一种盘刷清洗装置及清洗系统制造方法及图纸

本申请提供了一种盘刷清洗装置及清洗系统，属于硅片抛光技术领域，具体包括箱体、进水管和排水管，所述箱体内的上部为水槽，所述水槽由水槽底板和所述箱体的侧壁围成；所述进水管从所述水槽底板的下侧穿过所述水槽底板对位于所述水槽内的盘刷进行喷水；所述排水管的一端位于所述水槽底板的上侧，所述排水管的另一端位于所述水槽底板的下侧，所述排水管位于所述水槽底板上侧的根部设有至少一个排水孔。通过本申请的处理方案，可将颗粒从排水管排出，使盘刷清洗的更加洁净，可提高硅片产品质量，无需人工清理清洗装置，减少设备停机时间，节省了人力物力，提高了生产效率。提高了生产效率。提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】
一种盘刷清洗装置及清洗系统


[0001]本申请涉及硅片抛光
，尤其涉及一种盘刷清洗装置及清洗系统。

技术介绍

[0002]在最终抛光工序中，抛光机在完成一次硅片抛光后，盘刷装置会旋转到抛光工作台上，进行抛光工作台的刷洗工作，刷洗动作完成后，毛刷之间会夹带一些抛光研磨下来的颗粒，盘刷装置需要回位到清洗装置进行冲洗，目前的清洗装置采用排水管顶端溢流的方式进行排水，冲洗下来的颗粒会沉淀在清洗装置的底部，而无法从排水管排出，当颗粒增多后会使盘刷的清洗效果产生影响，进而造成硅片产品颗粒异常。而且，清洗装置需要人工定期清理，需要将设备停机，手动将盘刷装置移开，进行保湿盒的清理，增加了停机时间和浪费人力。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本申请实施例提供一种盘刷清洗装置及清洗系统，至少部分解决现有技术中存在的盘刷上夹带的颗粒沉积在装置内无法排出的问题。
[0004]第一方面，本申请实施例还提供一种盘刷清洗装置，包括箱体、进水管和排水管，所述箱体内的上部为水槽，所述水槽由水槽底板和所述箱体的侧壁围成；所述进水管从所述水槽底板的下侧本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种盘刷清洗装置，其特征在于，包括箱体、进水管和排水管，所述箱体内的上部为水槽，所述水槽由水槽底板和所述箱体的侧壁围成；所述进水管从所述水槽底板的下侧穿过所述水槽底板，所述进水管对位于所述水槽内的盘刷进行喷水；所述排水管的一端位于所述水槽底板的上侧，所述排水管的另一端位于所述水槽底板的下侧，所述排水管位于所述水槽底板上侧的根部设有至少一个排水孔。2.根据权利要求1所述的盘刷清洗装置，其特征在于，所述水槽底板相对于水平面为倾斜状，所述排水管位于所述水槽底板的最低位置处，所述进水管位于所述水槽底板的高位置处。3.根据权利要求2所述的盘刷清洗装置，其特征在于，所述水槽底板所在平面与所述水平面夹角范围为1
°‑5°
。4.根据权利要求1所述的盘刷清洗装置，其特征在于，所述排水管位于所述水槽底板上侧的根部外侧套设有外环，所述外环上设有至少一个外环孔，所述外环孔设置在所述外环靠近所述水槽底板的区域，所述外环可相对所述排水管转动使所述外环孔和所述排水孔相通。5.根据权利要求4所述的盘刷清洗装置，其特征在于，所述外环孔垂直贯...

【专利技术属性】
技术研发人员：王红磊，吴凤良，郝道坤，胡建平，
申请(专利权)人：上海新昇半导体科技有限公司，
类型：新型
国别省市：