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一种石墨降膜吸收器的气液分布器制造技术

技术编号:32276129 阅读:24 留言:0更新日期:2022-02-12 19:41
本发明专利技术涉及降膜吸收器领域,且公开了一种石墨降膜吸收器的气液分布器,包括吸收器顶盖和吸收器壳体,吸收器顶盖设于吸收器壳体的顶部,吸收器顶盖侧面的底部和顶端的中部分别设有进液口和进气口,吸收器壳体的顶部设有位于吸收器顶盖内部的列管板。通过吸收器顶盖内进液口和进气口之间固定的定位板以及活动的活动滑板的结构设计,配合中间通孔与上位通孔的错位分布,对流经上位通孔至降膜管内的气体量进行限定,从而便于控制降膜管进气量和进液量之间的多少,以便使用不同吸收液吸收不同废气时,能够使得进入到降膜管内形成液膜的吸收液更彻底的吸收待处理气体中的可溶性气体,从而提高降膜吸收的效率和效果。提高降膜吸收的效率和效果。提高降膜吸收的效率和效果。

【技术实现步骤摘要】
一种石墨降膜吸收器的气液分布器


[0001]本专利技术涉及降膜吸收器领域,具体为一种石墨降膜吸收器的气液分布器。

技术介绍

[0002]石墨降膜吸收器是一种常用的气体处理吸收设备,其采用不透性石墨为主体,在降膜管内利用吸收液形成螺旋状扰动液膜下降,吸收通入气体中的可溶性气体,现有的石墨降膜吸收器由气液分布器、吸收冷却段和气液分离器三部分组成,通过企业分布器,使得吸收液和气体均匀的流向每根降膜管中,以便每根降膜管吸收气体均匀充分,主要用于HCl气体吸收以制取盐酸,也可用于NH3、SO3、H2S等腐蚀性气体的吸收或分离。
[0003]然而,现有的石墨降膜吸收器的气液分布器中,仅仅采用溢流管的方式,使得吸收液能够均匀的流入降膜管内,并不能根据需要调节降膜管内进气量和进液量,在吸收液吸收不同气体HCl气体、NH3、SO3、H2S时,各气体的可溶性是不同的,从而无法针对不同气体进行高效的吸收,且吸收液流入降膜管内,容易受溢流面不稳定影响,每个降膜管内进入的吸收液量过多或过少,影响后续每根降膜吸收效果的问题。
专利技术内
[000本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种石墨降膜吸收器的气液分布器,包括吸收器顶盖(1)和吸收器壳体(2),吸收器顶盖(1)设于吸收器壳体(2)的顶部,吸收器顶盖(1)侧面的底部和顶端的中部分别设有进液口(101)和进气口(102),吸收器壳体(2)的顶部设有位于吸收器顶盖(1)内部的列管板(3),列管板(3)上设有位于吸收器壳体(2)内的若干降膜管(4),且降膜管(4)的顶端位于进液口(101)的上方,其特征在于:所述吸收器顶盖(1)内腔的中部固定套装有定位板(5),且定位板(5)上开设有上位通孔(501),吸收器顶盖(1)内还活动套装有位于定位板(5)下方的活动滑板(6),所述活动滑板(6)上开设有与降膜管(4)数量相同的中间通孔(601),所述活动滑板(6)的底部设有位于降膜管(4)外侧的浮环(7),浮环(7)顶部的两侧均固定连接有联动轴(701),所述吸收器顶盖(1)内腔的顶部设有对联动轴(701)进行限位调节的限位机构(8)。2.根据权利要求1所述的一种石墨降膜吸收器的气液分布器,其特征在于:所述上位通孔(501)与中间通孔(601)错位分布,且中间通孔(601)位于(401...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈常彦
申请(专利权)人:陈常彦
类型:发明
国别省市:

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