原位电化学和频光谱测试的平面电解池装置及其控制系统制造方法及图纸

技术编号:32484152 阅读:23 留言:0更新日期:2022-03-02 09:48
本实用新型专利技术提供了一种原位电化学和频光谱测试的平面电解池装置及其控制系统,平面电解池装置包括:密封箱体;密封箱体至少包括两个相对设置且平行的第一平面和第二平面;第一平面上设置有进光口,第二平面上设置有出光口;第一平面上设置有出气口,第二平面上设置有进气口;设置在密封箱体底面上的平面电解池;平面电解池包括:设置在底面上的工作电极和对电极,且工作电极和对电极之间存在间隔;电解质膜层,电解质膜层同时覆盖部分工作电极和部分对电极;设置在电解质膜层上的外接电极膜层,外接电极膜层与外部参比电极连接。该平面电解池装置可实现用金属材料做电化学的和频光谱测试。频光谱测试。频光谱测试。

【技术实现步骤摘要】
原位电化学和频光谱测试的平面电解池装置及其控制系统


[0001]本技术涉及光学设计
,更具体地说,涉及一种原位电化学和频光谱测试的平面电解池装置及其控制系统。

技术介绍

[0002]参考图1,图1为和频光谱测试过程的原理示意图;如图1所示,和频光谱测试过程中要求两束脉冲激光在空间和时间上于样品表面一点重合,通过二阶非线性光学效应产生和频信号。其中,Vis为可见光;IR为红外光;SFG为和频信号光。
[0003]为了实现在电化学过程中对电极表面的原位和频光谱的测量,就需要避免电解质对激光的吸收;基于此,现有技术方案中主要有薄层技术方案和内反射技术方案。
[0004]参考图2,图2为薄层技术方案的原理结构示意图;参考图3,图3为内反射技术方案的原理结构示意图;其中,CE为对电极,RE为参比电极,WE为工作电极;薄层技术方案中有机溶剂体系一般在多个区间存在对红外光吸收的问题;内反射技术方案又对工作电极的材料有较多限制。
[0005]那么,如何提供一种全新的更优的电解池装置,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种原位电化学和频光谱测试的平面电解池装置,其特征在于,所述平面电解池装置包括:密封箱体;所述密封箱体至少包括两个相对设置且平行的第一平面和第二平面;所述第一平面上设置有进光口,所述第二平面上设置有出光口;所述第一平面上设置有出气口,所述第二平面上设置有进气口;设置在所述密封箱体底面上的平面电解池;所述平面电解池包括:设置在所述底面上的工作电极和对电极,且所述工作电极和所述对电极之间存在间隔;电解质膜层,所述电解质膜层同时覆盖部分所述工作电极和部分所述对电极;设置在所述电解质膜层上的外接电极膜层,所述外接电极膜层与外部参比电极连接。2.根据权利要求1所述的平面电解池装置,其特征在于,所述平面电解池装置还包括:第一窗片,所述第一窗片用于密封所述进光口;第二窗片,所述第二窗片用于密封所述出光口。3.根据权利要求2所述的平面电解池装置,其特征在于,所述第一窗片的直径为25mm

50mm;所述第二窗片的直径为25mm

50mm。4.根据权利要求2所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:周达陈艳霞
申请(专利权)人:中国科学技术大学
类型:新型
国别省市:

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