用于传送基底板的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于传送基底板(10)的装置(1)，基底板(10)具有由边缘面联接的两个相对的主面(11,12)，其中基底板(10)的所述主面的其中一个(12)沿着所述装置的接纳平面(RP)定位，所述接纳平面(RP)接近竖直平面，装置(1)包括：

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于传送基底板的装置


[0001]本专利技术涉及用于传送基底的装置。
[0002]更确切地，本专利技术涉及一种用于传送基底板的装置，基底板具有由边缘面联接的两个相对的主面，其中该基底板的所述主面的其中一个沿着所述装置的接纳平面定位，所述接纳平面接近竖直平面，该装置包括：
‑ꢀ
沿着传送方向并排定位的多个下辊，它们的每一个都能够围绕在传送平面中垂直于传送方向延伸的下旋转轴旋转，并且布置成接纳基底板的边缘面的一部分，
‑ꢀ
多个上辊，它们的每一个都布置成接纳基底板的所述主面的其中一个，并且能够围绕正交于所述传送方向的上旋转轴旋转。
[0003]其也涉及用于传送基底板的相关方法，涉及相关的计算机程序产品，以及包括此类计算机程序产品的相关的非易失性计算机可读取介质。

技术介绍

[0004]已知用于以一构造传送诸如玻璃板的基底板的不同装置和方法，其中基底板的主面接近竖直。它们例如用于在基底板正在被处理、例如被涂覆期间传送基底板，同时避免任何碎片或者更通常地任何不需要的物质落到被涂覆的主面上。
[00本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.用于传送基底板(10)的装置(1)，所述基底板(10)具有由边缘面联接的两个相对的主面(11,12)，其中所述基底板(10)的所述主面的其中一个(12)沿着所述装置(1)的接纳平面(RP)定位，所述接纳平面(RP)接近竖直平面，所述装置(1)包括：
‑ꢀ
沿着传送方向(D)并排定位的多个下辊(20A; 20B)，它们的每一个都能够围绕在传送平面(P)中垂直于所述传送方向(D)延伸的下旋转轴(21)旋转，并且布置成接纳所述基底板(10)的所述边缘面的一部分(14)，
‑ꢀ
多个上辊(30A; 30B)，它们的每一个都布置成接纳所述基底板(10)的所述主面的其中一个(12)，并且能够围绕正交于所述传送方向(D)的上旋转轴(31)旋转，其特征在于，所述多个上辊(30A; 30B)包括距所述传送平面(P)定位在不同高度(H1, H2, H3)处的上辊。2.根据权利要求1所述的装置(1)，其中，至少其中一个所述上旋转轴(31)支撑至少两个上辊(30A; 30B)。3.根据权利要求1和2的任一项所述的装置(1)，其中，每个上辊(30A; 30B)沿着支撑其的所述上旋转轴(31)的位置是可调整的，和/或被每个上旋转轴(31)支撑的上辊(30A; 30B)的数量是可调整的。4.根据权利要求3所述的装置(1)，其中，在传送所述基底板(10)期间每个上辊(30A; 30B)在其上旋转轴(31)上的所述位置是预定的，或者被实时调整。5.根据权利要求1到3的任一项所述的装置(1)，其中，每个上辊(30A; 30B)都包括用于接触所述基底板(10)的所述主面(12)的侧向回转表面(32A; 32B)，并且所述侧向回转表面(32A; 32B)适于从所述接纳平面(RP)移开。6.根据权利要求5所述的装置(1)，其中，所述上辊(30A; 30B)的所述侧向回转表面(32A; 32B)适于从所述接纳平面(RP)变形移开。7.根据权利要求1到6的任一项所述的装置(1)，其中，每个上旋转轴(31)都适于从所述接纳平面(RP)移开和/或移向所述接纳平面(RP)。8.根据权利要求7所述的装置(1)，其中，在传送所述基底板(10)期间，所述上旋转轴(31)适于从所述接纳平面(RP)移开或朝向所述接纳平面(RP)移动至预定设置位置，或者实时移动。9.根据权利要求1到8的任一项所述的装置(1)，其中，由相同上旋转轴(31)支撑的所述上辊(30A; 30B)具有不同的直径。10.根据权利要求9所述的装置(1)，其中，每个上辊(30A;30B)的直径通过考虑在所述基底板(10)在所述装置(1)上被传送期间所述基底板(10)的预期...

【专利技术属性】
技术研发人员：N，
申请(专利权)人：法国圣戈班玻璃厂，
类型：发明
国别省市：