感光性树脂组合物、感光性干膜、层叠体和图案形成方法技术

提供感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)含有有机硅骨架的聚合物和(B)光致产酸剂，(B)光致产酸剂包含(B1)鎓盐光致产酸剂和(B2)鎓盐以外的光致产酸剂。剂和(B2)鎓盐以外的光致产酸剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】感光性树脂组合物、感光性干膜、层叠体和图案形成方法


[0001]本专利技术涉及感光性树脂组合物、感光性干膜、层叠体和图案形成方法。

技术介绍

[0002]以往，作为具有感光性的半导体元件保护膜、多层印刷基板用绝缘膜，利用了感光性聚酰亚胺组合物、感光性环氧树脂组合物、感光性有机硅组合物等。作为在这样的基板、电路的保护中所应用的感光性材料，提出了可挠性特别优异的感光性有机硅组合物(专利文献1)。该感光性有机硅组合物可在低温下固化，并且能够形成耐湿粘接性等可靠性优异的被膜，但具有对于N
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甲基
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吡咯烷酮这样的溶解力强的光致抗蚀剂剥离液等的耐化学品性差的问题。
[0003]对此，提出了以含有硅亚苯基骨架的有机硅型聚合物作为主成分的感光性有机硅组合物(专利文献2)。就该感光性有机硅组合物而言，对于光致抗蚀剂剥离液等的耐化学品性提高，但在热循环试验(将
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25℃下保持10分钟、125℃下保持10分钟反复1,000次循环)时具有固化物从基板剥离、在固化物中产生裂纹等问题，希望可靠性的进一步提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物包含(A)含有有机硅骨架的聚合物和(B)光致产酸剂，(B)光致产酸剂包含(B1)鎓盐光致产酸剂和(B2)鎓盐以外的光致产酸剂。2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，其中，(A)含有有机硅骨架的聚合物包含由下述式(a1)～(a4)和(b1)～(b4)表示的重复单元，[化1]式中，R1～R4各自独立地为碳数1～8的1价烃基，m为1～600的整数，a1～a4和b1～b4为满足0≤a1＜1、0≤a2＜1、0≤a3＜1、0≤a4＜1、0≤b1＜1、0≤b2＜1、0≤b3＜1、0≤b4＜1、0＜a1+a2+a3+a4＜1、0＜b1+b2+b3+b4＜1和a1+a2+a3+a4+b1+b2+b3+b4＝1的数，X1为由下述式(X1)表示的2价的基团，X2为由下述式(X2)表示的2价的基团，X3为由下述式(X3)表示的2价的基团，X4为由下述式(X4)表示的2价的基团，[化2]式中，Z1为单键、亚甲基、丙烷
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2,2
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二基、1,1,1,3,3,3
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六氟丙烷
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2,2
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二基或芴
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9,9
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二基，R
11
和R
12
各自独立地为氢原子或甲基，R
13
和R
14
各自独立地为碳数1～4的烷基或碳数1～4的烷氧基，p1和p2各自独立地为0～7的整数，q1和q2各自独立地为0～2的整数，[化3]
式中，Z2为单键、亚甲基、丙烷
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2,2
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二基、1,1,1,3,3,3
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六氟丙烷
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2,2
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二基或芴
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9,9
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二基，R...

【专利技术属性】
技术研发人员：林久美子，曾我恭子，
申请(专利权)人：信越化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：