【技术实现步骤摘要】
一种石墨降膜吸收器的气液分布器
[0001]本专利技术涉及降膜吸收器领域,具体为一种石墨降膜吸收器的气液分布器。
技术介绍
[0002]石墨降膜吸收器是一种常用的气体处理吸收设备,其采用不透性石墨为主体,在降膜管内利用吸收液形成螺旋状扰动液膜下降,吸收通入气体中的可溶性气体,现有的石墨降膜吸收器由气液分布器、吸收冷却段和气液分离器三部分组成,通过企业分布器,使得吸收液和气体均匀的流向每根降膜管中,以便每根降膜管吸收气体均匀充分,主要用于HCl气体吸收以制取盐酸,也可用于NH3、SO3、H2S等腐蚀性气体的吸收或分离。
[0003]然而,现有的石墨降膜吸收器的气液分布器中,仅仅采用溢流管的方式,使得吸收液能够均匀的流入降膜管内,并不能根据需要调节降膜管内进气量和进液量,在吸收液吸收不同气体HCl气体、NH3、SO3、H2S时,各气体的可溶性是不同的,从而无法针对不同气体进行高效的吸收,且吸收液流入降膜管内,容易受溢流面不稳定影响,每个降膜管内进入的吸收液量过多或过少,影响后续每根降膜吸收效果的问题。
专利技术内 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种石墨降膜吸收器的气液分布器,包括吸收器顶盖(1)和吸收器壳体(2),吸收器顶盖(1)设于吸收器壳体(2)的顶部,吸收器顶盖(1)侧面的底部和顶端的中部分别设有进液口(101)和进气口(102),吸收器壳体(2)的顶部设有位于吸收器顶盖(1)内部的列管板(3),列管板(3)上设有位于吸收器壳体(2)内的若干降膜管(4),且降膜管(4)的顶端位于进液口(101)的上方,其特征在于:所述吸收器顶盖(1)内腔的中部固定套装有定位板(5),且定位板(5)上开设有上位通孔(501),吸收器顶盖(1)内还活动套装有位于定位板(5)下方的活动滑板(6),所述活动滑板(6)上开设有与降膜管(4)数量相同的中间通孔(601),所述活动滑板(6)的底部设有位于降膜管(4)外侧的浮环(7),浮环(7)顶部的两侧均固定连接有联动轴(701),所述吸收器顶盖(1)内腔的顶部设有对联动轴(701)进行限位调节的限位机构(8)。2.根据权利要求1所述的一种石墨降膜吸收器的气液分布器,其特征在于:所述上位通孔(501)与中间通孔(601)错位分布,且中间通孔(601)位于(401...
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