基于量子点光致发光特性及激光雕刻的防伪标识及其制法制造技术

本发明专利技术涉及一种基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识及其制备方法，通过先以量子点和高分子聚合物为原料制得量子点

【技术实现步骤摘要】
基于量子点光致发光特性及激光雕刻的防伪标识及其制法


[0001]本专利技术属于防伪材料
，具体涉及一种基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识及其制备方法。

技术介绍

[0002]随着科学技术的迅速发展，信息真伪和安全储存的重要性逐渐被人们意识到。与此同时，对于开发新型防伪材料以及防伪技术的需求亦愈发迫切。由于荧光材料及其相应的荧光防伪技术具有的操作简便、省时和防伪性能强等优点，使得荧光防伪技术成为了目前使用最为广泛的防伪技术。目前，荧光防伪技术所采用的荧光材料多采用有机染料、稀土配合性荧光材料以及碳基荧光纳米材料，但上述材料作为荧光防伪材料，其色谱宽、光稳定性差、对水氧敏感性差、使用寿命短等问题大大阻碍了荧光防伪技术的进一步发展。
[0003]量子点是三个维度的物理尺寸与激子玻尔半径可相比拟的半导体纳米晶。其形貌一般为球形或类球形，直径常在2到20纳米之间。当半导体的尺寸缩小至波尔激子直径附近时，能级将从连续分布变为离散分布，从而材料的光学、电学等性质也会明显不同于其体相的性质。通过对这种半导体纳米材料施加一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)量子点
‑
高分子聚合物混合液的制备：将量子点分散于有机溶剂中，得到量子点溶液，之后将量子点溶液与高分子聚合物进行充分混匀，挥发除去多余有机溶剂，得到量子点
‑
高分子聚合物混合液；(2)量子点
‑
柔性薄膜刮涂将步骤(1)所得的量子点
‑
高分子聚合物混合液进行刮涂成膜，得到量子点
‑
柔性薄膜；(3)量子点
‑
柔性薄膜烘干将步骤(2)所得量子点
‑
柔性薄膜进行烘干，得到烘干后的量子点
‑
柔性薄膜；(4)激光雕刻图案化利用激光在步骤(3)烘干后的量子点
‑
柔性薄膜上进行雕刻，即得图案化的防伪标识。2.根据权利要求1所述的基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述高分子聚合物为PDMS或PMMA；当所述高分子聚合物为PDMS时，具体操作为：先将量子点溶液与预聚剂进行充分混匀，挥发除去有机溶剂，再向体系中加入固化剂，充分混合均匀，得到量子点
‑
高分子聚合物混合液。3.根据权利要求1所述的基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述有机溶剂为己烷、甲苯、辛烷、氯仿中的一种或几种的混合物。4.根据权利要求1所述的基于量子点柔性薄膜光致发光特性及激光雕刻图案化技术的防伪标识的制备方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓元，侯小琪，赵未昀，张玉蕾，
申请(专利权)人：北京航空航天大学杭州创新研究院，
类型：发明
国别省市：