【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶清洗液生产设备
[0001]本申请涉及光刻胶清洗液生产
，具体公开了一种光刻胶清洗液生产设备。
技术介绍
[0002]光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶剂3种主要成分组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。光刻胶按其形成的图像分类有正性、负性两大类。在光刻胶工艺过程中，涂层曝光、显影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下来，该涂层材料为正性光刻胶。如果曝光部分被保留下来，而未曝光被溶解，该涂层材料为负性光刻胶。按曝光光源和辐射源的不同，又分为紫外光刻胶、深紫外光刻胶、X
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射线胶、电子束胶、离子束胶等。光刻胶主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。
[0003]在半导体生...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶清洗液生产设备，其特征在于：包括生产罐，生产罐一侧连通有粉末进料管以及液体进料管，生产罐内设有输液泵以及与输液泵连通且用于提供动力的水轮组件，水轮组件一侧同轴连接有用于控制粉末进料管进料的粉末间隙给料组件，水轮组件另一侧同轴连接有用于处理结块的研磨组件，输液泵与水轮组件之间设有功能管，功能管的一侧设有用于连通间歇给料组件与研磨组件的混合筒，混合筒的一侧与水轮组件连通，功能管与混合筒之间贯穿转动设有若干传动轴，传动轴位于功能管内一端均布固接有若干拨板，传动轴位于混合筒内一端均设有扰流扇。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶清洗液生产设备，其特征在于，所述水轮机构包括水轮壳以及设置在水轮壳内的冲击式水轮，冲击式水轮中心同轴连接了一个完全贯穿水轮壳的功能轴，间歇给料组件以及研磨组件均通过功能轴与水轮组件同轴连接。3.根据权利要求2所述的一种光刻胶清洗液生产设备，其...
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋丽君，张雷，
申请(专利权)人：势润化学科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：
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