水印消除方法、装置和计算机可读存储介质制造方法及图纸

技术编号:32437552 阅读:19 留言:0更新日期:2022-02-26 07:55
本公开提出一种水印消除方法、装置和计算机可读存储介质,涉及计算机技术领域。在本公开中,识别出待处理图像中的水印区域,在水印区域中识别出水印像素点,根据生成的水印像素点的相邻像素点的像素值相关的第一矩阵和生成的平滑度权重相关的第二矩阵,计算生成可以替代水印像素点的像素值的一个目标像素值,从而能够平滑地将待处理图像中的水印消除,水印消除的准确性不依赖模型的训练数据,保证了水印消除的准确性。另外,本公开的实施例不需要训练模型,提高了水印消除的效率。提高了水印消除的效率。提高了水印消除的效率。

【技术实现步骤摘要】
水印消除方法、装置和计算机可读存储介质


[0001]本公开涉及计算机
,特别涉及一种水印消除方法、装置和计算机可读存储介质。

技术介绍

[0002]在图像上添加水印是一种常用的技术,植入原始图像中的水印具有面积小、颜色浅、透明度高等特点。但是在图像识别领域中,图像中存在的水印会影响图像识别的准确率,因此,为了提高图像识别的准确率,需要消除这些水印。
[0003]在一些相关技术中,利用图像数据作为训练数据训练神经网络模型,通过预先训练好的神经网络模型来完成对水印的消除。

技术实现思路

[0004]专利技术人发现,在相关技术中,使用对预先训练好的神经网络模型来完成水印消除,水印消除的准确性严重依赖于训练神经网络模型时所使用的训练数据,模型的泛化能力较差。
[0005]据此,本公开提供一种可以准确且快速地消除水印的方法。
[0006]根据本公开的一些实施例,提供一种水印消除方法,包括:
[0007]识别待处理图像中的水印区域;
[0008]在所述水印区域中识别出水印像素点;
[0009]针对所述水印像素点中的第i个水印像素点,生成相关联的第一矩阵和第二矩阵,其中,1≤i≤N,N为识别出的水印像素点总数,所述第一矩阵包括所述第i个水印像素点及第i个水印像素点的相邻像素点的像素值,所述第二矩阵包括所述第一矩阵中每个像素点的平滑度权重;
[0010]利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值;
[0011]利用目标像素值替代第i个水印像素点的像素值,以消除待处理图像中的水印。
[0012]在一些实施例中,所述利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值包括:将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算,以得到第一结果;将所述第一结果值与所述第二矩阵的元素之和的比值,作为目标像素值。
[0013]在一些实施例中,将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算包括:将所述第二矩阵作为卷积核,进行预设的翻转处理以得到第三矩阵;将所述第一矩阵与所述第三矩阵进行相乘运算,以完成卷积运算。
[0014]在一些实施例中,生成与第i个水印像素点相关联的第一矩阵包括:将位于水印区域中的水印像素点的所有相邻像素点的像素值构成的矩阵,作为第一矩阵。
[0015]在一些实施例中,生成与第i个水印像素点相关联的第二矩阵包括:在第一矩阵中,在与第j个元素对应的像素点相邻的像素点中,统计出与所述第j个像素点具有相同像素值的像素点个数,1≤j≤M,M为第一矩阵中的元素总数;将所述像素点个数作为第j个元
素对应的像素点的平滑度权重;将第一矩阵中的所有元素对应的像素点的平滑度权重构成的矩阵,作为第二矩阵。
[0016]在一些实施例中,识别待处理图像中的水印区域包括:将待处理图像中的水印像素点的密度大于预设密度阈值的区域确定为水印区域。
[0017]在一些实施例中,识别待处理图像中的水印区域包括:在待处理图像中滑动预设的检测窗口,将所述检测窗口所确定的区域作为检测区域;判断检测区域的水印像素点的密度是否大于预设密度阈值;将水印像素点的密度大于预设密度阈值的检测区域,确定为水印区域。
[0018]根据本公开的另一些实施例,提供一种水印消除装置,其中,包括:
[0019]第一识别模块,被配置为识别待处理图像中的水印区域;
[0020]第二识别模块,被配置为在所述水印区域中识别出水印像素点;
[0021]第一生成模块,被配置为针对所述水印像素点中的第i个水印像素点,生成相关联的第一矩阵和第二矩阵,其中,1≤i≤N,N为识别出的水印像素点总数,所述第一矩阵包括所述第i个水印像素点及第i个水印像素点的相邻像素点的像素值,所述第二矩阵包括所述第一矩阵中每个像素点的平滑度权重;
[0022]第二生成模块,被配置为利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值;
[0023]水印消除模块,被配置为利用目标像素值替代第i个水印像素点的像素值,以消除待处理图像中的水印。
[0024]根据本公开的又一些实施例,提供一种水印消除装置,其中,包括:存储器;以及耦接至所述存储器的处理器,所述处理器被配置为基于存储在所述存储器中的指令,执行任一实施例所述的水印消除方法。
[0025]根据本公开的再一些实施例,提供一种非瞬时性计算机可读存储介质,其上存储有计算机程序,该程序被处理器执行时实现任一实施例所述的水印消除方法。
附图说明
[0026]下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍。根据下面参照附图的详细描述,可以更加清楚地理解本公开。
[0027]显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本公开的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1示出根据本公开的一些实施例的水印消除方法的流程示意图。
[0029]图2示出根据本公开的一些实施例的利用第一矩阵和第二矩阵生成目标像素值的流程示意图。
[0030]图3示出根据本公开的一些实施例的生成与水印像素点相关联的第二矩阵的流程示意图。
[0031]图4示出根据本公开的一些实施例的识别待处理图像中的水印区域的流程示意图。
[0032]图5示出根据本公开的一些实施例的水印消除装置的示意图。
[0033]图6示出根据本公开的另一些实施例的水印消除装置的示意图。
具体实施方式
[0034]下面将结合本公开实施例中的附图,对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0035]图1示出根据本公开的一些实施例的水印消除方法的流程示意图。该方法例如可以由水印消除装置执行。
[0036]如图1所示,该实施例的方法包括步骤101-106。
[0037]在步骤101,将待处理图像转换为HSV(Hue,Saturation,Value,即灰度、饱和度和值)格式的图像。
[0038]例如,待处理图像可以是RGB(Red,Green,Blue,即红、绿、蓝)格式的图像,将待处理图像转化为HSV格式后,可以使得图像的颜色表示更加直观,方便进行颜色的对比以及后续的运算,从而更加容易区分水印区域与非水印区域,以及对水印的平滑消除。
[0039]在步骤102,识别待处理图像中的水印区域。
[0040]在一些实施例中,将待处理图像中的水印像素点的密度大于预设密度阈值的区域确定为水印区域。
[0041]图2示出了根据本公开的一些实施例的识别待处理图像中的水印区域的流程示意图。
[0042]在一些实施例中,首先设置预设检测窗口大小的初始值(例如为3
×
3),以及预设密度阈值的初始值(例如为50%)。
[0043]在步骤201,在待处理图像中滑动预设的检测窗口,将检测窗口所确定的区域作为检测区域。
[0044]在步骤202,依次判断每个检测区域的水印像素点的密本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种水印消除方法,包括:识别待处理图像中的水印区域;在所述水印区域中识别出水印像素点;针对所述水印像素点中的第i个水印像素点,生成相关联的第一矩阵和第二矩阵,其中,1≤i≤N,N为识别出的水印像素点总数,所述第一矩阵包括所述第i个水印像素点及第i个水印像素点的相邻像素点的像素值,所述第二矩阵包括所述第一矩阵中每个像素点的平滑度权重;利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值;利用目标像素值替代第i个水印像素点的像素值,以消除待处理图像中的水印。2.根据权利要求1所述的水印消除方法,其中,所述利用所述第一矩阵和所述第二矩阵生成目标像素值包括:将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算,以得到第一结果;将所述第一结果值与所述第二矩阵的元素之和的比值,作为目标像素值。3.根据权利要求2所述的水印消除方法,其中,将所述第一矩阵与所述第二矩阵进行卷积运算包括:将所述第二矩阵作为卷积核,进行预设的翻转处理以得到第三矩阵;将所述第一矩阵与所述第三矩阵进行相乘运算,以完成卷积运算。4.根据权利要求1所述的水印消除方法,其中,生成与第i个水印像素点相关联的第一矩阵包括:将位于水印区域中的水印像素点的所有相邻像素点的像素值构成的矩阵,作为第一矩阵。5.根据权利要求1所述的水印消除方法,其中,生成与第i个水印像素点相关联的第二矩阵包括:在第一矩阵中,在与第j个元素对应的像素点相邻的像素点中,统计出与所述第j个像素点具有相同像素值的像素点个数,1≤j≤M,M为第一矩阵中的元素总数;将所述像素点个数作为第j个元素对应的像素点的平滑度权重;将第一矩阵中的...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱源
申请(专利权)人:中国电信股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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