地板处理清洁系统技术方案

用于地板清洁机（１）的地板处理清洁系统（３）包括至少两个处理元素（７ａ、７ｂ），其中每个处理元素都配备清洁装置（１１）并且被驱动装置（１５Ａ）经由至少两个同步的偏心枢轴（８）偏心地驱动，其特征在于各自的枢轴以这样的方式围绕着它们的主旋转轴（１３）旋转，以致那至少两个处理元素完成反向运动，借此沿着预期的方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和摩擦。处理元素（７ａ、７ｂ）能以不同的方式定位：相对于机器（１）的移动方向横向定位彼此平行一个在另一个后面和相对于机器（１）的移动方向横向定位彼此相邻呈沿着机器移动方向开口的Ｖ－字形或弓形。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及依照权利要求1的导言的地板处理清洁系统。
技术介绍
各种不同的用来清洁地板表面的系统是已知的。目前，市场上两种最通常的系统是圆盘系统和圆筒系统。圆盘系统包括一个备有围绕着垂直于表面平面的轴线旋转的刷子或垫状物的平坦的圆盘。虽然圆盘系统有与地板的接触面积大的优点而且由于多种垫状物/刷子配置非常灵活适应不同的清洁工作，但是，圆盘系统有下列的缺点。第一，工具压力和工具直径受到限制最大的工具压力是由机器重量减去充份牵引必需的重量限定的，在一些情形中也由抽吸系统造成的压力需要限定；直径受离心力作用限制。此外，马达的驱动性能随着该压力增加，这影响马达尺寸、成本和机器独立性对于许多清洁目的，需要大的重量，这导致高耗电量。最后，圆盘系统在工作区域中不同的点呈现不同的搅动方向而且随着机器移动速度增加改变搅动参数在较高的速度下，在圆盘的一侧加上移动速度，而在另一侧减去它，所以相对速度在一些区域甚至可能是零。圆筒系统包括围绕着平行于表面平面的轴线旋转的圆筒形的刷子。与圆盘系统相反，圆筒系统由于圆筒形的刷子围绕着平行于地板的轴线旋转在完整的清洁区域上有恒定不变的搅动参数和高的特性刷子压力。然而，圆本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于地板清洁机（１）的地板处理清洁系统（３），该系统包括至少两个处理元素（７ａ、７ｂ），其中每个处理元素都配备清洁装置（１１）并且被驱动装置（１５）经由至少两个同步的偏心枢轴（８）偏心地驱动，其特征特征在于各自的枢轴以这样的方式围绕着它们的主旋转轴（１３）旋转，以致那至少两个处理元素完成反向运动，借此沿着预期的方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和摩擦。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】EP 2004-5-7 04010927.41.用于地板清洁机(1)的地板处理清洁系统(3)，该系统包括至少两个处理元素(7a、7b)，其中每个处理元素都配备清洁装置(11)并且被驱动装置(15)经由至少两个同步的偏心枢轴(8)偏心地驱动，其特征特征在于各自的枢轴以这样的方式围绕着它们的主旋转轴(13)旋转，以致那至少两个处理元素完成反向运动，借此沿着预期的方向输送地板上的残留物和平衡引擎质量和摩擦。2.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于所述的两个处理元素(7a、7b)是相对于机器(1)的移动方向横向安排的，并且彼此平行一个在另一个后面经由同步装置(9、10)相互连接，以致两个处理元素(7a、7b)完成相同的强制旋转运动。3.根据权利要求2的地板处理清洁系统，其特征在于所述的处理元素(7a、7b)被安排成有180°的相位偏移，以致它们相对于机器(1)的移动方向及其横断方向完成反向运动。4.根据权利要求1地板处理清洁的系统，其特征在于那两个处理元素(7a、7b)是相对于机器(1)的移动方向横向安排的并且彼此相邻，其中相对于机器(1)的移动方向左边的处理元素(7a)被驱动完成顺时针方向的强制旋转，而右边的处理元素(7b)被驱动完成逆时针方向的强制旋转，以致两个处理元素完成相反的强制旋转运动。5.根据权利要求1的地板处理清洁系统，其特征在于两个处理元素(7a、7b)被安排成开口在机器(1)的移动方向的V-字形，其中相对于机器(1)的移动方向左边的处理元素(7a)被驱动完成顺时针方向的强制旋转而右边的处理元素(7b)被驱动完...

【专利技术属性】
技术研发人员：海瑞克特托梅耶，
申请(专利权)人：迪瓦西公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]