等离子体处理装置以及供电方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种等离子体处理装置,包括:处理腔室；载置台,其配置于处理腔室内；第一电极,其配置于载置台上；第二电极,其与第一电极相对配置；第一高频电源,其与第一电极连接；以及第二高频电源,其与第一电极或第二电极连接,第一高频电源在第一期间中供给第一高频电力的具有高电平和低电平的第一脉冲波或第一高频电力的连续波中的一个波形,在第二期间中供给另一波形,在转变期间中阶段性地或者连续地变更第一脉冲波的低电平,第二高频电源在第一期间中供给第二高频电力的具有高电平和低电平的第二脉冲波或第二高频电力的连续波中的一个波形,在第二期间中供给另一波形,在转变期间中阶段性地或者连续地变更第二脉冲波的低电平。的低电平。的低电平。

【技术实现步骤摘要】
等离子体处理装置以及供电方法


[0001]本专利技术涉及等离子体处理装置以及供电方法。

技术介绍

[0002]例如,专利文献1提出了以设置规定的相位差的方式对载置台施加等离子体生成用的高频电力的脉冲波、以及偏移电压用的高频电力的脉冲波。在专利文献1中,以等离子体生成用的高频电力的占空比成为偏移电压用的高频电力的占空比以上的方式进行控制。
[0003]<现有技术文献>
[0004]<专利文献>
[0005]专利文献1:日本国特开2016
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157735号公报

技术实现思路

[0006]<本专利技术要解决的问题>
[0007]本专利技术提供一种能够使等离子体稳定的等离子体处理装置以及供电方法。
[0008]<用于解决问题的手段>
[0009]根据本专利技术的一个方式,提供一种等离子体处理装置,包括:处理腔室；载置台,气配置于上述处理腔室内；第一电极,其配置于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子体处理装置,包括:处理腔室；载置台,其配置于上述处理腔室内；第一电极,其配置于上述载置台上；第二电极,其与上述第一电极相对配置；第一高频电源,其与上述第一电极连接；以及第二高频电源,其与上述第一电极或上述第二电极连接,上述第一高频电源以如下方式构成:在连续的第一期间、第二期间以及上述第一期间与上述第二期间之间的转变期间中的、上述第一期间中供给第一高频电力的具有高电平和低电平的第一脉冲波或者上述第一高频电力的连续波中的一个波形,在上述第二期间中供给上述第一脉冲波以及上述第一高频电力的连续波中的另一波形,在上述转变期间中阶段性地或者连续地变更上述第一脉冲波的低电平,上述第二高频电源以如下方式构成:在上述第一期间中供给第二高频电力的具有高电平和低电平的第二脉冲波或者上述第二高频电力的连续波中的一个波形,在上述第二期间中供给上述第二脉冲波以及上述第二高频电力的连续波中的另一波形,在上述转变期间中阶段性地或者连续地变更上述第二脉冲波的低电平。2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其中,在上述第一期间中供给上述第一高频电力的连续波以及上述第二高频电力的连续波,并且在上述第二期间中供给上述第一脉冲波以及上述第二脉冲波的情况下,上述第一高频电源以在上述转变期间中使上述第一脉冲波的低电平阶段性地或者连续地降低至事先决定的目标值的方式构成,上述第二高频电源以在上述转变期间中使上述第二脉冲波的低电平阶段性地或者连续地降低至事先决定的目标值的方式构成。3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其中,在上述第一期间中供给上述第一脉冲波以及上述第二脉冲波,并且在上述第二期间中供给上述第一高频电力的连续波以及上述第二高频电力的连续波的情况下,上述第一高频电源以在上述转变期间中使上述第一脉冲波的低电平阶段性地或者连续地提高至上述第一脉冲波的高电平或上述第一高频电力的连续波的功率电平的方式...

【专利技术属性】
技术研发人员：楠木厚毅，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：