形成图案化涂层的涂覆方法和系统技术方案

公开了一种用颗粒涂料组合物涂覆基底的方法，该方法形成具有沿至少一个主要尺寸变化的受控的、不均匀表面特性分布的涂覆基底。将该基底定位在纹理化模板上。通过至少一个轨道施加装置在平行于表面的平面中相对于该表面上的点在多个方向上以轨道方式移动，将有效量的该颗粒涂料组合物磨光到该基底的表面上，同时在该涂覆该基底期间改变至少一个过程变量。可在涂覆期间改变的过程变量包括施加时间、施加压力、涂覆温度、纹理化模板的轮廓、轨道速度、幅材速度和颗粒涂料组合物。幅材速度和颗粒涂料组合物。幅材速度和颗粒涂料组合物。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】形成图案化涂层的涂覆方法和系统
[0001]专利技术背景


[0002]本专利技术涉及涂覆基底以产生具有由不均匀表面特性分布表征的表面的涂覆制品的方法。

技术介绍

[0003]一般来讲，用于将薄涂覆层施加在基底上的常规涂覆方法集中于提供具有尽可能均匀且无缺陷涂覆表面的涂覆制品，使得涂覆基底的表面特性尽可能均匀。现有技术中已公开了多种薄涂覆技术，包括溅射涂覆、物理气相沉积、熔融挤塑、溶剂沉积和高能量磨光。这些技术在需要高度专业化装备或涉及蒸发可能是污染源的挥发性有机溶剂(VOC)方面具有缺点。作为另外一种选择，这些技术可能需要输入大量能量。此外，这些技术中的许多技术可以不令人满意的方式改变待涂覆的材料的形态。
[0004]然而，随着更可持续地使用世界资源的出现，已确定需要具有不均匀、受控表面特性分布的涂覆材料。另外，挥发性溶剂的消除正驱动对更绿色涂覆技术的需要。

技术实现思路

[0005]提供了一种用包含颗粒的干燥组合物涂覆基底的方法，该方法产生具有限定的不均匀表面特性分布的涂覆基底。
[0006]在第一实施本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用干燥颗粒涂料组合物形成涂覆基底的图案化涂覆方法，所述方法包括：将基底定位在具有表面轮廓的纹理化模板上；将所述颗粒涂料组合物分配到所述基底的表面上或分配到附接到轨道施加头的施加垫上；通过所述轨道施加头在平行于表面的平面中相对于所述表面上的点在多个方向上以轨道方式移动，将有效量的所述颗粒涂料组合物磨光到所述基底的所述表面上；以及沿所涂覆膜的至少主要尺寸改变所述方法的至少一个过程变量以形成不均匀表面特性分布，其中所述至少一个过程变量选自施加时间、施加压力、涂覆温度、工作表面的轮廓、轨道速度、轨道路径的长度、幅材速度和所述颗粒涂料组合物。2.一种用干燥颗粒涂料组合物涂覆基底以形成涂覆基底的方法，所述涂覆基底沿所涂覆基底的至少一个主要尺寸具有受控的、不均匀表面特性分布，其中所述主要尺寸是所述基底的长度和/或宽度中的一者，所述方法包括：将所述基底定位在具有表面轮廓的纹理化模板上；将所述颗粒涂料组合物分配到所述基底的表面上或分配到附接到轨道施加头的施加垫上；在所述涂覆所述颗粒涂料组合物期间使所述纹理化模板振动；以及通过所述至少一个轨道施加装置在平行于表面的平面中相对于所述表面上的点在多个方向上以轨道方式移动，将有效量的所述颗粒涂料组合物磨光到所述基底的表面上。3.根据权利要求2所述的方法，所述方法还包括：沿所涂覆膜的所述至少主要尺寸改变所述方法的至少一个过程变量以形成所述不均匀表面特性分布，其中所述至少一个过程变量选自施加时间、施加压力、涂覆温度、工作表面的轮廓、轨道速度、轨道路径的长度、幅材速度和所述颗粒涂料组合物。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述颗粒涂料组合物不含粘结剂。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述颗粒涂料组合物包含活性颗粒以向所涂覆基底提供期望的表面特性。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述颗粒涂料组合物基本上由活性颗粒和磨光助剂颗粒组成。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述颗粒涂料组合物包含2重量％至100重量％的石墨颗粒和0重量％至98重量％的磨光助剂颗粒。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述颗粒涂料组合物包含20重量％至80重量％的石墨颗粒和80重量％至20重量％的磨光助剂颗粒。9.根据前述权利要求中任一项所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：卡梅伦，
申请(专利权)人：三M创新有限公司，
类型：发明
国别省市：