用于光学感测的器件及其制造方法技术

本发明专利技术的实施例公开了用于光学感测的器件及其制造方法。在一个实施例中，用于光学感测的器件包括衬底、光电探测器和反射器。光电探测器设置在衬底中。反射器设置在衬底中并且与光电探测器间隔开，其中，反射器具有相对于光电探测器倾斜的反射表面，该反射表面将传输至反射表面上的光反射到光电探测器。至反射表面上的光反射到光电探测器。至反射表面上的光反射到光电探测器。

【技术实现步骤摘要】
用于光学感测的器件及其制造方法


[0001]本专利技术的实施例涉及用于光学感测的器件及其制造方法。

技术介绍

[0002]光栅经常用于使光能够被引导至光电探测器。然而，光栅占据较大的面积，并且光栅的间隔会影响传输波段。

技术实现思路

[0003]本专利技术的实施例提供了一种用于光学感测的器件，包括：衬底；光电探测器，设置在所述衬底中；以及反射器，设置在所述衬底中并且与所述光电探测器间隔开，其中，所述反射器具有相对于所述光电探测器倾斜的反射表面，所述反射表面将传输至所述反射表面上的光反射到所述光电探测器。
[0004]本专利技术的另一实施例提供了一种用于光学感测的器件，包括：衬底，包括沟槽，所述沟槽具有第一侧面和与所述第一侧面相对的第二侧面；光电探测器，设置在所述衬底中并且邻近所述第二侧面，其中，所述第一侧面、所述第二侧面和所述光电探测器的布置方向垂直于所述光电探测器的厚度方向；以及反射器，设置在所述沟槽的所述第一侧面上并且暴露所述沟槽的所述第二侧面的部分。
[0005]本专利技术的又一实施例提供了一种用于光学感测本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于光学感测的器件，包括：衬底；光电探测器，设置在所述衬底中；以及反射器，设置在所述衬底中并且与所述光电探测器间隔开，其中，所述反射器具有相对于所述光电探测器倾斜的反射表面，所述反射表面将传输至所述反射表面上的光反射到所述光电探测器。2.根据权利要求1所述的用于光学感测的器件，其中，所述衬底是半导体衬底，所述光电探测器是光电二极管，并且所述用于光学感测的器件还包括隔离元件，所述隔离元件设置在所述衬底中并且围绕所述光电探测器和所述反射器。3.根据权利要求1所述的用于光学感测的器件，其中，所述衬底包括与所述光电探测器间隔开的沟槽，所述沟槽具有第一侧面和位于所述第一侧面与所述光电探测器之间的第二侧面，所述反射器设置在所述第一侧面上，并且所述反射表面面向所述第二侧面。4.根据权利要求3所述的用于光学感测的器件，其中，所述沟槽是V形或U形的。5.根据权利要求3所述的用于光学感测的器件，还包括：第一介电层，设置在所述衬底上并且包括连接至所述沟槽的贯通孔，其中，所述反射器沿着所述贯通孔的部分侧壁延伸至所述第一介电层上；以及第二介电层，设置在所述反射器和所述第一介电层上。6.根据权利要求1所述的用于光学感测的器件，其中，所述反射器在小于800nm的波长处的光谱反射...

【专利技术属性】
技术研发人员：张志强，陈嘉展，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：