【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微电子封装领域的微互联技术,具体地说是可焊性良好的铁镍镀 层作为微电子封装中焊料凸点连接金属化(过渡)层及其应用,适用于一般微电 子连接中基板和印刷电路板焊盘上、以及芯片倒装焊互联中焊料凸点下的金属化 过渡层的制作
技术介绍
半导体集成电路元件被称为"工业之米"。但在一般情况下,人们所使用的是 带有外壳的封装体。电子封装具有机械支撑、电气连接、外场屏蔽、应力缓和、 散热防潮等多种功能。现今,电子设备迅速轻、薄、短、小型化促进电子封装产 业的快速发展。特别是芯片性能的不断提高,对电子封装密度提出更高的要求。这主要表现在封装的引脚数越来越多;布线节距越来越小;封装厚度越来越薄; 封装体所占面积比例越来越大等。在电子封装工程的四大基础技术,即薄厚膜技术、微互联技术、^t技术、 封接与封装技术中,微互联技术起着呈上启下的作用。无论芯片装连到载体上, 还是封装体实装到^i上,都要用到微互联技术。倒装焊微互联(FCB)技术是 在整个芯片表面按栅阵形状布置1/0端子,芯片直接以倒扣方式安装到布线板上, 通过栅阵l/0端子与布线板上相应的电极焊盘实现电气 ...
【技术保护点】
微电子封装中焊料凸点连接金属化层,其特征在于:该金属化层为铁、镍元素共沉积的合金层,铁重量百分比为5-80%,余量为镍及不可避免杂质。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:祝清省,郭建军,张新房,张磊,郭敬东,尚建库,
申请(专利权)人:中国科学院金属研究所,
类型:发明
国别省市:89[中国|沈阳]
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