【技术实现步骤摘要】
一种双铟圈密封结构及其应用
[0001]本专利技术涉及低温真空设备密封
,尤其涉及一种双铟圈密封结构及其应用。
技术介绍
[0002]在低温光学设备中,经常会有处于在真空环境里的低温实验样品腔上安装低温光学窗的密封问题。由于低温的缘故,普通的胶圈密封已经不能使用了,只能采用铟圈密封的技术。而现有技术中,低温光学领域比较常用的是采用光学窗单铟圈进行密封。
[0003]采用光学窗单铟圈进行密封的好处是方便于更换不同类型的光学窗,只需要拆开铟圈的密封就可以进行更换。但在实际使用的过程中,问题也逐渐暴露,由于这种光学窗支撑的筒壁很薄,再加上安装光学窗时,由于密封面之间夹了一圈的铟丝圈,让周围安装螺栓的应力不均匀,在低温条件下,会在粘接镜片周围产生微小的变形,这种微小的变形再加上低温下的收缩,就会使光学镜片周围出现渗漏的现象。
[0004]因此,现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
[0005]鉴于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种双铟圈密封结构及其应用,旨在解决现有技术中低温 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种双铟圈密封结构,其特征在于,包括连接在真空设备上的第一法兰、与所述第一法兰通过螺栓固定的第二法兰、粘接在所述第二法兰上的光学镜片以及夹设在所述第一法兰和所述第二法兰之间的内铟圈和外铟圈;其中,所述第一法兰上开设有安装孔;所述第二法兰上开设有光学窗口,所述光学窗口的边缘向所述第一法兰方向垂直延伸形成支撑筒,所述光学镜片粘接在所述支撑筒上且远离所述第二法兰的一端;所述支撑筒平行嵌入所述安装孔。2.根据权利要求1所述的双铟圈密封结构,其特征在于,所述第一法兰在所述第一法兰与所述第二法兰接触的接触面上开设有第一沟槽和第二沟槽;所述内铟圈放置于所述第一沟槽内,所述外铟圈放置于所述第二沟槽内。3.根据权利要求2所述的双铟圈密封结构,其特征在于,所述第一沟槽与所述第二沟槽之间设有螺孔,所述第二法兰上...
【专利技术属性】
技术研发人员:付柏山,廖奕,牛冉,杨祖盛,韩旭东,
申请(专利权)人:南方科技大学,
类型:发明
国别省市:
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