精密掩膜板和掩膜板制造技术

本发明专利技术公开了一种精密掩膜板和掩膜板，精密掩膜板包括掩膜板主体，掩膜板主体包括至少一个蒸镀区域、至少部分围绕蒸镀区域的遮挡区域以及围绕蒸镀区域和遮挡区域的边缘区域，其中，蒸镀区域包括多个精密蒸镀孔，边缘区域包括多个边缘区开孔，遮挡区域包括多个凹槽。本申请中提供的精密掩膜板中，由于遮挡区域、边缘区域和各蒸镀区域的支撑强度差异小，从而可以在对精密掩膜板进行张网的过程中，使得各个区域受到的应力差异减小，从而降低张网后精密掩膜板出现褶皱的概率，提升产品良率。提升产品良率。提升产品良率。

【技术实现步骤摘要】
精密掩膜板和掩膜板


[0001]本专利技术属于蒸镀设备
，尤其涉及一种精密掩膜板和掩膜板。

技术介绍

[0002]现在，OLED(Organic Light
‑
Emitting Diode，有机电致发光二极管)显示面板在制备中，采用蒸镀工艺形成发光材料层，蒸镀过程中需要使用精密掩膜板，精密掩膜板在张网后存在褶皱问题、影响产品良率。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例提供了一种精密掩膜板和掩膜板，本申请中提供的精密掩膜板在张网后出现褶皱的概率大大降低，提升了产品良率。
[0004]一方面，本专利技术实施例提供了一种精密掩膜板，包括掩膜板主体，所述掩膜板主体包括至少一个蒸镀区域、至少部分围绕所述蒸镀区域的遮挡区域以及围绕所述蒸镀区域和遮挡区域的边缘区域，其中，所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀孔，所述边缘区域包括多个边缘区开孔，所述遮挡区域包括多个凹槽。
[0005]根据本申请第一方面的前述任意实施方式，所述遮挡区域内所述凹槽的排布方式与所述蒸镀区域内所述精密蒸镀孔的排布方式相同，和/或，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种精密掩膜板，其特征在于，包括掩膜板主体，所述掩膜板主体包括至少一个蒸镀区域、至少部分围绕所述蒸镀区域的遮挡区域以及围绕所述蒸镀区域和遮挡区域的边缘区域，其中，所述蒸镀区域包括多个精密蒸镀孔，所述边缘区域包括多个边缘区开孔，所述遮挡区域包括多个凹槽。2.根据权利要求1所述的精密掩膜板，其特征在于，所述遮挡区域内所述凹槽的排布方式与所述蒸镀区域内所述精密蒸镀孔的排布方式相同，和/或，所述边缘区域内所述边缘区开孔的排布方式与所述蒸镀区域内所述精密蒸镀孔的排布方式相同。3.根据权利要求2所述的精密掩膜板，其特征在于，至少部分所述边缘区开孔的形状和大小相同；优选的，至少部分边缘区开孔与所述精密蒸镀孔的形状和大小相同。4.根据权利要求1所述的精密掩膜板，其特征在于，所述精密掩膜板包括用于与蒸镀源相对的蒸镀面以及背离所述蒸镀面一侧的玻璃面，所述精密蒸镀孔包括沿所述精密掩膜板厚度方向排列的第一半刻孔和第二半刻孔，所述第一半刻孔和所述第二半刻孔相连通，所述第一半刻孔包括位于所述玻璃面的第一开口，所述第二半刻孔包...

【专利技术属性】
技术研发人员：邱岳，王子豪，李伟丽，韩冰，李文星，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：