一种一体瓦制造技术

本实用新型专利技术涉及屋面瓦片技术领域，具体涉及一种一体瓦，包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体，所述板瓦体具有朝向上方的上瓦面组和朝向下方的下瓦面组，所述上瓦面组上固定有上限位部，所述下瓦面组上固定有下限位部。该专利中的下限位部能够提高板瓦体与屋面之间的阻力，避免所述一体瓦从屋面滑落；上限位部能够实现一体瓦与旁边瓦片之间的抵靠，进一步避免所述一体瓦从屋面滑落，同时提高了一体瓦与旁边瓦片之间的紧密度，从而提高屋面上整个盖瓦层的整体性，进一步防止屋面渗漏。进一步防止屋面渗漏。进一步防止屋面渗漏。

【技术实现步骤摘要】
一种一体瓦


[0001]本技术涉及屋面瓦片
，具体涉及一种一体瓦。

技术介绍

[0002]在屋面上铺设瓦片时，通常是自下而上连续排列并堆叠形成连续的盖瓦层，这一条连续的瓦片集合由多块单独的瓦片组成，这种瓦片和瓦片铺设方式是十分传统的建筑技术。但由于瓦片需要一片一片堆叠，所以导致瓦片的铺设效率较低，建筑工人在铺设瓦片时费时费力；同时，每块瓦片都是单独的存在，导致盖瓦层中重力分散，铺设在有坡度屋面上的瓦片会在自重、振动、风吹、动物走动等因素作用下产生移动，导致盖瓦层的紧密性被破坏，从而引发屋面渗漏。针对上述问题，市面上出现了由多块单独瓦片组合而成的一体式瓦片，如申请号为201820654283.5的中国专利所公开的一种一体式小青瓦块状纵向梯次重叠组合体，由两块以上的弧形瓦依次长轴纵向对齐并重叠组合为整体，并且组合体的第一梯面和最后梯面上设有用于与相邻的组合体连接的孔和卡扣。
[0003]上述专利将两块以上的单块瓦组合为一个组合体，所述组合体增强了瓦片抗松动、移动和下沉的能力，同时提高了铺设效率。但所述组合体在结构形式上仍为多块瓦片堆叠形成，相较于传统的瓦片堆叠仅仅在于互相堆叠的瓦片连接为一体，从宏观上看仍为一块传统的瓦片，只是整体长度得到加长，其稳定性并没有得到显著的提高；同时在铺设时不同组合体之间只能纵向连接，不能横向并排连接，导致由所述组合体铺设完成的盖瓦层整体紧密性较差，易发生屋面渗漏。

技术实现思路

[0004]本技术对上述技术问题做出改进，即本技术所要提供的技术方案是一种一体瓦，包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体，所述板瓦体具有朝向上方的上瓦面组和朝向下方的下瓦面组，所述上瓦面组上固定有上限位部，所述下瓦面组上固定有下限位部。
[0005]作为本技术的优选，所述上瓦面组为一个连续的面，所述上限位部突出在所述上瓦面组上；所述下瓦面组为一个连续的面，所述下限位部突出在所述下瓦面组上。
[0006]作为本技术的优选，所述上瓦面组由至少两个离散的上瓦面组成，所述上瓦面沿所述板瓦体的延伸方向均匀排列，并且所述上瓦面的高度依序降低。
[0007]作为本技术的优选，所述上限位部在左右方向上的位置处于相邻两个所述上瓦面之间。
[0008]作为本技术的优选，所述上限位部在上下方向上位于相邻两个所述上瓦面之间。
[0009]作为本技术的优选，所述上瓦面中在前后方向上的中间区域朝下方凹陷形成左右贯通的排水槽。
[0010]作为本技术的优选，所述下瓦面组由若干个离散的下瓦面组成，所述下瓦面
的数量与所述上瓦面相同，所述下瓦面沿所述板瓦体的延伸方向均匀排列，并且所述下瓦面的高度依序降低。
[0011]作为本技术的优选，所述下限位部在左右方向上的位置处于相邻两个所述下瓦面之间，所述下限位部在上下方向上位于相邻两个所述下瓦面之间。
[0012]作为本技术的优选，所述下瓦面中在前后方向上的中间区域朝下方拱起。
[0013]作为本技术的优选，所述上瓦面的前后两侧区域开设有供所述板瓦体的前后两侧边缘嵌入的插接槽。
[0014]有益效果：
[0015]1)下限位部能够提高板瓦体与屋面之间的阻力，避免所述一体瓦从屋面滑落；
[0016]2)上限位部能够实现一体瓦与旁边瓦片之间的抵靠，进一步避免所述一体瓦从屋面滑落，同时提高了一体瓦与旁边瓦片之间的紧密度，从而提高屋面上整个盖瓦层的整体性，进一步防止屋面渗漏。
附图说明
[0017]图1为本技术一种一体瓦中所述上瓦面组采取第二种实施例的示意图；
[0018]图2为所述一体瓦中所述上瓦面组采取第一种实施例的示意图；
[0019]图3为所述一体瓦中所述下瓦面组采取第一种实施例的示意图；
[0020]图4为所述一体瓦中所述下瓦面组采取第二种实施例的示意图；
[0021]图5为第二种实施例中板瓦体的截面图；
[0022]图6为正向铺设的一体瓦和反向铺设的一体瓦阶梯型结构相契合的示意图；
[0023]图中：1、板瓦体，2、上瓦面组，21、上瓦面，22排水槽，3、下瓦面组，31、下瓦面，4、上限位部，5、下限位部。
具体实施方式
[0024]以下具体实施例仅仅是对本技术的解释，其并不是对本技术的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，但只要在本技术的权利要求范围内都受到专利法的保护。
[0025]图2和图3示出本技术一种一体瓦，包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体1，所述板瓦体1具有朝向上方的上瓦面组2和朝向下方的下瓦面组3，所述上瓦面组2上固定有上限位部4，所述下瓦面组3上固定有下限位部5。本实施例中所述板瓦体1呈平铺状，其长度体现在左右方向上，其宽度体现在前后方向上，并且长度至少为宽度的两倍及以上。所述板瓦体1为一块完整的瓦片，在制造时采用一体成型工艺，因此所述板瓦体1制造方便，且其紧密性和完整性较好、强度较高，不易发生断裂，不易造成屋面渗漏。在实际使用中，需要将所述一体瓦放置到屋面上，而通常情况屋面呈倾斜状，因此放置到屋面上的所述一体瓦也呈倾斜状，传统的瓦片通过连续堆叠实现瓦片放置的稳定，而本技术的所述一体瓦通常直接铺设在屋面上，因此所述板瓦体1的下瓦面组3上固定有下限位部5，所述下限位部5能够提高板瓦体1与屋面之间的阻力，避免所述一体瓦从屋面滑落。所述板瓦体1的上瓦面组2上固定有上限位部4，因为多块所述一体瓦并排铺设在屋面上后，相邻的一体瓦之间通常还需铺设筒瓦等其余瓦片，所以所述上限位部4能够实现一体瓦与旁边瓦片之间
的抵靠，进一步避免所述一体瓦从屋面滑落，同时提高了一体瓦与旁边瓦片之间的紧密度，从而提高屋面上整个盖瓦层的整体性，进一步防止屋面渗漏。
[0026]所述上瓦面组2和所述下瓦面组3的设计有两种实施例，第一种实施例中，所述上瓦面组2为一个连续的面，所述下瓦面组3也为一个连续的面，这样不仅能够降低板瓦体2的制造难度，从而降低制造成本，而且还有利于所述一体瓦的排水。在上述实施例中，所述上限位部4突出在所述上瓦面组2上，所述下限位部5突出在所述下瓦面组3上，其中所述上限位部4具有两种实施方式，第一种实施方式中所述上限位部4为沿前后方向延伸并横在所述上瓦面组2上的条形突出部，但所述上瓦面组2在左右方向上被所述上限位部4隔断，不利于上瓦面组2的排水，易造成雨水堆积而导致屋面渗漏；第二种实施方式中所述上限位部4包括两个在所述上瓦面组2前后两侧边缘位置的突出部，这样就使得所述上限位部4中间形成有供雨水流通的缺口，这样既满足了一体瓦与相邻的其余瓦片之间的抵靠拼接，又保证了雨水流动的顺畅。考虑到所述一体瓦有时需正反面两用，即在铺设时所述下瓦面组3朝上而上瓦面组2朝下，所以优选所述下限位部5在下瓦面组3上的实施方式与所述上限位部4在上瓦面组2上的实施方式一致。
[0027]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种一体瓦，其特征在于，包括沿左右方向直线延伸并呈长直板状的板瓦体（1），所述板瓦体（1）具有朝向上方的上瓦面组（2）和朝向下方的下瓦面组（3），所述上瓦面组（2）上固定有上限位部（4），所述下瓦面组（3）上固定有下限位部（5）。2.根据权利要求1所述的一种一体瓦，其特征在于，所述上瓦面组（2）为一个连续的面，所述上限位部（4）突出在所述上瓦面组（2）上；所述下瓦面组（3）为一个连续的面，所述下限位部（5）突出在所述下瓦面组（3）上。3.根据权利要求1所述的一种一体瓦，其特征在于，所述上瓦面组（2）由至少两个离散的上瓦面（21）组成，所述上瓦面（21）沿所述板瓦体（1）的延伸方向均匀排列，并且所述上瓦面（21）的高度依序降低。4.根据权利要求3所述的一种一体瓦，其特征在于，所述上限位部（4）在左右方向上的位置处于相邻两个所述上瓦面（21）之间。5.根据权利要求4所述的一种一体瓦，其特征在于，所述上限位部（4）在上下方向上位于...

【专利技术属性】
技术研发人员：钱青松，
申请(专利权)人：钱青松，
类型：新型
国别省市：