一种适用于磁瓦的智能清洁机制造技术

本实用新型专利技术提供了一种适用于磁瓦的智能清洁机，包括主体框架、超声清洗部分、分离定位机构部分、轮转烘干机构部分、辅助采集机构部分和智能控制部分；主体框架包括清洗区框架和干燥区框架；清洗区框架包括底座一和基础支架一；底座一包括长方体中空容器一；基础支架一设置于长方体中空容器一的上底板上；基础支架一包括支柱一和环形载板一；支柱一的下端设置于长方体中空容器一上；环形载板一设置于支柱一的上端；干燥区框架包括底座二和基础支架二。可实现对磁瓦的智能清洁与干燥，通过优化工作流程，明显降低劳动强度和生产成本，显著提高工作效率。提高工作效率。提高工作效率。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于磁瓦的智能清洁机


[0001]本技术涉及磁瓦领域，尤其涉及一种适用于磁瓦的智能清洁机。

技术介绍

[0002]随着永磁材料的迅猛发展,永磁材料逐渐进入现代工业生产的各个领域。磁瓦常用作永磁电机的励磁，是将锶铁氧体作为原料经过搅拌、压模、烧制、打磨、测量、筛选、充磁和复检包装等工艺流程后，制成的瓦片状的磁体。
[0003]在上述工艺流程中，需要多次对磁瓦做清洁工作。现有技术中，大多采用人工装卸和风机吹干，劳动强度大，操作繁琐，清洁效率低，严重影响了磁瓦的生产进度。

技术实现思路

[0004]本技术提出了一种适用于磁瓦的智能清洁机，解决了磁瓦生产的清洁流程中存在劳动强度大、操作繁琐和效率低等问题。
[0005]为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
[0006]一种适用于磁瓦的智能清洁机，包括主体框架、超声清洗部分、分离定位机构部分、轮转烘干机构部分、辅助采集机构部分和智能控制部分。
[0007]所述主体框架包括清洗区框架和干燥区框架。
[0008]所述清洗区框架包括底座一和基础支本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于磁瓦的智能清洁机，其特征在于：包括主体框架、超声清洗部分、分离定位机构部分、轮转烘干机构部分、辅助采集机构部分和智能控制部分；所述主体框架包括清洗区框架和干燥区框架；所述清洗区框架包括底座一和基础支架一；所述干燥区框架位于清洗区框架的右侧；所述超声清洗部分包括清洗机构和自动卸料机构；所述自动卸料机构包括水平动力区一、竖直动力区一、辅助篮区和衔接斗区；所述水平动力区一包括伺服电机一、导轨一和承重板一；所述伺服电机一和导轨一设置于环形载板一上；所述导轨一上设置活动滑块一；所述伺服电机一通过减速齿轮箱和卷轴绳链连接于活动滑块一上；所述承重板一通过“回”字形连接架设置于活动滑块一上；所述承重板一为“U”形板一；“U”形板一上设置圆形通孔一；所述竖直动力区一包括推杆电机一、连接板一和伺服电机二；所述推杆电机一设置于承重板一上，推杆电机一的活动端穿过圆形通孔一后设置于连接板一上；所述伺服电机二设置于连接板一上，连接板一上设置圆形销孔，伺服电机二的转轴上设置卷轴二；所述辅助篮区包括长方形容器一和闸板一；所述衔接斗区包括梯形槽和废液暂存池；所述分离定位机构部分包括振动送料盘装置和链式传送带装置一；所述轮转烘干机构部分包括抓取区和烘干区；所述烘干区包括烘干箱、链式传送带装置二、热风机、除湿机、伺服电机三和活动闸。2.根据权利要求1所述一种适用于磁瓦的智能清洁机，其特征在于：所述清洗区框架包括底座一和基础支架一；所述底座一包括长方体中空容器一；所述基础支架一设置于长方体中空容器一的上底板上；所述基础支架一包括支柱一和环形载板一；所述支柱一的下端设置于长方体中空容器一上；所述环形载板一设置于支柱一的上端；所述干燥区框架包括底座二和基础支架二；所述底座二包括长方体中空容器二；所述基础支架二设置于长方体中空容器二的上底板上；所述基础支架二包括支柱二和环形载...

【专利技术属性】
技术研发人员：王瑞，韩彦林，唐春福，
申请(专利权)人：宣城市泰力磁业有限公司，
类型：新型
国别省市：