一种平面研磨清洗剂及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种平面研磨清洗剂及其制备方法，该平面研磨清洗剂由以下质量份数的原料制成：去离子水90

【技术实现步骤摘要】
一种平面研磨清洗剂及其制备方法


[0001]本专利技术涉及清洗剂
，具体为一种平面研磨清洗剂及其制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，平面研磨技术发展迅速，被称为工业产品的“美容化妆师”。诸如手机壳、餐具、眼镜、珠宝、钟表、首饰等均须经过一道研磨美容工序，使产品光滑、锃亮，更加靓，提高档次，增加经济效益。在平面研磨过程中随之会产生研磨液，金属制品表面残留的研磨液会导致其加速腐蚀及损伤严重，因此，寻求合适、安全、高效的清洗剂对平面研磨过程中产生的研磨液进行清洗显得非常有必要。
[0003]现有技术中，在机电加工和机械设备、汽车等的维护与修理时，大多采用柴油、煤油或汽油作清洗液来清洗零件，这不仅浪费能源，且存在潜在的不安全因素，稍有不慎，则可能酿成火灾。金属清洗剂能够很好地替代柴油、煤油和汽油来清洗零件，而且价格便宜、使用安全、很适合于机械化清洗作业，逐渐得到了广泛的营养。
[0004]经检索，中国专利公开号为CN104388956A公开了一种平面研磨清洗剂，包括：十七烷基异构醇醚、有机酸、羟基乙叉二膦酸。该专利技术平面研本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种平面研磨清洗剂，其特征在于，该平面研磨清洗剂由以下质量份数的原料制成：去离子水90
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120份、阴离子表面活性剂10
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20份、非离子表面活性剂24
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32份、清洗助剂6
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14份、珍珠岩粉末4
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8份、氧化铝粉末4
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8份、防锈油5
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10份、精油3
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6份、消泡剂1.4
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2.2份。2.根据权利要求1所述的一种平面研磨清洗剂，其特征在于：所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠和α
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烯基磺酸钠中的一种或多种混合。3.根据权利要求2所述的一种平面研磨清洗剂，其特征在于：所述非离子表面活性剂为月桂基葡糖苷、脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯烷基醇酰胺和烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种混合。4.根据权利要求3所述的一种平面研磨清洗剂，其特征在于：所述清洗助剂包括以下原料组分：硫酸钠3
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7份、硅酸钠3
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7份。5.根据权利要求4所述的一种平面研磨清洗剂，其特征在于：所述防锈油为环氧大豆油和蓖麻油中的一种或多种混合。6.根据权利要求5所述的一种平面研磨清洗剂，其特征在于：所述精油包括以下原料组分：茉莉花精油1
‑
2份、柠檬精油2
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【专利技术属性】
技术研发人员：曾好逑，张元兵，潘达春，
申请(专利权)人：厦门普诺尔新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：