带电粒子束装置和设定辅助方法制造方法及图纸

一种带电粒子束装置和设定辅助方法，基于照射条件和试样的元素信息，生成参照像(82、202)。参照像(82、202)包含示出特征X射线产生范围的图形(112)、示出特征X射线产生深度的数值(114)等。伴随着加速电压、倾角或构成试样的元素的变更，参照像(82、202)发生变化。参照像(82、202)可包含示出入射电子散射范围的图形(204)、示出反射电子产生范围的图形(108)等。示出反射电子产生范围的图形(108)等。示出反射电子产生范围的图形(108)等。

【技术实现步骤摘要】
带电粒子束装置和设定辅助方法


[0001]本专利技术涉及带电粒子束装置和设定辅助方法，特别是涉及对照射条件的设定进行辅助的技术。

技术介绍

[0002]作为带电粒子束装置，已知扫描电子显微镜、电子束微量分析仪、离子束照射装置等。以下，以这些装置为代表来说明扫描电子显微镜。
[0003]扫描电子显微镜是对试样(specimen)照射作为带电粒子束(charged particle beam)的电子束(electron beam)，检测从试样发射的二次电子、反射电子、特征X射线等的装置。基于由电子束的二维扫描得到的一系列检测信号形成表示试样的表面或表层的图像。通过对从试样发出的特征X射线的分析，执行试样的定性解析和定量解析。
[0004]在扫描电子显微镜对试样的测定中，根据构成试样的元素，试样内的电子侵入深度(electron penetration depth)(电子束侵入深度，电子散射深度)发生变化，另外，根据电子束的加速电压(accelerating voltage)(入射电压；landing voltage)，试样内的电子侵入深度发生变化。与其同样地，根据构成试样的元素、电子束的加速电压，在试样内产生反射电子的深度(从试样发射的反射电子的产生范围)和在试样内产生特征X射线的深度(从试样发射的特征X射线的产生范围)发生变化。
[0005]在扫描电子显微镜中，通过用户对数值的指定来设定加速电压等照射条件。以往，在照射条件的设定时，并不显示对设定作业进行辅助的示意图等。此外，也已知推断试样中的电子散射范围或信号产生范围的模拟装置。这样的装置不是测定装置，而是以单体发挥功能的，无法实现这样的装置与带电粒子束装置的协作。
[0006]特开2004
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163135号公报和特开2006
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275756号公报公开了X射线分析装置。这些专利文献记载了试样内的X射线产生区域的计算和基于X射线产生区域的加速电压的决定。但是，这些专利文献没有公开辅助用户对照射条件的设定的技术。此外，在申请说明书中，照射条件的设定的概念可包含照射条件的确认和变更。

技术实现思路

[0007]专利技术要解决的问题
[0008]本专利技术的目的在于，在带电粒子束装置中辅助用户对照射条件的设定。或者，本专利技术的目的在于，使得在带电粒子束装置中能一边想象在试样内产生的物理现象的范围及其大小，一边进行照射条件的设定。
[0009]用于解决问题的方案
[0010]本专利技术的带电粒子束装置的特征在于，包含：测定部，其对试样照射带电粒子束，检测从上述试样发出的信号；参照像生成部，其基于参照像生成用的照射条件和试样信息，生成包含模拟了上述试样内的信号产生范围的图形和示出上述信号产生范围的大小的数值的参照像；以及显示器，其在设定上述带电粒子束的实际的照射条件时，显示包含上述参
照像的图形用户接口图像。
[0011]本专利技术的设定辅助方法的特征在于，包含：基于参照像生成用的照射条件和试样信息，生成包含模拟了被照射电子束的试样内的物理现象的范围的图形和示出上述物理现象的范围的大小的数值的参照像的工序；以及在用户进行上述电子束的实际的照射条件的设定时显示上述参照像的工序。
附图说明
[0012]图1是示出实施方式的扫描电子显微镜的概念图。
[0013]图2是示出第1实施例的UI(用户接口)部的图。
[0014]图3是示出元素表的一个例子的图。
[0015]图4是用于说明显示开始操作的图。
[0016]图5是示出第1实施例的参照像的图。
[0017]图6是示出加速电压设定用的弹出窗口的图。
[0018]图7是示出倾角设定用的弹出窗口的图。
[0019]图8是示出表示倾斜状态的参照像的图。
[0020]图9是示出特征X射线产生深度显示用的弹出窗口的图。
[0021]图10是示出加速电压显示用的弹出窗口的图。
[0022]图11是用于说明特征X射线产生深度的指定的图。
[0023]图12是示出第2实施例的UI部的图。
[0024]图13是用于说明深度的定义的图。
[0025]图14是示出第2实施例的参照像的图。
[0026]图15是示出表示倾斜状态的参照像的图。
[0027]图16是示出加速电压设定用的另一弹出窗口的图。
[0028]图17是示出倾角设定用的另一弹出窗口的图。
[0029]图18是示出动画显示的图。
[0030]图19是示出多个参照像的并列显示的图。
具体实施方式
[0031]以下，基于附图来说明实施方式。
[0032](1)实施方式的概要
[0033]实施方式的带电粒子束装置包含测定部、参照像生成部以及显示器。测定部对试样照射带电粒子束，检测从试样发出的信号。参照像生成部基于参照像生成用的照射条件和试样信息，生成包含模拟了试样内的信号产生范围的图形和示出信号产生范围的大小的数值的参照像。显示器在设定带电粒子束的实际的照射条件时显示包含参照像的图形用户接口图像。
[0034]根据上述构成，通过观察图形用户接口图像中的参照像，用户能一边想象或识别试样内的信号产生范围的扩展，一边设定实际的照射条件。由此，即使是关于带电粒子束或带电粒子束装置的知识贫乏的用户，也能适当地设定实际的照射条件。
[0035]在实施方式中，带电粒子束是电子束，测定部包含电子束源、检测器等。作为检测
器，可列举二次电子检测器、反射电子检测器、特征X射线检测器等。照射条件的概念包含加速电压，还包含试样倾斜角度。试样信息是关于构成试样的元素的元素信息，特别是对试样内的电子散射范围、信号产生范围有影响的物理信息。信号产生范围例如是特征X射线的产生范围、反射电子的产生范围等。可以生成包含示出多个信号产生范围的多个图形和示出多个信号产生范围的大小的多个数值的参照像。参照像也可以包含示出电子散射范围的图形和示出其大小的数值。
[0036]在实施方式中，不管实际的信号产生范围的大小的变化如何，都维持图形的尺寸，但是也可以根据实际的信号产生范围的大小的变化使图形的尺寸变化。即使图形的尺寸是固定的，通过使图形所附带的数值变化，对于用户而言，也能识别信号产生范围的大小。在实施方式中，通过图形的外形能大致识别试样内的信号产生范围的形状。不过，图形的形状、数值均是粗略估计。即使它们是粗略估计，与没有提供任何信息的情况相比，也能辅助用户对照射条件的设定。
[0037]实施方式的带电粒子束装置包含取得部和接受部。取得部取得对测定部已经设定的照射条件作为参照像生成用的照射条件。接受部接受通过图形用户接口图像输入的照射条件作为参照像生成用的照射条件。对测定部已经设定的照射条件的概念包含在控制测定部的控制部中被识别和管理的照射条件。
[0038]实施方式的带电粒子束装置包含应用部。应用部将通过图形用户接口图像输入的照射条件作为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种带电粒子束装置，其特征在于，包含：测定部(12)，其对试样(25)照射带电粒子束，检测从上述试样(25)发出的信号；参照像生成部(38、190)，其基于参照像生成用的照射条件和试样信息，生成包含模拟了上述试样(25)内的信号产生范围的图形(108、112、204)和示出上述信号产生范围的大小的数值(114、212、206、208)的参照像(82、202)；以及显示器(16)，其在上述带电粒子束的实际的照射条件的设定时，显示包含上述参照像(82、202)的图形用户接口图像(81、201)。2.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，包含：取得部(40、172)，其取得对上述测定部(12)已经设定的照射条件作为上述参照像生成用的照射条件；以及接受部(40、172)，其接受通过上述图形用户接口图像输入的照射条件作为上述参照像生成用的照射条件。3.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，包含应用部(172)，上述应用部(172)将通过上述图形用户接口图像(81、201)输入的照射条件作为上述参照像生成用的照射条件应用到上述测定部(12)。4.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，上述参照像生成用的照射条件包含加速电压，伴随着上述加速电压的变更，上述参照像(82、202)发生变化。5.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，上述参照像生成用的照射条件包含试样倾斜角度，伴随着上述试样倾斜角度的变更，上述参照像(82、202)发生变化。6.根据权利要求1所述的带电粒子束装置，其特征在于，上述...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡壁一贵，桑原博文，宫原丈知，坂田隆英，F，
申请(专利权)人：日本电子株式会社，
类型：发明
国别省市：