一种激光激发源的评估处理方法和装置制造方法及图纸

技术编号:32336274 阅读:28 留言:0更新日期:2022-02-16 18:44
本申请公开了一种激光激发源的评估处理方法和装置,该方法包括:获取分别使用多个不同厚度的PPLN晶体作为激光激发源中的光学倍频晶体时,输出的激光的第一参数;根据每个厚度的PPLN晶体对应的第一参数选择第一厚度的PPLN晶体作为所述光学倍频晶体;获取多组位置组合;获取所述多组位置组合中的每一组组合下输出的激光的第二参数;根据所述第二参数从所述多组位置组合中选择一组作为所述PPLN晶体和所述至少一个透镜在所述激光激发源中设置的位置。通过本申请解决了780nm激光的倍频如何处理在现有技术中并没有公开相关技术所导致的问题,从而能够选择合适厚度的晶体以及所设置的位置,提高了780nm激光光源的质量。提高了780nm激光光源的质量。提高了780nm激光光源的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种激光激发源的评估处理方法和装置


[0001]本申请涉及到激光领域,具体而言,涉及一种激光激发源的评估处理方法和装置。

技术介绍

[0002]太赫兹时域光谱系统的辐射源通常由飞秒脉冲激光激励光电导天线的方法获得,因此,飞秒脉冲激励源是太赫兹时域光谱系统最核心的部件之一,它决定着系统的光谱范围、动态范围和分辨率,关系到太赫兹时域光谱系统的性能、成本及产业化程度。目前国内外较为成熟的太赫兹时域光谱系统辐射源主要有两种,一种是用中心波长1560nm的飞秒光纤激光器激励光电导天线产生,但这种光电导天线基底所采用的铟镓砷(InGaAs)材料较难生长,目前只有少量公司能够批量生产,价格昂贵、供货时间长,此外InGaAs损伤阈值较低,在使用过程中容易造成太赫兹辐射源的损毁;另一种是用中心波长约为780nm的飞秒激光器激励光电导天线产生,这种天线的基底通常采用砷化镓(GaAs)材料,性能稳定、成本较低、抗损伤阈值高
[0003]专利技术人发现,780nm飞秒光纤激光器作为激励源则稳定性好、性价比高、体积小、易集成,但是对780nm的倍频如何处理在现有本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种激光激发源的评估处理方法,其特征在于,包括:获取分别使用多个不同厚度的PPLN晶体作为激光激发源中的光学倍频晶体时,输出的激光的第一参数;根据每个厚度的PPLN晶体对应的第一参数选择第一厚度的PPLN晶体作为所述光学倍频晶体;获取多组位置组合,其中,所述每组位置组合均包括第一位置和第二位置,其中,所述第一位置为所述第一厚度的PPLN晶体在所述激光激发源中所处的位置,所述第二位置为至少一个透镜在所述激光激发源中的位置;获取所述多组位置组合中的每一组组合下输出的激光的第二参数;根据所述第二参数从所述多组位置组合中选择一组作为所述PPLN晶体和所述至少一个透镜在所述激光激发源中设置的位置。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一参数和所述第二参数均包括:倍频光脉冲幅度和/或光功率。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据每个厚度的PPLN晶体对应的第一参数选择第一厚度的PPLN晶体作为所述光学倍频晶体包括:选择最大倍频光脉冲幅度对应的PPLN晶体作为所述光学倍频晶体。4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,根据所述第二参数从所述多组位置组合中选择一组作为所述PPLN晶体和所述至少一个透镜在所述激光激发源中设置的位置包括:选择光功率最大的位置组合作为所述PPLN晶体和所述至少一个透镜在所述激光激发源中设置的位置。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其特征在于,所述激光激发源使用的激...

【专利技术属性】
技术研发人员:程康郭波邱黛君张瑞锋隋峰许爱华冯忠彬张森李锋丽仵欣杨中元徐洁琼
申请(专利权)人:山东省计量科学研究院
类型:发明
国别省市:

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