【技术实现步骤摘要】
光学成像系统
[0001]本技术涉及一种光学成像系统,尤其涉及一种应用于电子产品上的小型化光学成像系统。
技术介绍
[0002]近年来,随着具有摄影功能的便携式电子产品的兴起,光学系统的需求日渐提高。目前的光学系统的感光组件不外乎感光耦合组件(Charge Coupled Device;CCD)或互补性氧化金属半导体元件(Complementary Metal
‑
Oxide Semiconductor Sensor;CMOS Sensor)两种,且随着半导体制程技术的精进,使得感光组件的像素尺寸缩小,光学系统逐渐往高像素领域发展,因此对成像质量的要求也日益增加。
[0003]传统搭载于便携设备上的光学系统,多采用二片或三片式透镜结构为主,然而,目前便携设备提高像素的需求不断提升,以及消费者对大光圈的需求例如微光与夜拍功能,或是对广视角的需求例如前置镜头的自拍功能。只设置大光圈的光学系统存在因为具有较大的像差致使边缘成像质量随之降低及制造难度大等缺点,而设置广视角的光学系统则存在成像畸变率(disto ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:第一透镜,具有正屈折力;第二透镜,具有负屈折力,其像侧面在光轴处为凸面;第三透镜,具有屈折力;第四透镜,具有屈折力,其物侧面在光轴处为凹面并且像侧面在光轴处为凹面;成像面;其中,所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第三透镜及所述第四透镜中至少一枚透镜具有正屈折力,所述第一透镜至所述第四透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜的物侧面至所述成像面在光轴处具有一个距离HOS,所述第一透镜的物侧面至所述第四透镜的像侧面在光轴处具有一个距离InTL,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜及所述第四透镜在1/2HEP高度且平行于光轴处的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3及ETP4,所述ETP1至ETP4的总和为SETP,所述第一透镜、所述第二透镜、所述第三透镜及所述第四透镜在光轴处的厚度分别为TP1、TP2、TP3及TP4,所述TP1至TP4的总和为STP,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.0;35deg<HAF≤45deg及0.5≤SETP/STP<1。2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜的物侧面的最大有效半径为EHD11,所述第二透镜的物侧面的最大有效半径以EHD21表示,其满足下列公式:0<EHD21/EHD11≤2.0。3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴处具有一个最大成像高度HOI,可见光在所述成像面上的光轴、0.3HOI及0.7HOI三处在空间频率为55cycles/mm时的调制转换对比转移率分别以MTFE0、MTFE3及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。4.如权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜的物侧面上在1/2HEP高度处的坐标点至所述第四透镜的像侧面上在1/2HEP高度处的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN<1。5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:TP1>TP3>TP4>TP2。6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:2≤TP1/TP2≤3。7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统满足下列条件:1.1≤HOS/f≤1.3。8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述光学成像系统在所述成像面上垂直于光轴处具有一个最大成像高度HOI,其满足下列条件:1.3≤HOS/HOI≤1.5。9.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,还包括光圈,并且在所述光圈至所述成像面在光轴处具有一个距离InS,其满足下列公式:0.92≤InS/HOS≤0.95。10.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:第一透镜,具有正屈折力;第二透镜,具有负屈折力,其像侧面在光轴处为凸面及像侧面具有至少一个反曲点;
第三透镜,具有屈折力;第四透镜,具有屈折力,其物侧面在光轴处为凹面并且像侧面在光轴处为凹面;成像面;其中,所述光学成像系统具有屈折力的透镜为四枚,所述第三透镜及所述第四透镜中至少一枚透镜具有正屈折力,所述第一透镜至所述第四透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统的入射瞳直径为HEP,所述第一透镜的物侧面至所述成像面在光轴处具有一个距离HOS,所述第一透镜的物侧面至所述第四透镜的像侧面在光轴处具有一个距离InTL,所述光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜的物侧面上在1/2HEP高度处的坐标点至所述成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,所述第一透镜的物侧面上在1/2HEP高度处的坐标点至所述第四透镜的像侧面上在1/2HEP高度处的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:1.8≤f/HEP≤2.0;35deg<HAF≤45deg及0.2≤EIN/ETL<1。11.如权利要求10所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜与所述第二透镜之间在光轴处的距离为IN12,所述第二透镜与所述第三透镜之间在光轴处的距离为IN23,所述第三透镜与所述第四透镜之间在光轴处的距离为IN34,其满足下列条件:IN34>IN12>IN23。12.如权利要求10所述的光...
【专利技术属性】
技术研发人员:张永明,赖建勋,刘燿维,
申请(专利权)人:先进光电科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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