一种固定圈层局部抽注修复的方法技术

本发明专利技术提供了一种固定圈层局部抽注修复地下水修复方法，属于地下水处理技术领域。包括以下步骤：对地浸采铀采场的未达标抽液井进行抽液，同时对周围钻井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水，所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液，所述固定圈层井的排列顺序为局部范围外围注，中间抽。本发明专利技术针对局部有个别孔没有达到修复标准的问题，采用固定圈层局部抽注技术。以没有达标的钻孔为中心进行抽液，选取周围的钻孔进行注液，进行局部的抽注液作业。这样可以加强对局部地下水的修复效果，最终达到修复局部不达标钻孔的目的。的。的。

【技术实现步骤摘要】
一种固定圈层局部抽注修复的方法


[0001]本专利技术涉及地下水处理
，尤其涉及一种固定圈层局部抽注修复的方法。

技术介绍

[0002]经过几十年的发展，酸法地浸采铀试验取得了重大突破，经扩大试验、工业性试验，矿床成为了地浸采铀试验基地。但酸法地浸所带来的主要环境问题为矿区矿段局部地区地下水受到一定程度污染。
[0003]从2010年开始，酸法地浸试验全部停止，但为了防止地下水污染物的进一步扩散，一直维持对井场地下水进行抽取、处理。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种固定圈层局部抽注修复的方法。本专利技术能够加强对局部地下水的修效果，最终达到修复局部不达标钻孔的目的。
[0005]为了实现上述专利技术目的，本专利技术提供以下技术方案：
[0006]本专利技术提供了一种固定圈层局部抽注修复的方法，包括以下步骤：
[0007]对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水，同时对抽液井进行抽液，所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液，所述固定圈层井的排列顺序为局部范围，所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间，所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。
[0008]优选地，所述硫化钠溶液的pH值为8.0～10.5。
[0009]优选地，所述硫化钠溶液的注入速率确保全部注入所需要修复的含水层中，且不导致从注液井溢出。
[0010]优选地，所述地浸采铀基地进行多圈井注入水前，还包括依次进行单抽清洗、采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复、抽注互换和用碱性还原原位修复。
[0011]优选地，所述采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复优选为对地浸采铀基地的抽液孔抽出地下水的同时，对地浸采铀基地的注液孔注入水。
[0012]优选地，所述碱性还原原位修复使用的还原剂为硫化钠。
[0013]优选地，所述硫化钠以硫化钠水溶液的形式加入，所述硫化钠水溶液的 pH值为8.0～10.5。
[0014]优选地，所述单抽清洗使用被污染地下水，所述被污染地下水来源于进行酸法地浸采铀工程污染的地下水。
[0015]本专利技术提供了一种固定圈层局部抽注修复的方法，包括以下步骤：对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水，同时对抽液井进行抽液，所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液，所述固定圈层井的排列顺序为局部范围，所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间，所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。本专利技术对地浸采铀基地的未达到修
复目标值的抽液井进行抽液，同时对周围钻井注入硫化钠溶液进行固定圈层局部抽注修复。
[0016]本专利技术针对局部有个别孔没到达到修复标准的问题，采用固定圈层局部抽注技术。以没有达标的钻孔为中心进行抽液，选取周围的钻孔进行注液，进行局部的抽注液作业。这样可以加强对局部地下水的修效果，最终达到修复局部不达标钻孔的目的。经过本专利技术的处理后，钻孔中污染物(U和Ra) 浓度显著下降。
附图说明
[0017]图1为实施例1中抽注液分布图(18号为抽液井，17号、19号、28为注液井)；
[0018]图2为实施例1中抽注液分布图(32号为抽液井，17号、45号和47号为注液井)；
[0019]图3为实施例1中固定圈层局部抽注修复后18号抽液井pH和Ra浓度随时间变化图；
[0020]图4为实施例1中固定圈层局部抽注修复后32号抽液井pH和Ra浓度随时间变化图。
具体实施方式
[0021]本专利技术提供了一种固定圈层局部抽注修复的方法，包括以下步骤：
[0022]对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水，同时对抽液井进行抽液，所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液，所述固定圈层井的排列顺序为局部范围，所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间，所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。
[0023]在本专利技术中，所述硫化钠溶液的pH值优选为8.0～10.5。
[0024]在本专利技术中，所述硫化钠溶液的注入速率优选确保全部注入所需要修复的含水层中，且不导致从注液井溢出。
[0025]在本专利技术中，所述固定圈层井的排列顺序优选为局部范围外围注，中间抽。
[0026]在本专利技术中，所述地浸采铀基地的地浸井场中包括257个钻孔、被污染地下水范围25300平方米，被污染地面11843平方米、被污染建筑物3004.8 平方米及被污染设备器材。
[0027]所述固定圈层局部抽注修复前，所述地浸采铀基地优选依次进行单抽清洗、采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复、抽注互换和用碱性还原原位修复。
[0028]在本专利技术中，所述单抽清洗的时间优选为0.5年。
[0029]本专利技术采用单抽清洗快速降解技术，只抽不注，在可利用的116个钻孔中选取了水量较大的38个钻孔作为全局抽液钻孔，总抽液量180m3/d，通过抽液，以便在地下水污染范围内形成降落漏斗，使污染范围以外的地下水进入漏斗范围以内，该阶段持续时间为0.5年。
[0030]在本专利技术中，所述采用抽污注清置换修复技术对地下水进行修复优选为对地浸采铀基地的抽液孔抽出地下水的同时，对地浸采铀基地的注液孔注入水。
[0031]在本专利技术中，所述置换修复的时间优选为0.5～5年，更优选为2年。
[0032]在本专利技术中，所述置换修复的总处理量优选为38.5万m3。
[0033]在本专利技术中，所述抽液孔中污染物浓度优选大于注液孔，所述抽液孔优选为污染物浓度较大的钻孔。
[0034]在本专利技术中，所述注液孔优选为抽液孔周围污染物浓度较低或者达标的钻孔。
[0035]在本专利技术中，所述抽出地下水中天然铀、镭
‑
226和非放射性污染物的浓度优选高于含矿水层中天然铀、镭
‑
226和非放射性污染物的浓度。
[0036]在本专利技术中，所述注入水优选为污染物浓度达标的清水。
[0037]本专利技术优选抽出受污染的地下水，经地表处理后回注地下或者达标后外排，同时注入清洁水以置换污染的地下水，注入的水优选来自地表处理后的清洁水或者外来清洁水。
[0038]在本专利技术中，所述抽注互换优选将局部抽液孔改为注液孔，在本专利技术的具体实施例中，将DK0903、DK0713、DK0805、DK0005、DK0717、DK0016、 DK0510、DK0613、DK0607、DK0601、DK0204、DK0604、DK9018、DK15、 ZK1003抽液孔改为注液孔，将DK0902、DK0813、DK0716、DK0508、DK0010、 DK0712、DK0015、DK0014、DK0606、DK0205、DK0603、XZ12、XZ5、 XZ19、XZ21本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种固定圈层局部抽注修复的方法，其特征在于，包括以下步骤：对地浸采铀基地的外围钻井进行固定圈层井注入沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水，同时对抽液井进行抽液，所述沉淀剂溶液、还原剂溶液或清水的注入速率根据注液井的情况通过高差进行自流注液或采用注液泵注液，所述固定圈层井的排列顺序为局部范围，所述抽液井位于所述地浸采铀基地的中间，所述还原剂溶液包括硫化钠溶液。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硫化钠溶液的pH值为8.0～10.5。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述硫化钠溶液的注入速率确保全部注入所需要修复的含水层中，且不导致从注液井溢出。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述地浸采铀采场进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐乐昌，周磊，白云龙，吴名涛，江国平，
申请(专利权)人：核工业北京化工冶金研究院，
类型：发明
国别省市：