【技术实现步骤摘要】
反光元件、摄像模组及电子设备
[0001]本申请涉及光学元件
,特别是涉及一种反光元件、摄像模组及电子设备。
技术介绍
[0002]一般可见光的波长范围在400nm至760nm之间,而波长介于10nm至400nm之间的紫外线,以及波长介于760nm至1000nm之间的红外线则属于不可见光。对于集成有较高敏感度的光学元件的摄像模组来说,紫外线以及红外线也是会被其捕捉到的,这就会对成像质量造成影响,因此,摄像模组中需要滤除一定波长范围内的不可见光,以提高成像质量。同时,摄像模组中还需要改变入射光线的光路使其入射至光学元件中进行成像。
[0003]现有技术的摄像模组中一般采用滤光片来实现光谱过滤,同时采用棱镜来改变光路,两者同时使用制作成本较高,且满足不了目前电子设备趋于小型化的趋势。
技术实现思路
[0004]基于此,有必要针对采用滤光片来实现光谱过滤,同时采用棱镜来改变光路,两者同时使用制作成本较高的问题,提供一种反光元件、摄像模组及电子设备。
[0005]本申请实施例提供了一种反光元件,包括 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反光元件,其特征在于,包括:基材;以及反射膜堆,设于所述基材的一个表面,所述反射膜堆包括多层交替设置的第一膜层和第二膜层,所述第一膜层的折射率大于所述第二膜层的折射率,所述反射膜堆的总层数在45层至70层之间,所述反射膜堆被配置为能够反射由所述基材入射的光线。2.根据权利要求1所述的反光元件,其特征在于,所述基材为蓝玻璃基材。3.根据权利要求1所述的反光元件,其特征在于,所述反射膜堆中的所述第二膜层与所述基材的表面接触。4.根据权利要求1所述的反光元件,其特征在于,所述第一膜层的制作材料包括氧化钛、氧化锆、氧化铌、氧化钽、氧化锌、氧化铈、硫化锌、硒化锌、碳化硅、钛酸钡、钛酸锶、硫化镉、钛、硅、锗中的至少一种;和/或所述第二膜层的制作材料包括氧化硅、氧化铪、氧化铝、氧化镁、氧化钇、氟化钡、氟化铈、氟化镁、氟化铝、氟化镧、氟化钇、氟化镱、铝、铜、金、银、硅铝合金中的至少...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵幼锋,
申请(专利权)人:江西晶浩光学有限公司,
类型:新型
国别省市:
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