边缘部平坦化设备及包括该设备的涂布干燥系统技术方案

提供一种将膜厚均匀性高的涂布膜形成于基板的边缘部平坦化设备及包括该设备的涂布干燥系统。边缘部平坦化设备(3)包括加热涂布在基板(7)的涂布液膜(8)的边缘部(49)的加热部(30)、测量边缘部(49)处的隆起的隆起测量传感器(40)、控制边缘部(49)处的涂布液膜(8)的表面张力的表面张力控制部(32、33)和控制表面张力控制部(32、33)的控制部(100)，控制部(100)用隆起测量传感器测量边缘部(49)处的隆起，同时控制表面张力控制部(32、33)并控制加热部(30)对边缘部(49)的加热以使边缘部(49)处的涂布液膜(8)的表面张力下降并抑制涂布液膜(8)的边缘部(49)处的隆起。膜(8)的边缘部(49)处的隆起。膜(8)的边缘部(49)处的隆起。

【技术实现步骤摘要】
边缘部平坦化设备及包括该设备的涂布干燥系统


[0001]本专利技术涉及边缘部平坦化设备及包括该设备的涂布干燥系统。

技术介绍

[0002]已知在形成于基板的涂布膜的膜周缘部会产生与位于比膜周缘部靠内侧的膜内周部相比隆起的现象(所谓的“带槛拉深”：edge
‑
bead)。在半导体设备的领域中，若产生带槛拉深，则在基板内能用作芯片的有效面积缩小，成品率下降。在显示屏的领域中，带槛拉深的存在会对图像品质产生直接的影响。因此，为了将膜厚均匀性高的涂布膜形成于基板，作出了各种各样的努力。
[0003]专利文献1公开了如下的涂布装置，即控制对涂布液从液体输送泵的排出和模头与基板之间的相对移动的时刻。专利文献2公开了如下的涂布装置，即在涂敷区域的周缘部预先形成线状的涂布膜，并通过线状的涂布膜对面状的涂布膜的扩展进行限制。现有技术文献专利文献
[0004]专利文献1：日本专利特开2001
‑
137764号公报专利文献2：日本专利特开2007
‑
007639号公报

技术实现思路

...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种边缘部平坦化设备，其特征在于，包括：加热部，所述加热部对涂布在基板上的涂布液膜的边缘部进行加热；隆起测量传感器，所述隆起测量传感器对所述边缘部处的隆起进行测量；表面张力控制部，所述表面张力控制部对所述边缘部处的所述涂布液膜的表面张力进行控制；以及控制部，所述控制部对所述表面张力控制部进行控制，所述控制部通过一边利用所述隆起测量传感器对所述边缘部处的所述隆起进行测量，一边对所述表面张力控制部进行控制并对由所述加热部实现的对所述边缘部的加热进行控制，以使所述边缘部处的所述涂布液膜的所述表面张力下降。2.如权利要求1所述的边缘部平坦化设备，其特征在于，对由所述加热部实现的对所述边缘部的所述加热进行控制是指，对所述加热部的输出进行控制。3.如权利要求1所述的边缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：福井慎也，横山雅树，神户寿夫，
申请(专利权)人：中外炉工业株式会社，
类型：发明
国别省市：