一种中低砷污染水体的植物修复治理方法技术

本发明专利技术涉及一种中低砷污染水体的植物修复治理方法，包括以下步骤：S1.蜈蚣草育苗：幼苗长至15~30cm，备用；S2.处理槽构建：采用非透明塑料板搭建水槽，水面设计对应的非透明塑料盖板，从边角开始每隔10

【技术实现步骤摘要】
一种中低砷污染水体的植物修复治理方法


[0001]本专利技术涉及水污染治理
，尤其涉及一种中低砷污染水体的植物修复治理方法。

技术介绍

[0002]随着全球工业化进程的加快，工业废水排放不当和电子垃圾的随意丢弃造成了水体重金属污染越发严重。水体砷污染问题一直受到广泛关注，砷污染对鱼、虾类等会造成严重危害，且采用砷污染水体进行农业灌溉将会导致作物对砷进行富集放大。受砷污染的水产品和农产品一旦被人们食用，将会导致砷在人体内的积累，从而存在造成肾脏损伤、心血管损伤和致癌的风险。地下水砷污染问题同样很严重，据报道，世界各地的饮用水中砷含量超标，如阿根廷、孟加拉国、智利、中国、匈牙利、印度、墨西哥、尼泊尔和美国(Ahmad et al.,2018)。全球关注的焦点主要集中在水中砷含量是否超过其安全限值0.01mg
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‑1(WHO，2018)，大约有50多个国家和地区，1.4亿人口暴露于砷含量大于0.01mg
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‑1的砷污染地下水(Bagchi， 2007)。大多数研究报道淡水砷污染处于&a本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种中低砷污染水体的植物修复治理方法，其特征在于包括以下步骤：S1. 蜈蚣草的育苗：将成熟的蜈蚣草孢子撒播于培养基质表面，控制温度、湿度和光照强度，待幼苗长到2~3cm后，将幼苗进行分盆移栽，直至长到15~30cm，即可用于修复；S2. 中低砷污染水体处理槽的构建：采用非透明塑料板搭建水槽（1），水面设计对应的非透明塑料盖板（2），从边角开始每隔10
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10cm位置中心钻出直径为2~5cm的蜈蚣草固定孔（3），并在水槽（1）左右侧分别设置进水口（4）和出水口（5），水槽（1）中设置增氧泵（6）；S3. 中低砷污染水体的注入：先关闭出水口（5）的阀门，将待修复的中低砷污染水体通过进水口（4）引入水槽（1）中，待水深涨至10cm后，关闭进水口（4）的阀门；S4. 水体的调配：测定水槽（1）的水体中砷的浓度，接着在水体中加入硒酸钠，并搅拌混合均匀，其中硒酸钠的加入量使得水体中砷硒摩尔比在（5.2~26.6）:1之间；S5. 蜈蚣草的植入：将S1培育的蜈蚣草用定植棉移植于盖板（2）上的蜈蚣草固定孔（3）中，保持盖板（2）与水面之间距离0.5cm，打开增氧泵（6）给水体曝气；S6. 中低砷污染水体的修复治理检测：蜈蚣草移植2
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3月后，对水体砷浓度进行测定，若其含量低于0.5 mg
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‑1，则可进行安全排放，若其含量仍高于0.5 mg
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【专利技术属性】
技术研发人员：马奇英，戴志华，管冬兴，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：