入本文中。


[0003]本专利技术涉及系统、支撑件、振动隔离系统、光刻设备、物体测量设备、器件制造方法。

技术介绍

[0004]光刻设备是被构造为将所需图案施加到衬底上的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造中。例如，光刻设备可以将图案形成装置(例如，掩模)的图案(也经常称为“设计布局”或“设计”)投射到被设置在衬底(例如，晶片)上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。物体测量设备例如适用于测量和/或检查已被施加到物体(例如到衬底，例如到晶片)上的图案，和/或用于检查掩模。
[0005]随着半导体制造工艺的不断进步，电路元件的尺寸不断减小，而每个器件的功能元件(诸如晶体管)的数量在过去几十年内一直在稳步增加，遵循通常称为“摩尔定律”的趋势。为了跟上摩尔定律本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.支撑件，包括：
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第一端部和第二端部，其中所述第二端部在所述支撑件的纵向方向上位于与所述第一端部相反的一侧上，
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线圈弹簧，被布置在所述第一端部与所述第二端部之间，所述线圈弹簧包括：
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第一螺旋构件，在所述支撑件的圆周方向上在所述第一端部与所述第二端部之间延伸，以及
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第二螺旋构件，在所述支撑件的圆周方向上在所述第一端部与所述第二端部之间延伸，其中所述线圈弹簧的所述第一螺旋构件和所述线圈弹簧的所述第二螺旋构件相对于彼此是可移动的，其中所述支撑件还包括阻尼器装置，所述阻尼器装置被附接到所述第一螺旋构件。2.根据权利要求1所述的支撑件，其中所述阻尼器装置被配置为对所述第一螺旋构件相对于所述第一端部、所述第二端部和/或所述第二螺旋构件中的至少一者的移动进行阻尼。3.根据前述权利要求中任一项所述的支撑件，其中所述线圈弹簧的所述第一螺旋构件和所述线圈弹簧的所述第二螺旋构件在所述支撑件的所述纵向方向上相对于彼此是可移动的。4.根据前述权利要求中任一项所述的支撑件，其中所述第一螺旋构件具有包括腹点的振动模式形状，并且其中所述阻尼器装置在所述腹点的位置处被附接到所述第一螺旋构件。5.根据前述权利要求中任一项所述的支撑件，其中所述线圈弹簧包括不与所述阻尼器装置接合的至少一个自由螺旋构件，所述自由螺旋构件是所述第二螺旋构件和/或不同于所述第一螺旋构件或所述第二螺旋构件的另外螺旋构件。6.根据前述权利要求中任一项所述的支撑件，其中所述阻尼器装置包括第一阻尼器主体，所述第一阻尼器主体包括具有减振特性的材料，其中所述第一阻尼器主体可选地具有第一连接器表面，所述第一连接器表面被连接到所述第一螺旋构件。7.根据权利要求6所述的支撑件，其中所述第一阻尼器主体还包括第二连接器表面，所述第二连接器表面被连接到所述第二螺旋构件。8.根据权利要求7所述的支撑件，其中所述第一螺旋构件具有与振动频率相关联的振动模式形状，所述振动模式形状包括腹点，并且其中所述第二螺旋构件具有与所述振动频率相关联的振动模式形状，所述第二螺旋构件的振动模式形状包括节点，其中所述第一连接器表面在所述腹点的位置处被附接到所述第一螺旋构件，并且所述第二连接器表面在所述节点的位置处被附接到所述第二螺旋构件。9.根据权利要求6所述的支撑件，其中所述阻尼器...

【专利技术属性】
技术研发人员：J，
申请(专利权)人：ASML荷兰有限公司，
类型：发明
国别省市：