【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于在保持晶片翘曲覆盖率时使用不太有效像素增强数据处理吞吐量的系统及方法
[0001]相关申请案的交叉参考
[0002]本申请案根据35U.S.C.
§
119(e)主张名叫刘海伦(Helen Liu)的专利技术者于2019年7月30日申请、标题为“在保持晶片翘曲覆盖率时使用不太有效像素增强数据处理吞吐量的方法(METHODS OF ENHANCING DATA PROCESSING THROUGHPUT USING LESS EFFECTIVE PIZEL WHILE MAINTAINING WAFER WARP COVERAGE)”的序列号为62/880,341的美国临时申请案的权利，所述申请案的全部内容以引用的方式并入本文中。
[0003]本专利技术大体上涉及度量领域，且更特定来说，本公开涉及一种使用改进干涉技术来测量样本的特性的系统及方法。
技术介绍
[0004]基于干涉测量的度量方法已在半导体制造技术中用于测量包含表面高度及表面坡度的某些特征样本。例如，可使用同时测量样本表面构形的对...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种检验系统，其包括：干涉仪子系统，其经配置以获取样本的干涉图；及控制器，其经通信地耦合到所述干涉仪子系统，所述控制器包含经配置以执行经存储于存储器中的一组程序指令的一或多个处理器，所述一组程序指令经配置以引起所述一或多个处理器：从所述干涉仪子系统接收所述干涉图；基于所接收的干涉图来产生所述样本的相位图，其中所述相位图包含多个像素；选择所述相位图的所述多个像素的像素子集用于相位展开程序；对所述相位图的所述像素子集执行第一组的一或多个相位展开程序以产生展开相位图；以及基于所述展开相位图来产生所述样本的第一表面高度图。2.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述控制器进一步经配置以：选择所述相位图的所述多个像素的额外像素子集用于相位展开程序，所述额外像素子集不同于第一像素子集；对所述相位图的第二像素子集执行第二组的一或多个相位展开程序以产生额外展开相位图；以及基于所述额外展开相位图来选择性调整所述第一表面高度图的一或多个特性。3.根据权利要求2所述的检验系统，其中所述第一组的一或多个相位展开程序包含相较于所述第二组的一或多个相位展开程序的一或多个运算昂贵相位展开程序。4.根据权利要求2所述的检验系统，其中基于所述第一表面高度图来选择所述第二组的一或多个相位展开程序。5.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述第一组的一或多个相位展开程序包含最小范数程序、路径追随程序、弗林最小不连续性程序、质量导引相位展开程序或经由最大流量相位展开PUMA程序中的至少一者。6.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述第一表面高度图是与所述展开相位图成比例。7.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述干涉图的强度图对应于所述样本的表面的调制表示。8.根据权利要求1所述的检验系统，其中识别所述相位图的所述多个像素的第一像素子集用于相位展开包括：选择所述多个像素的每隔一个像素用于包含于所述第一像素子集中。9.根据权利要求1所述的检验系统，其中识别所述相位图的所述多个像素的第一像素子集用于相位展开包括：选择所述多个像素的每N个像素中的一个像素用于包含于所述第一像素子集中，其中N大于2。10.根据权利要求1所述的检验系统，其中识别所述相位图的所述多个像素的第一像素子集用于相位展开包括：从用户接口接收一或多个输入命令，所述一或多个输入命令指示所述第一像素子集的用户选择。
11.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述控制器进一步经配置以：基于所述第一表面高度图来确定所述样本的一或多个特性；及产生经配置以基于一或多个确定特性来选择性调整一或多个处理工具的一或多个特性的一或多个控制信号。12.一种检验系统，其包括：控制器，其经通信地耦合到干涉仪子系统，所述控制器包含一或多个处理器及存储器，所述一或多个处理器经配置以执行经存储于存储器中的一组程序指令，所述一组程序指令经配置以引起所述一或多个处理器：...
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