聚酰亚胺及其制造方法技术

本发明专利技术涉及聚酰亚胺及其制造方法，从而提供一种能够在保持聚酰亚胺固有特性的同时实现优异粘附力的聚酰亚胺及其制造方法。现优异粘附力的聚酰亚胺及其制造方法。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚酰亚胺及其制造方法
[0001]交叉引用与相关应用
[0002]本专利技术基于日期为2019年5月13日的韩国专利申请10
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2019
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0055736要求优先权，其公开内容通过引用全部并入本文。


[0003]本专利技术涉及聚酰亚胺及其制造方法。

技术介绍

[0004]聚酰亚胺(PI)是一种基于刚性芳香族主链的具有热稳定性的聚合物材料，其基于酰亚胺环的化学稳定性具有优异的机械性能，例如强度、耐化学性、耐候性和耐热性。
[0005]此外，聚酰亚胺具有绝缘性能和优异的电气性能，例如低介电常数，因此作为一种高功能聚合物材料而备受关注，适用于广泛的工业领域，例如电子、通信和光学。
[0006]然而，一般来说，聚酰亚胺树脂很难被认为在聚合物树脂中具有高粘附力，并且已经进行了各种研究以进一步提高粘附力。
[0007]例如，为了提高聚酰亚胺树脂的粘附力，在某些情况下尝试了限制单体含量的方法，但粘附力略有提高，而诸如伸长率和拉伸强度之类的机械性能可能降低，并且可能牺牲尺寸稳定性。
[0008]因此，需要一种新型聚酰亚胺树脂，其能够确保适当水平的玻璃化转变温度和尺寸稳定性，同时具有比传统聚酰亚胺树脂更好的粘附力。

技术实现思路

[0009]技术问题
[0010]本专利技术的目的在于提供一种聚酰亚胺及其制造方法，该聚酰亚胺能够通过解决上述常规问题实现优异的粘附力，同时保持聚酰亚胺的固有特性。
[0011]技术方案
>[0012]本专利技术涉及聚酰亚胺。本专利技术的聚酰亚胺适用于需要使用清漆(如显示器、搪瓷、半导体和粘合剂)的附着力或需要尺寸稳定性的领域。
[0013]一种示例性聚酰亚胺包含二胺单体和二酐单体聚合的聚合物，其在380nm至780nm波长区域的平均透光率在49％至61％的范围内，且550nm波长的透光率在40％至64％的范围内。在本说明书中，可使用紫外
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可见分光光度计测量透光率。在一个实例中，380nm至780nm波长区域中的平均透光率的下限可为49.5％、50％、51％、53％、54％、55％、56％或56.5％，且其上限可为60.8％、60.5％、60.3％、60％、58％、55％、53％或50％。此外，在一个实施例中，550nm波长处的透光率下限可为45％、50％、53％、54.1％、54.5％、55％、56％或58％，其上限可为63.8％、63.5％、63.3％、63％、61％、58％、56％、55％、54％或52％。在本专利技术中，通过如上所述调整聚酰亚胺的透光率，可在聚酰亚胺分子结构中形成附着力促进剂，并且相应地，具有常规低附着力的聚酰亚胺的附着力可在期望水平上实施。调整透光率
的方法不受特别限制。
[0014]在一个实例中，本专利技术的聚酰亚胺可衍生自其中二胺单体及二酐单体聚合之聚酰胺酸。在一个实施例中，衍生自聚酰胺酸的物质是指，聚酰胺酸被亚胺化以形成本专利技术的聚酰亚胺。
[0015]聚酰胺酸是聚酰亚胺前体组合物，在亚胺化时可形成长聚合物链。但是，在此过程中可能会产生短链。由于短链在组合物中充当杂质，因此粘附力降低。本专利技术可通过氧化短链来增加粘附力。在本专利技术中，由于聚酰亚胺膜的透光率降低，一些链可能被氧化。因此，通过将380nm到780nm波长区域和550nm波长区域的透光率调整到上述范围，本专利技术可以氧化聚酰亚胺分子结构中的一些链，从而提高粘附力。
[0016]在本专利技术的实施例中，本专利技术的聚合物包括第一链和比第一链短的第二链，其中第二链可处于氧化状态。如果第一链是上述聚合物长链，则第二链可以是短链。在本说明书中，长链和短链是相对的，不限制绝对值。相反，通过上述380nm到780nm波长区域和550nm波长的透光率范围，可以知道第二链是否被氧化。在一个实例中，第二链可包括在总聚合物中5wt％或更小的范围内。第二链的含量上限可为4.8wt％、4.5wt％、4.3wt％、4.0wt％、3.8wt％、3.5wt％、3.3wt％、3.0wt％、2.8wt％、2.5wt％、2.3wt％、2.0wt％、1.5wt％、1.0wt％或0.8wt％。此外，第二链含量的下限可为0wt％、0.3wt％、0.5wt％、0.7wt％、1.0wt％或1.3wt％。本专利技术可提供具有优异粘附力的聚酰亚胺，同时通过氧化的第二链保持诸如固有聚酰亚胺强度、耐化学性、耐候性和耐热性等机械性能。
[0017]可用于制备聚酰胺酸溶液的二酐单体可为芳香族四羧基二酐，其中芳香族四羧基二酐可以举出，均苯四甲酸二酐(或PMDA)、3,3',4,4'
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联苯四羧基二酐(或BPDA)、2,3,3'4'
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联苯四羧酸二酐(或a
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BPDA)、氧化二苯二甲酸二酐(或ODPA)、二苯砜
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3,4,3',4'
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四羧酸二酐(或DSDA)、双(3,4
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二羧基苯基)硫化物二酐、2,2
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双(3,4
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二羧基苯基)
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1,1,1,3,3,3
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六氟丙烷二酐、2,3,3',4'
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二苯甲酮四羧酸二酐、3,3',4,4'
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二苯四甲酸二酐(或BTDA)、双(3,4
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二羧基苯基)甲烷二酐、2,2
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双(3,4
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二羧基苯基)丙烷二酐、对亚苯基二酐(偏苯三甲酸单酯酸酐)、对联苯二甲酸(偏苯三酯酸酐)、间三联苯基
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3,4,3',4'
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四羧酸二酐、对三联苯基
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3,4,3',4'
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四羧酸二酐、1,3
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双(3,4
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二羧基苯氧基)苯二酐、1,4
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双(3,4
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二羧基苯氧基)苯二酐、1,4
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双(3,4
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二羧基苯氧基)联苯二酐、2,2
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二[(3,4
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二羧基苯氧基)苯基]丙烷二酐(BPADA)、2,3,6,7
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萘四甲酸二酐、1,4,5,8
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萘四羧酸二酐、4,4'
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(2,2
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六氟异丙基)二苯甲酸二酐等。
[0018]上述二酐单体可根据需要单独使用或与两个或两个以上单体组合使用，但考虑到上述键离解能，本专利技术包括例如均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3',4,4'
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联苯四羧酸二酐(s
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BPDA)或2,3,3',4'
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联苯四羧酸二酐(a
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BPDA)。
[0019]此外，可用于制备聚酰胺酸溶液的二胺单体为芳香族二胺，其可分类并举例如下。
[0020]1)具有相对刚性结构的二胺，如结构上具有一个苯核的二胺，例本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种聚酰亚胺，其包含二胺单体和二酐单体聚合的聚合物，其中，380nm至780nm波长区域的平均透光率在49％至61％的范围内，且550nm波长的透光率在40％至64％的范围内。2.根据权利要求1所述的聚酰亚胺，其中，所述聚合物包含第一链和比所述第一链短的第二链，并且所述第二链处于氧化状态。3.根据权利要求2所述的聚酰亚胺，其中，所述氧化的第二链占总聚合物中5wt％或更小的范围内。4.根据权利要求1所述的聚酰亚胺，其中，所述二胺单体包含3,5
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二氨基苯甲酸、3,3
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二羟基
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4,4
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二氨基联苯、2,5
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二羟基对苯二胺、4,6
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二氨基间苯二酚、1,4
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二氨基苯(PPD)、1,3
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二氨基苯(MPD)、2,4
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二氨基甲苯、2,6
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二氨基甲苯或4,4'
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亚甲基二胺(MDA)。5.根据权利要求1所述的聚酰亚胺，其中，所述二酐单体包含均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3',4,4'
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联苯四羧酸二酐(s
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BPDA)或2,3,3',4'
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联苯四羧酸二酐(a
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BPDA)。6.根据权利要求1所述的聚酰...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢京贤，黄仁焕，李翼祥，
申请(专利权)人：PI尖端素材株式会社，
类型：发明
国别省市：