【技术实现步骤摘要】
一种含硫高折射率单体及其应用
[0001]本专利技术涉及有机化合物合成
，具体涉及一种含硫高折射率单体及其应用。
技术介绍
[0002]高折射率聚合物近年来因其在显示器元件、二极管器件封装剂、微透镜元件、眼镜、照相机、光学镜头等先进光电子制造中的应用而得到广泛发展。含硫类高分子材料由于其折射率高、低色散以及良好的力学性能收到人们的重视。专利日本特开平09
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110979号公报报道了一种具有良好折射率及阿贝数的多环硫化合物，然而由于结构设计原因，该化合物不能用于光固化。
[0003]而为了进一步增加材料的折射率，往往需要进行无机材料掺杂(见专利CN102015837A)，这就增加了工艺复杂性。从当前报道的现有技术来看，一些光固化用单体含有一定量的氮元素，通常单体中的氮元素超过一定量之后，聚合后的材料在高温下往往由于发生氮原子的氧化而导致聚合物折射率和透光性下降。而无机材料掺杂的高折射率材料聚合后往往较脆。
技术实现思路
[0004]为了解决现有光电子行业单体材料聚合后折射率和透光...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种含硫高折射率单体，其特征在于，具有如下式(Ⅰ)或式(Ⅱ)的化学结构：其中A1选自含硫原子的烯烃基、含氧原子或硫原子的β
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烯酮基、含氧原子或硫原子的酰胺类烯烃基、含氧原子或硫原子的氨基类烯酸酯基、含氧原子或硫原子的环烷基中的任意一种，A2选自烯烃基、直链或支链环氧基、直链或支链环硫基中的任意一种；其中n的取值范围为0
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20。2.根据权利要求1所述的一种含硫高折射率单体，其特征在于，所述n的取值范围为1
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3。3.根据权利要求1所述的一种含硫高折射率单体，其特征在于，所述A1具体选自如下任意一种化学结构基团：A2选自具体选...
【专利技术属性】
技术研发人员：万晓君，朱晓群，聂俊，
申请(专利权)人：江苏集萃光敏电子材料研究所有限公司，
类型：发明
国别省市：
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