一种高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂、制备方法及应用技术

本发明专利技术公开了一种高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂、制备方法及应用，把钼源充分溶解在蒸馏水中形成浓度为5%～30%的透明溶液，再将硫化铵溶液逐滴加入到上述透明溶液中，搅拌均匀，盖好反应容器后，在油浴中将其升温至60～100℃，反应3

【技术实现步骤摘要】
一种高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂、制备方法及应用


[0001]本专利技术属于纳米材料制备
，具体涉及一种具有丰富不饱和硫原子的非晶态MoS3纳米催化材料的制备方法及应用。

技术介绍

[0002]水中抗生素污染物日益严重，对环境和人类健康带来巨大威胁，开发能够快速高效去除水中抗生素污染物的技术是研究的热点。目前，以Fe
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H2O2为典型代表的高级氧化芬顿技术因其简单和高效而备受关注，并表现出对抗生素污染物良好的去除效果。然而，传统芬顿具有反应pH较低、容易产生Fe(OH)3污泥以及Fe
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/Fe
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循环较慢等缺陷，进而限制了其大规模应用。因此，探索适用范围宽和能够加速Fe
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/Fe
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循环的类芬顿光催化剂是至关重要的。
[0003]二维硫属半导体MoS2材料具有层状结构，其边缘的不饱和硫原子能捕获溶液中的质子形成H2S，同时暴露出还原性金属活性中心加速Fe
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/Fe
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循环。但是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤：（1）将钼源加到蒸馏水中，搅拌形成透明的钼源溶液；（2）将(NH4)S2溶液加入钼源溶液中，盖好反应容器，将混合物放在60～100℃油浴锅中反应3～6天；（3）反应结束后，将产物冷却至室温，用离心机进行离心过滤，用盐酸、氢氧化钠溶液、蒸馏水、乙醇对产品进行清洗；（4）将清洗后的产品在干燥后得到橙色粉末状MoS3催化剂。2.根据权利要求1所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中钼源为(NH4)6Mo7O
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.4H2O或者Na2MoO4·
2H2O，钼源溶液的质量浓度为5%～30%。3.根据权利要求1所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中(NH4)S2溶液的质量分数为25%。4.根据权利要求1所述的高暴露不饱和硫原子MoS3催化剂的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中(NH4)S2溶...

【专利技术属性】
技术研发人员：李玥，于波，段广宇，王龙禄，于翔，卢佳豪，张利辉，张一冰，管鸿基，
申请(专利权)人：河南工程学院，
类型：发明
国别省市：