【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及热处理设备和方法，以及非接触式支撑平台。
技术介绍
在现有技术中，加热或冷却半导体晶片可作为以下处理工艺的一部分淀积处理，烘干处理和加热脱气处理。平板显示器(Flat Panel Display)的生产线也利用了类似的工艺。但 是，该热处理例子并不局限在晶片或平板显示器基板，也可以用于其他物体，平坦的或非平 坦的，薄的或厚的。现有的加热或冷却晶片的系统将晶片直接地放置在卡盘上，其中卡盘被加热到所需的温 度。从而，卡盘通过热传导机构将热量传递到晶片。使卡盘到达稳定状态温度，需要相对较长的升温时间。这样，由于增加/降低卡盘的温度 需要相对较长的时间，在晶片需要不同温度的处理中可能需要利用几个预热的卡盘。由于热点或冷点的存在，晶片的温度分布可能不均匀，导致这种情况在于卡盘和晶片的 局部接触。同样，与卡盘接触的晶片表面的不规则也可能导致晶片的加热或冷却不均匀。此外，晶片和卡盘的接触可能会损坏晶片。加热或冷却过程中，晶片的热膨胀或收縮可 能导致晶片和卡盘间的滑移，而使晶片背面污染和/或划伤。
技术实现思路
一种热处理系统，包括至少一个热处理设备，该设备包括至少...
【技术保护点】
一种热处理系统，包括至少一个用于热处理物体的装置，该装置包括： 至少一对基本相对的平台中的一个，其中至少一个平台，该平台具有至少一个加热机构，用于加热或冷却物体；和至少一个平台具有流体机械机构，用于非接触地支撑物体，该平台具有活动表面，该活动表面包含至少多个基本单元中的一个基本单元，每个基本单元具有至少多个压力出口中的一个和至少多个流体排泄通道中的一个，每个基本单元的至少一个压力出口通过限流器与高压流体源连通，压力出口提供加压流体用于保持物体和平台表面间的流体垫，限流器表现为流体复位弹簧的作用；每个所述至少多个流体排泄通道中的一个，具有入口和出口，用于所述至少多个中的一个基...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：宇弗雅索，阿里哈尼克，希勒莱克曼，
申请(专利权)人：科福罗科学解决方案有限公司，
类型：发明
国别省市：IL[以色列]
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