一种显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置。该显示面板包括：设置在衬底基板上的像素限定层，像素限定层包括分隔体和多个用于容置子像素单元的开口；设置在像素限定层和子像素单元上的封装层；设置在封装层上的彩色滤光层，彩色滤光层包括对应分隔体设置的遮光层和对应子像素单元设置的色阻；其中，子像素单元自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；色阻靠近子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小。本发明专利技术公开的方案能够提高显示面板的出光效率，改善显示面板的视觉色偏问题，同时降低显示面板的反射率，增加显示面板的可观测性。的可观测性。的可观测性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]有源矩阵有机发光二极管(Active
‑
Matrix Organic Light
‑
Emitting Diode，AMOLED)显示技术是一种极具发展前景的显示技术，利用该技术制作的显示面板具有自发光、超轻薄、宽视角、响应速度快、低功耗及可实现柔性显示等优点，被广泛应用于显示领域。
[0003]现有的AMOLED显示面板通常会采用遮光层+色阻的结构来替代传统的偏光片。然而，为了更大程度地降低显示面板的反射率，色阻的面积通常会尽可能缩小、遮光层的面积通常会尽可能增大。导致黑色的遮光层在吸收环境光的同时，也阻挡了像素发出的光，从而影响显示面板的显示效果。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，能够提高显示面板的出光效率，改善显示面板的视觉色偏问题，同时降低显示面板的反射率，增加显示面板的可观测性。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括：
[0006]设置在衬底基板上的像素限定层，像素限定层包括分隔体和多个用于容置子像素单元的开口；
[0007]设置在像素限定层和子像素单元上的封装层；
[0008]设置在封装层上的彩色滤光层，彩色滤光层包括对应分隔体设置的遮光层和对应子像素单元设置的色阻；
[0009]其中，子像素单元自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；色阻靠近子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小。
[0010]如上的显示面板，可选地，色阻远离子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；或者，
[0011]色阻远离子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离均等；或者，
[0012]色阻远离子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐增大。
[0013]如上的显示面板，可选地，遮光层在衬底基板上的正投影覆盖分隔体在衬底基板上的正投影；
[0014]优选地，遮光层在衬底基板上的正投影与分隔体在衬底基板上的正投影重合。
[0015]如上的显示面板，可选地，在远离衬底基板的方向上，子像素单元包括阳极、发光层和阴极；
[0016]阳极呈球面状，阳极与其对应色阻之间的距离小于或者等于球面半径。
[0017]如上的显示面板，可选地，子像素单元包括第一颜色子像素单元、第二颜色子像素单元和第三颜色子像素单元，色阻包括第一颜色色阻、第二颜色色阻和第三颜色色阻，第一颜色子像素单元对应第一颜色色阻，第二颜色子像素单元对应第二颜色色阻，第三颜色子像素单元对应第三颜色色阻；
[0018]其中，第一颜色色阻的宽度大于第二颜色色阻的宽度，第二颜色色阻的宽度大于第三颜色色阻的宽度；
[0019]优选地，第一颜色子像素单元发出蓝光，第二颜色子像素单元发出红光，第三颜色子像素单元发出绿光。
[0020]如上的显示面板，可选地，还包括：
[0021]设置在封装层和彩色滤光层之间的触控层。
[0022]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括具有上述第一方面任一特征的显示面板。
[0023]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0024]在衬底基板上形成薄膜晶体管层；
[0025]在薄膜晶体管层上形成包括分隔体和多个开口的像素限定层，并在开口内形成子像素单元；
[0026]在像素限定层和子像素单元上形成封装层；
[0027]在封装层上形成触控层；
[0028]在触控层上形成彩色滤光层，彩色滤光层包括对应分隔体设置的遮光层和对应子像素单元设置的色阻；
[0029]其中，子像素单元自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；色阻靠近子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小。
[0030]如上的显示面板的制备方法，可选地，在薄膜晶体管层上形成包括分隔体和多个开口的像素限定层，并在开口内形成子像素单元，包括：
[0031]在薄膜晶体管层上沉积一层金属材料，并在金属材料上形成包括分隔体和多个开口的像素限定层；
[0032]对开口内露出的金属材料进行构图工艺，得到阳极；
[0033]在阳极上依次形成发光层和阴极。
[0034]如上的显示面板的制备方法，可选地，在封装层上形成触控层，包括：
[0035]在封装层上形成触控主体；
[0036]对触控主体进行构图工艺，形成对应子像素单元的凹槽，以使色阻填充凹槽。
[0037]本专利技术提供一种显示面板及其制备方法、显示装置，采用遮光层和色阻的结构，使得彩色滤光层能够替代偏光片，并通过对子像素单元和色阻的结构进行设计：1.子像素单元自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小，不仅可以增大子像素单元的发光面积，还可以令子像素单元发出的发散状的光线向中心进行汇聚，减少了照射到
遮光层上的光线，降低了遮光层对光的吸收；2.色阻靠近子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与衬底基板之间的垂直距离逐渐减小，可以将未被汇聚到色阻内的光线重新进行汇聚，进一步降低遮光层对光的吸收，使得更多的光可以从色阻内取出。同时，通过对遮光层的设计，可以合理降低显示面板的反射率，增加显示面板的可观测性，提升显示面板的显示效果。
附图说明
[0038]图1是本专利技术实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0039]图2是本专利技术实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；
[0040]图3是本专利技术实施例提供的又一种显示面板的剖面结构示意图；
[0041]图4是本专利技术实施例提供的再一种显示面板的剖面结构示意图；
[0042]图5是本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；
[0043]图6是本专利技术实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
[0044]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0045]同时，附图和实施例的描述是说明性的而不是限制性的。贯穿说明书的同样的附图标记表示同样的元件。另外，出于理解和易于描述，附图中可能夸大了一些层、膜、面板、区域等的厚度。同时可以理解的是，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称作“在”另一元件“上”时，该元件可以直接在其它元件上或者也可以存在中间元件。另外，“在
……
上”是指将元件定位在另一元件上或者在另一元件下方，但是本质上不是指根据重力方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：设置在衬底基板上的像素限定层，所述像素限定层包括分隔体和多个用于容置子像素单元的开口；设置在所述像素限定层和所述子像素单元上的封装层；设置在所述封装层上的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括对应所述分隔体设置的遮光层和对应所述子像素单元设置的色阻；其中，所述子像素单元自其边缘到中心的方向，与所述衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；所述色阻靠近所述子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与所述衬底基板之间的垂直距离逐渐减小。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述色阻远离所述子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与所述衬底基板之间的垂直距离逐渐减小；或者，所述色阻远离所述子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与所述衬底基板之间的垂直距离均等；或者，所述色阻远离所述子像素单元的一侧自其边缘到中心的方向，与所述衬底基板之间的垂直距离逐渐增大。3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述遮光层在所述衬底基板上的正投影覆盖所述分隔体在所述衬底基板上的正投影；优选地，所述遮光层在所述衬底基板上的正投影与所述分隔体在所述衬底基板上的正投影重合。4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，在远离所述衬底基板的方向上，所述子像素单元包括阳极、发光层和阴极；所述阳极呈球面状，所述阳极与其对应色阻之间的距离小于或者等于球面半径。5.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述子像素单元包括第一颜色子像素单元、第二颜色子像素单元和第三颜色子像素单元，所述色阻包括第一颜色色阻、第二颜色色阻和第三颜色色阻，所述第一颜色子像素单元对应第一颜色色阻，所述第二颜色子像素单元对应第二颜色色阻，所述第三颜色子像素单元对应第三颜色色阻；其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘俊伟，颜志敏，邓贤柱，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：