像素阵列及其制作方法,金属掩模及其制作方法技术

一种像素阵列及其制作方法，金属掩模及其制作方法，像素阵列包括基板及位于基板上的多个第一发光材料、多个第二发光材料、多个第三发光材料及多个第四发光材料。第二发光材料的颜色和第一发光材料的颜色相同，第一发光材料和第二发光材料在一方向上交替地以第一间距及第二间距排列，第一间距不等于第二间距。第三发光材料的颜色不同于第一及第二发光材料的颜色。第四发光材料的颜色不同于第一、第二、第三发光材料的颜色。第三发光材料的颜色。第三发光材料的颜色。

【技术实现步骤摘要】
像素阵列及其制作方法,金属掩模及其制作方法


[0001]本专利技术涉及一种像素阵列及其制作方法且有关于一种金属掩模及其制作方法。

技术介绍

[0002]主动矩阵有机发光二极管(active matrix organic light
‑
emitting diode；AMOLED)是显示器技术发展的重点项目之一，目前制作方法中，可利用蒸镀的方式将有机发光材料镀覆在阵列基板上，并通过金属掩模让有机发光材料蒸镀在正确的位置。
[0003]金属掩模的制作需要使用蚀刻的方式，例如会利用到二次蚀刻来制作开口。为了因应高分辨率的产品，开口的密度需要提升。然而，开口间距离越来越短，容易在蚀刻时导致相邻的开口连通，降低了金属掩模的良率。因此，如何提高其良率并兼顾高分辨率需求，将是本领域相关技术人员重要的课题。

技术实现思路

[0004]本专利技术提供一种像素阵列及其制作方法且提供一种金属掩模及其制作方法，可制作高分辨率产品。
[0005]本专利技术一实施例的像素阵列，包括基板、多个第一发光材料、多个第二发光材料、多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种像素阵列，包括：一基板；多个第一发光材料，位于该基板上；及多个第二发光材料，位于该基板上，其中该些第二发光材料的颜色和该些第一发光材料的颜色相同，该些第一发光材料和该些第二发光材料在一方向上交替地以一第一间距及一第二间距排列，该第一间距不等于该第二间距；多个第三发光材料，位于该基板上，其中该些第三发光材料的颜色不同于该些第一及该些第二发光材料的颜色；及多个第四发光材料，位于该基板上，其中该些第四发光材料的颜色不同于该些第一、第二、第三发光材料的颜色。2.如权利要求1所述的像素阵列，其中该些第一、第二、第三及第四发光材料的颜色选自蓝色、红色及绿色的集合。3.一种像素阵列的制作方法，包括：提供一基板，该基板包括多个底电极；利用一第一金属掩模，于该些底电极的一第一区上形成多个第一发光材料；形成该些第一发光材料后，于该些底电极的一第二区上形成多个第二发光材料，该些第二发光材料的其中之一位于该些第一发光材料之间，该些第二发光材料的颜色和该些第一发光材料的颜色相同；及形成多个顶电极于该些第一发光材料及该些第二发光材料上。4.如权利要求3所述的方法，其中该第一金属掩模具有多个第一开口，该些第一开口互相错位。5.如权利要求3所述的方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：江南辉，莫尧安，陈信宏，林居广，范耀中，赖敬权，林继民，黄秉修，
申请(专利权)人：友达光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：