包括纳米图案化表面的基底及其制备方法技术

公开了基底以及通过使用室温UV纳米压纹方法制备所述基底，其中所述基底包含：可官能化层、包含多个微米级图案或纳米级图案或其组合的聚合物层、以及背衬层。所述基底可以通过卷对卷连续方法制备。所述基底可以用作用于生物分子分析的流动池、纳流体装置或微流体装置。置。置。

【技术实现步骤摘要】
包括纳米图案化表面的基底及其制备方法
[0001]相关申请
[0002]本申请是中国专利申请201480064276.4号的分案申请，并要求于2013年12月19日提交的第61/918,582号美国临时申请的优先权的权益，其通过引用整体并入本文。
专利

[0003]一般而言，本申请涉及纳米图案化方法和包括纳米图案化表面的基底的领域。更具体地，本申请涉及包括至少两层及在一些实施方案中包括至少三层的基底，所述基底包括包含纳米级图案和微米级图案的聚合物层。还公开了通过使用无抗蚀剂、室温UV固化和压纹的方法制备这些基底的方法。
[0004]专利技术背景
[0005]纳米印刷技术以便能够经济且有效地生产纳米结构。标准的纳米压纹(embossing)光刻依赖于通过使具有纳米结构的印章引起抗蚀剂材料的直接机械变形，接着进行刻蚀过程以将纳米结构从印章转移至基底。
[0006]专利技术概述
[0007]本申请利用UV敏感性聚合物以形成含有多个微米级图案或纳米级图案的聚合物层。UV释放过程阻止了聚合物对模板的粘滞作用并且阻止了图案在分本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.基底，其包含：包含一个或多个官能团的可官能化层；包含多个微米级图案或纳米级图案或其组合的聚合物层；以及背衬层。2.如权利要求1所述的基底，其中所述聚合物层的所述微米级图案或纳米级图案包括通道、沟槽、孔、柱状体或其组合。3.如权利要求1或2所述的基底，其中所述可官能化层设置在所述背衬层与所述聚合物层之间。4.如权利要求3所述的基底，其中所述聚合物层的微米级图案或纳米级图案的至少一部分穿透于所述聚合物层以暴露下方的所述可官能化层。5.如权利要求4所述的基底，其中所述可官能化层包含多个微米级图案或纳米级图案或其组合，并且所述聚合物层和所述可官能化层的微米级图案或纳米级图案的至少一部分穿透于所述聚合物层和所述可官能化层以暴露下方的所述背衬层。6.如权利要求1或2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：M，
申请(专利权)人：ILLUMINA公司，
类型：发明
国别省市：