一种光阻稀释剂的供应系统技术方案

本实用新型专利技术提供一种光阻稀释剂的供应系统，该供应系统包括稀释剂供应罐、压力泵、第一阀门、第二阀门、喷嘴阀门，该供应系统采用稀释剂供应罐以集中供应的方式提供光阻稀释剂，无需购置单独的桶装稀释剂，极大的缩减了成本，省去了频繁的更换灌装，降低化工安全隐患。同时可以选择性地对管路全部清洁或是部分清洁，具有一定的灵活性。此外，通过该供应系统可以将光阻稀释剂输送至稀释剂存储桶中储存起来，完成储存的稀释剂存储桶可以用于应急使用，同时也适用于不同光源波长的机台，从而进一步缩减成本。减成本。减成本。

【技术实现步骤摘要】
一种光阻稀释剂的供应系统


[0001]本技术涉及半导体处理设备的液体供应系统，特别是涉及一种光阻稀释剂的供应系统。

技术介绍

[0002]在半导体加工处理过程中，往往需要采用光阻材料用于实现光刻等工艺。在晶圆或其他基板上涂覆光阻液之前，通常需要使用光阻稀释剂对管路进行清洗，清除管路中残留的光阻液，保证管路通畅，避免对光阻液的涂覆造成影响。如图1所示为现有技术中光阻稀释剂的供应管路结构，包括光阻液桶401及稀释剂存储桶402，使用时先将所述稀释剂存储桶402接入管路中，对整个管路进行清洗，之后将所述稀释剂存储桶402从管路中断开，再将所述光阻液桶401接入管路，光阻液流经阀门、喷嘴等进行涂覆。在这个过程中，需要单独桶装的光阻稀释剂进行管路清洗，耗费成本较高。而且需要频繁的更换灌装，费时费力，且有一定的化工安全隐患。
[0003]因此需要设计一种供应系统，用于集中供应光阻稀释剂以降低成本、简化流程。

技术实现思路

[0004]鉴于以上所述现有技术的缺点，本技术的目的在于提供一种光阻稀释剂的供应系统，用于解决现有技术中光阻稀释剂存本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光阻稀释剂的供应系统，其特征在于，所述供应系统包括：稀释剂供应罐(11)，所述稀释剂供应罐(11)用以供应光阻稀释剂；压力泵(21)，所述压力泵(21)与所述稀释剂供应罐(11)连接；第一阀门(31)，所述第一阀门(31)的第一接口(311)连接至所述压力泵(21)；第二阀门(32)，所述第二阀门(32)的第二接口(322)连接至所述第一阀门(31)的第二接口(312)；光阻液桶(401)，所述光阻液桶(401)用以供应光阻，且所述光阻液桶(401)与所述第二阀门(32)的第三接口(323)连接；k个喷嘴阀门(33)，k个所述喷嘴阀门(33)的第一接口(331)连接至所述第一阀门(31)的第三接口(313)，k个所述喷嘴阀门(33)的第二接口(332)连接至所述第二阀门(32)的第一接口(321)，其中k为正整数。2.根据权利要求1所述的供应系统，其特征在于，还包括稀释剂存储桶(402)，所述稀释剂存储桶(402)与所述第二阀门(32)的第三接口(323)连接。3.根据权利要求2所述的供应系...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘敬文，
申请(专利权)人：芯恩青岛集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：