一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器及其制备方法技术

本申请属于激光器技术领域，特别是涉及一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器及其制备方法。传统的侧向耦合分布反馈激光器工作时，载流子的侧向泄露会严重影响器件的注入效率和阈值增益。此外，光栅形貌的非完美刻蚀会降低光栅的波长选择能力以及器件的可靠性。本申请提供了一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器及其制备方法，所述的窄槽结构设置在脊波导和光栅区之间，用以阻碍载流子的侧向扩散，同时，有利于降低形成完美形貌的刻蚀难度，从而提高光栅制作的可重复性。从而提高光栅制作的可重复性。从而提高光栅制作的可重复性。

【技术实现步骤摘要】
一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器及其制备方法


[0001]本申请属于激光器
，特别是涉及一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器及其制备方法。

技术介绍

[0002]分布反馈(DFB)激光器在许多领域都发挥着重要的控制作用，例如光纤通信、可调谐二极管激光吸收光谱、芯片级原子钟、椭偏仪和三维视觉系统，具有良好的单色性(即光谱纯度)、窄线宽(1MHz以内)和高边模抑制比(SMSR>45dB)。然而，传统的掩埋光栅需要至少一个二次外延的步骤，从而导致界面缺陷问题以及二次外延相关的许多其他困难。表面光栅可以解决上述问题。它可以很容易地集成在许多类型的器件中，避免外延二次外延，便于器件结构的制备。
[0003]侧向耦合脊波导(LC
‑
RWG)表面光栅的提出可以在一定程度上降低这种影响，提高DFB器件的性能。然而，在LC
‑
RWG光栅的刻蚀工艺中，刻蚀深宽比相关的负载效应会造成不理想的光栅轮廓，光栅槽中靠近波导模式中心的底角不能成功刻蚀成理想的形状，而这个关键位置也是光栅与光场耦合强度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有窄槽结构的侧向耦合分布反馈激光器，其特征在于：侧向耦合分布反馈光栅制作在器件外延片的p面，所述侧向耦合光栅结构包括光栅结构和脊结构，所述光栅结构与所述脊结构之间设置有窄槽结构。2.如权利要求1所述的侧向耦合分布反馈激光器，其特征在于：所述侧向耦合分布反馈波导结构包括相对设置的n面电极和p面电极，所述n面电极与所述p面电极之间设置有功能层，在第一方向上，所述功能层包括依次设置的衬底、过渡层、n包层、n波导层、有源层、p波导层、p包层和p盖层，所述第一方向为由所述n面电极指向所述p面电极的方向。3.如权利要求1所述的侧向耦合分布反馈激光器，其特征在于：所述光栅结构包括第一光栅、第三光栅、第五光栅、第七光栅、第二光栅、第四光栅、第六光栅和第八光栅，所述脊结构包括脊波导，所述窄槽结构包括第一窄槽和第二窄槽，所述第一光栅或第三光栅或第五光栅或第七光栅、所述第一窄槽、所述脊波导、所述第二窄槽和所述第二光栅或第四光栅或第六光栅或第八光栅依次排列。4.如权利要求3所述的侧向耦合分布反馈激光器，其特征在于：所述第三光栅高度与所述脊波导高度不同，所述第四光栅高度与所述脊波导高度不同。5.如权利要求3所述的侧向耦合分布反馈激光器，其特征在于：所述第五光栅与第六...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹永刚，唐慧，田锟，石琳琳，范杰，张贺，王海珠，兰云萍，徐英添，马晓辉，金亮，徐睿良，
申请(专利权)人：长春理工大学，
类型：发明
国别省市：