一种均匀铺光框制造技术

本实用新型专利技术提供了一种均匀铺光框，涉及画相框领域；由投光件、上导光檐和下导光檐构成横向铺光通道，并由横向铺光通道围成聚光槽，下导光檐相对于投光件向聚光槽方向延伸出檐状结构，使投光件发出的光线经过檐状结构上方再向聚光槽下方的底板表面均匀铺射光线。通过设置檐状结构，确保了底板表面光线的均匀分布，解决现有技术中底板中央部分亮度明显低于周边部分亮度而产生的亮度分界线以及相应的光斑，还能保证整体厚度的纤薄特征，甚至可以通过设置和调节上导光檐和檐状结构分别向聚光槽方向延伸出不同的宽度，使底板表面不同的区域实现不同的铺光效果，满足多种艺术展示需要，对现有内铺光画相框的铺光质量和视觉效果具有实质性的改进和提升。具有实质性的改进和提升。具有实质性的改进和提升。

【技术实现步骤摘要】
一种均匀铺光框


[0001]本技术涉及画框/相框领域，具体涉及一种均匀铺光框，对现有铺光相框铺光质量有实质性的增强和改进。

技术介绍

[0002]现有的内发光画相框结构都是由设置在画相框内视窗外围的光源发光向视窗中心投射光线，底板或画相作品设置在底部，从而光线铺射在底板或画相作品的表面。(如专利号：2020201106663所述技术方案)
[0003]铺光画相框作为画相作品的承载和陪衬，有两个非常重要的指标：铺光效果和画相框整体的纤薄程度，铺光的理想效果是画相作品呈现出中间位置的亮度稍微高于四周以衬托出画相作品的展示主题，或者画相作品整体表面的光线均匀铺射。为了达到这种效果，目前常用的手段都是通过在画框外设置射灯直接对画相框投射光线。
[0004]现有的内发光画相框结构或多或少都有个不可避免的缺陷即正常的物理光学现象：由于光线是从四周向中间的聚光槽投射，底板或画相作品表面有明显的光斑效应和亮度分界线，即中央位置的大部分面积的亮度暗而靠边缘的周边面积明显亮(界内比较忌讳的铺光效果)。这种现象的强弱与画相作品与光源之间的垂直距离成反比，一般整体厚度达到聚光槽宽度五分之一以上时才能有相应的均匀铺光效果，这样过于厚重的画相框整体也是直接影响画相作品整体艺术效果的重要因素之一，同时画相框的厚度越厚，铺射到画相作品表面的光线也会变得越弱，使画相框无法体现画相作品的主题内容和思想，最终导致整体艺术展示效果不能极致。上述矛盾一直影响着现有的内铺光画相框被大众认可和接受。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种均匀铺光框，在画相框内部由周边向中央横向投射光线，通过设置可以调整投射光线中横向光线和纵向向下方向光线两者之间比例的结构，增加水平方向光线的比例，确保铺光框下方的画相作品靠中央部分的铺光强度至少不会明显低于周边部分的铺光强度，使整体画相框体的厚度以及画相作品表面的铺光达到更佳视觉效果。
[0006]基于上述目的，本技术提供的一种均匀铺光框，包括投光件、上导光檐和下导光檐；
[0007]由上下设置并间隔一定距离的所述上导光檐和所述下导光檐构成横向铺光通道，并对接所述投光件；由至少包含两段铺光方向相对的所述横向铺光通道围成中间的聚光槽；所述投光件设置在所述聚光槽外围，使所述下导光檐至少有一部分位于所述投光件与所述聚光槽之间，形成檐状结构，所述投光件发出的光线经过与其对应的所述檐状结构上方并向所述聚光槽以及位于所述聚光槽下方的空间投射光线。
[0008]其中，所述上导光檐和所述下导光檐之间的上下位置关系为基于纵向方向的位置
关系，包括两者纵向投影面积之间至少有交集或者完全没有交集的位置关系。构成横向铺光通道的必要条件之一是必须对接有相应的投光件，没有对接投光件的上导光檐和下导光檐不能称为横向铺光通道；所述横向铺光通道与所述投光件对接是指所述投光件发出的光线能经过所对接的横向铺光通道向所述檐状结构方向(即聚光槽方向)横向投射光线。
[0009]进一步的，所述投光件一般为具有散光特征的发光结构，可以是电发光器件(比如LED灯带或荧光灯等)或电发光器件与透光材料组合的发光结构(比如条状灯条或横向发光箱体或透明导光板相关的发光结构)。因为大部分光源都是具有散光特征的，具有一定的纵向散射角度，影响铺光的均匀度。
[0010]进一步的，所述下导光檐设置在所述投光件下方，所述上导光檐设置在所述投光件上方，所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构全部面积，即所述上导光檐的纵向投影面积覆盖所述下导光檐的檐状结构的全部面积；或者，
[0011]所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构的部分面积，即所述上导光檐的纵向投影面积覆盖所述下导光檐的檐状结构的部分面积；
[0012]所述投光件发光经过所述上导光檐与所述下导光檐之间的所述横向铺光通道并向所述聚光槽以及其下方的空间投射光线；通过设置所述上导光檐和所述下导光檐两者相对不同的宽度和面积有利于实现不同的铺光效果。
[0013]进一步的，所述上导光檐遮盖所述投光件正面的全部面积和部分面积两种面积中的一种面积，且不遮盖所述下导光檐的檐状结构；
[0014]进一步的，还包括底板，所述底板位于所述聚光槽的下方，即所述聚光槽的纵向投影面积与所述底板至少有交集部分，使所述檐状结构表面至少有一部分高于位于所述聚光槽纵向投影面积内的所述底板表面；向位于所述聚光槽下方空间投射的所述光线铺射在所述底板表面。
[0015]进一步的，所述投光件侧向发光，发光方向朝向所述聚光槽，直接向所述聚光槽投射光线；或者，
[0016]所述投光件纵向发光，通过所述上导光檐背面和所述下导光檐正面两者中至少一个的反射和散射间接向所述聚光槽投射光线。
[0017]进一步的，所述聚光槽的形状为闭合结构；或者，所述聚光槽的形状为两个相对设置的所述横向铺光通道构成的开口结构。
[0018]进一步的，所述闭合结构的所述聚光槽形状为矩形或者三角形或者其它多边形或者圆形或者椭圆形或者心形或者扇形。
[0019]进一步的，所述檐状结构靠近所述聚光槽一侧的外缘与所述投光件之间的距离不小于所述檐状结构正表面的最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离；
[0020]所述聚光槽下方的所述底板表面与所述檐状结构正表面最高处之间的纵向距离不小于所述檐状结构正表面最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离。
[0021]进一步的，所述底板与所述檐状结构为一体结构。
[0022]进一步的，与所述底板为一体结构的所述檐状结构为台阶状或凸起状。
[0023]进一步的，还包括画相框体，所述上导光檐和所述下导光檐以及所述投光件三者中至少一个设置在所述画相框体的正面框檐下。
[0024]进一步的，所述画相框体和所述上导光檐和所述下导光檐三者中的至少两者为一
体结构。
[0025]进一步的，所述投光件和所述下导光檐为一体结构，即所述投光件自带所述下导光檐。
[0026]进一步的，所述下导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶檐；
[0027]所述上导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶檐；
[0028]所述上导光檐和所述下导光檐的形状设置有利于实现不同的铺光效果。
[0029]进一步的，所述上导光檐设置有镂空透光图案。
[0030]进一步的，还包括画相作品，所述画相作品设置在所述底板表面；或者，
[0031]所述画相作品本身就是底板；
[0032]所述画相作品与所述聚光槽的纵向投影面积至少有交集。
[0033]进一步的，所述画相作品为镜面或者墙面或者天花板或者绘画书法作品或者相片或者印刷品或者针织刺绣作品或者雕刻作品或者古董收藏作品或者带有发光图案的基板。
[0034]进一步的，还包括透明保护层，所述透明保护层设置在所述上导光檐的上方；或者，
[0035]所述上导光檐设置在所述透明保护层的上方；
[0036]所述透明保护本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种均匀铺光框，其特征在于，包括投光件、上导光檐和下导光檐；由上下设置并间隔一定距离的所述上导光檐和所述下导光檐构成横向铺光通道，并对接所述投光件；由至少包含两段铺光方向相对的所述横向铺光通道围成中间的聚光槽；所述投光件设置在所述聚光槽外围，使所述下导光檐至少有一部分位于所述投光件与所述聚光槽之间，形成檐状结构，所述投光件发出的光线经过与其对应的所述檐状结构上方并向所述聚光槽以及位于所述聚光槽下方的空间投射光线。2.根据权利要求1所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述下导光檐设置在所述投光件下方，所述上导光檐设置在所述投光件上方，所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构全部面积；或者，所述上导光檐遮盖所述下导光檐的檐状结构的部分面积；所述投光件发光经过所述上导光檐与所述下导光檐之间的所述横向铺光通道并向所述聚光槽以及其下方的空间投射光线。3.根据权利要求1所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述上导光檐遮盖所述投光件正面的全部面积和部分面积两种面积中的一种面积，且不遮盖所述下导光檐的檐状结构。4.根据权利要求1所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述聚光槽的形状为闭合结构；或者，所述聚光槽的形状为两个相对设置的所述横向铺光通道构成的开口结构。5.根据权利要求4所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述闭合结构的所述聚光槽形状为矩形或者三角形或者其它多边形或者圆形或者椭圆形或者心形或者扇形。6.根据权利要求1
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5中任一项所述的一种均匀铺光框，其特征在于，还包括底板，所述底板位于所述聚光槽的下方，所述檐状结构表面至少有一部分高于位于所述聚光槽纵向投影面积内的所述底板表面，向位于所述聚光槽下方空间投射的所述光线铺射在所述底板表面。7.根据权利要求6所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述檐状结构靠近所述聚光槽一侧的外缘与所述投光件之间的距离不小于所述檐状结构正表面的最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离。8.根据权利要求7所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述聚光槽下方的所述底板表面与所述檐状结构正表面最高处之间的纵向距离不小于所述檐状结构正表面最高处与所述上导光檐背面之间的纵向距离。9.根据权利要求8所述的一种均匀铺光框，其特征在于，所述下导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶檐；所述上导光檐为水平檐或斜坡檐或弧形檐或台阶...

【专利技术属性】
技术研发人员：ꢀ五一IntClA四七G一一四，
申请(专利权)人：马飞，
类型：新型
国别省市：