【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】EWOD仪器中的磁性粒子提取
[0001]本专利技术涉及液滴微流体设备,更具体地涉及有源矩阵电介质上电润湿(AM
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EWOD)装置,以及在微流体设备中从流体液滴中操纵和分离磁响应粒子的方法。
技术介绍
[0002]电介质上电润湿(EWOD)是一种众所周知的通过施加电场来操纵流体液滴的技术。有源矩阵EWOD(AM
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EWOD)是指在包含晶体管的有源矩阵阵列中例如通过使用薄膜晶体管(TFT)实现EWOD。因此,它是用于芯片实验室技术的数字微流体的候选技术。可以在《数字微流体:真止的芯片实验室可能吗?》(Digital microfluidics:is a true lab
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chip possible?),R.B.Fair,Microfluid Nanofluid(2007)3:245
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281)中找到该技术的基本原理介绍。
[0003]图1是描绘示例性的基于EWOD的微流体系统的图。在图1的示例中,微流体系统包括读取器32和盒34。盒34可以包含诸如AM
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EWOD设备36之类的微流体设备,并常规地包含(未示出的)进入到设备的流体输入端口和电连接。流体输入端口可以执行以下功能:例如通过从由电润湿控制的输入储存器分配而将流体输入到AM
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EWOD设备36中并且在设备内生成液滴。如下文进一步详述,微流体设备包括被配置成接收输入的流体液滴的电极阵列。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种电介质上电润湿EWOD设备的操作方法,所述EWOD设备对分配到所述EWOD设备的元件阵列上的液滴执行电润湿操作,所述操作方法包括以下步骤:将液滴分配到所述EWOD设备的所述元件阵列上,其中所述液滴包括磁响应粒子;执行电润湿操作以将所述液滴沿着所述元件阵列移动到所述元件阵列上的第一位置;操作所述EWOD设备的第一磁体元件以向所述液滴施加磁场,其中所述磁响应粒子中的至少一部分响应于所述磁场聚集在所述液滴内;以及利用所述磁场从所述液滴分离聚集的磁响应粒子,其中所述聚集的磁响应粒子响应于所述磁场移动到所述元件阵列上靠近所述磁体元件的位置。2.根据权利要求1所述的操作方法,还包括:在操作所述磁体元件以施加所述磁场之前,从所述液滴去除所述电润湿操作的电润湿力。3.根据权利要求1所述的操作方法,还包括:执行电润湿操作以将被致动的液滴定向为使直边面向所述磁体元件;在维持所述液滴上的电润湿力以将所述液滴维持在致动状态的同时,操作所述磁体元件以向所述液滴施加所述磁场,其中所述磁响应粒子中的至少一部分响应于所述磁场沿着所述直边聚集在所述液滴内;以及去除所述电润湿力以使所述液滴去致动,从而利用所述磁场实现从所述液滴分离所述聚集的磁响应粒子。4.根据权利要求1所述的操作方法,还包括:执行电润湿操作以将被致动的液滴定向为使非直边面向所述磁体元件;以及在维持所述液滴上的电润湿力以将所述液滴维持在致动状态的同时,操作所述磁体元件以向所述液滴施加所述磁场,其中所述磁响应粒子中的至少一部分响应于所述磁场沿着所述非直边聚集在所述液滴内;其中所述聚集的磁响应粒子响应于所述磁场在所述非直边处与所述液滴分离。5.根据权利要求1所述的操作方法,还包括:执行另一电润湿操作以沿着所述元件阵列相对于所述第一磁体元件移动所述液滴,其中当所述液滴相对于所述第一磁体元件移动时,附加的磁响应粒子响应于第一磁场聚集在所述液滴内;操作所述第一磁体元件以从所述液滴去除所述第一磁场;操作所述EWOD设备的第二磁体元件以将第二磁场施加到所述液滴;以及利用所述第二磁场从所述液滴分离所述聚集的磁响应粒子,其中所述聚集的磁响应粒子响应于所述第二磁场移动到所述元件阵列上靠近所述第二磁体元件的位置。6.根据权利要求5所述的操作方法,还包括:在操作所述第二磁体元件以施加所述第二磁场之前,去除所述电润湿操作的电润湿力。7.根据权利要求1至6中任一项所述的操作方法,其中,响应于施加所述磁场来执行所述磁响应粒子的聚集和分离的多次迭代。8.根据权利要求7所述的操作方法,还包括:当剩余磁响应粒子的数量不足以响应于所述磁场而与所述液滴分离时,向所述液滴添加附加的磁响应粒子,其中所述聚集的磁响应粒子包括响应于所述磁场与所述液滴分离的所述附加的磁响应粒子。9.根据权利要求1至8中任一项所述的操作方法,其中响应于所述磁场在所述液滴内聚
集所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:阿达姆,
申请(专利权)人:夏普生命科学欧洲有限公司,
类型:发明
国别省市:
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