含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质制造技术

本发明专利技术为由下述式(1)表示的含氟醚化合物。R1‑

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂及磁记录介质


[0001]本专利技术涉及适合于磁记录介质的润滑剂用途的含氟醚化合物、包含其的磁记录介质用润滑剂及磁记录介质。
[0002]本申请基于2019年7月31日在日本申请的特愿2019
‑
141290号来主张优先权，将其内容援用到本文中。

技术介绍

[0003]为了提高磁记录再生装置的记录密度，进行了适于高记录密度的磁记录介质的开发。
[0004]以往，作为磁记录介质，有在基板上形成记录层、在记录层上形成碳等的保护层而得到的磁记录介质。保护层对记录层中所记录的信息进行保护，并且提高磁头的滑动性。但是，仅通过在记录层上设置保护层，不能充分获得磁记录介质的耐久性。因此，一般而言，在保护层的表面涂布润滑剂而形成润滑层。
[0005]作为在形成磁记录介质的润滑层时使用的润滑剂，例如提出了一种含有下述化合物的润滑剂，所述化合物在具有包含CF2的重复结构的氟系聚合物的末端具有羟基等极性基团。
[0006]例如，在专利文献1中，公开了在一个末端具有烷氧基、在另一个末端具有羟基的氟聚醚化合物。另外，在专利文献2中，公开了在两个末端部分配置有具有多个羟基、且该羟基间的最短距离相距3个原子以上的取代基的化合物。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：国际公开第2015/199037号
[0010]专利文献2：日本专利第4632144号公报

技术实现思路

[0011]专利技术所要解决的课题
[0012]在磁记录再生装置中，要求更进一步减小磁头的上浮量。因此，需要使磁记录介质中的润滑层的厚度更薄。
[0013]但是，一般而言，若减薄润滑层的厚度，则有润滑层的被覆性降低、磁记录介质的化学物质耐性及耐磨损性降低的倾向。
[0014]本专利技术是鉴于上述情况而提出的，其课题是提供可以适合用作磁记录介质用润滑剂的材料的含氟醚化合物，所述含氟醚化合物能够形成即使厚度薄也具有优异的化学物质耐性及耐磨损性的润滑层。
[0015]另外，本专利技术的课题是提供包含本专利技术的含氟醚化合物的磁记录介质用润滑剂。
[0016]另外，本专利技术的课题是提供具有包含本专利技术的含氟醚化合物的润滑层的磁记录介质，所述磁记录介质具有优异的可靠性及耐久性。
[0017]用于解决课题的手段
[0018]本申请的专利技术人为了解决上述课题而反复进行了深入研究。
[0019]其结果是，发现采用具有全氟聚醚链的一个末端为碳原子数1～10的烷氧基、另一个末端为
‑
OCH2CH(OH)CH2O(CH2)
m
OH(式中的m为2～4的整数。)的特定结构的含氟醚化合物即可，从而想到了本专利技术。
[0020]即，本专利技术涉及以下的事项。
[0021]本专利技术的第一方式的化合物为以下的化合物。
[0022][1]一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示。
[0023]R1‑
CH2‑
R2‑
CH2‑
R3ꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0024](式(1)中，R1为碳原子数1～10的烷氧基，R2为全氟聚醚链，R3为
‑
OCH2CH(OH)CH2O(CH2)
m
OH(式中的m为2～4的整数。)。)
[0025]本专利技术的第一方式的化合物优选包含下述的[2]～[4]中记载的特征。下述特征也优选将2个以上相互组合。
[0026][2]根据[1]所述的含氟醚化合物，其特征在于，上述式(1)中的R2由下述式(2)～(4)中的任一者表示。
[0027][0028](式(2)中，p表示1～30，q表示0～30。)
[0029](式(3)中，r表示1～30。)
[0030](式(4)中，s表示1～20。)
[0031][3]根据[1]所述的含氟醚化合物，其特征在于，其为由下述式(A)～(F)中的任一者表示的化合物。
[0032][0033](式(A)中，p表示1～30，q表示0～30。)
[0034](式(B)中，r表示1～30。)
[0035](式(C)中，s表示1～20。)
[0036](式(D)中，p表示1～30，q表示0～30。)
[0037](式(E)中，p表示1～30，q表示0～30。)
[0038](式(F)中，p表示1～30，q表示0～30。)
[0039][4]根据[1]～[3]中任一项所述的含氟醚化合物，其数均分子量在500～10000的范围内。
[0040]本专利技术的第二方式为以下的磁记录介质用润滑剂。
[0041][5]一种磁记录介质用润滑剂，其特征在于，包含[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物。
[0042]本专利技术的第三方式为以下的磁记录介质。
[0043][6]一种磁记录介质，其特征在于，在基板上至少依次设置有磁性层、保护层、和润滑层，上述润滑层包含[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物。
[0044][7]根据[6]所述的磁记录介质，其中，上述润滑层的平均膜厚为0.5nm～3nm。
[0045]专利技术效果
[0046]本专利技术的含氟醚化合物适合作为磁记录介质用润滑剂的材料。
[0047]本专利技术的磁记录介质用润滑剂由于包含本专利技术的含氟醚化合物，因此能够形成即使厚度薄也可获得优异的化学物质耐性及耐磨损性的润滑层。
[0048]本专利技术的磁记录介质由于设置有具有优异的化学物质耐性及耐磨损性的润滑层，因此具有优异的可靠性及耐久性。
附图说明
[0049][图1]为示出本专利技术的磁记录介质的一实施方式的优选例的概略截面图。
具体实施方式
[0050]以下，对本专利技术的含氟醚化合物、磁记录介质用润滑剂(以下，有时简记为“润滑剂”。)及磁记录介质进行详细说明。需要说明的是，本专利技术不仅仅限定于以下所示的实施方式。
[0051]本实施方式是为了更好地理解专利技术的主旨而具体说明的，只要没有特别指定，则不对本专利技术进行限定。在不脱离本专利技术的主旨的范围内，可以对数值、顺序、时间、比率、材料、量、构成等进行变更、附加、省略、替换等。
[0052][含氟醚化合物][0053]本实施方式的含氟醚化合物由下述式(1)表示。
[0054]R1‑
CH2‑
R2‑
CH2‑
R3ꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0055](式(1)中，R1为碳原子数1～10的烷氧基，R2为全氟聚醚链，R3为
‑
OCH2CH(OH)CH2O(CH2)
m
OH(式中的m为2～4的整数。)。)
[0056]此处，对在使用包含本实施方式的含氟醚化合物的润滑剂而在磁记录介质的保护层上形成润滑层的情况下、即使厚度薄也可获得优异的化学物质耐性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种含氟醚化合物，其特征在于，由下述式(1)表示，R1‑
CH2‑
R2‑
CH2‑
R3ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)式(1)中，R1为碳原子数1～10的烷氧基，R2为全氟聚醚链，R3为
‑
OCH2CH(OH)CH2O(CH2)
m
OH，式中的m为2～4的整数。2.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述式(1)中的R2由下述式(2)～(4)中的任一者表示，式(2)中，p表示1～30，q表示0～30；式(3)中，r表示1～30；式(4)中，s表示1～20。3.根据权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，其为由下述式(A)～(F)中的任一者表示...

【专利技术属性】
技术研发人员：福本直也，柳生大辅，加藤刚，室伏克己，
申请(专利权)人：昭和电工株式会社，
类型：发明
国别省市：