蒸镀设备制造技术

本申请提供一种蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，用于解决坩埚存在加热不均匀而影响蒸镀效率及蒸镀质量的技术问题，该蒸镀设备包括加热装置及坩埚；加热装置包括具有容纳腔的壳本体，容纳腔内设置有导热液体；坩埚设置于容纳腔内，坩埚的加热区位于导热液体内，且导热液体能够为坩埚提供蒸镀所需的热量。本申请提供的蒸镀设备，能够对坩埚均匀加热，以提升蒸镀效率及蒸镀质量，从而在待蒸镀基板上形成厚度均一的蒸镀膜层。均一的蒸镀膜层。均一的蒸镀膜层。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀设备


[0001]本申请涉及蒸镀
，尤其涉及一种蒸镀设备。

技术介绍

[0002]有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)器件具有宽视角、主动发光、功耗低等诸多优点，逐渐成为极具有发展前景的新一代显示技术；随着OLED显示器件的用途愈加广泛，其制作工艺也日趋成熟。
[0003]目前常采用蒸镀方式制作OLED显示器件中的有机膜层；现有的蒸镀设备包括坩埚、加热装置及盖板，其中，坩埚具有盛放形成有机膜层的有机蒸镀材料的蒸发腔，盖板盖设在坩埚上方，且盖板具有与蒸发腔连通的喷嘴；加热装置包括电阻丝，其可利用电阻丝对坩埚进行加热，以使蒸发腔内的固体有机蒸镀材料融为液态再升温为气态，并从喷嘴喷出，最后冷却于位于喷嘴上方的基板上，并在基板的表面上形成有机膜层。
[0004]然而，利用上述加热装置对坩埚进行加热时，坩埚存在加热不均匀的现象，从而影响蒸镀效率及蒸镀质量。

技术实现思路

[0005]鉴于上述问题，本申请实施例提供一种蒸镀设备，其能够解决坩埚加热不均匀的现象，以提升蒸镀效率及蒸镀质量。
[0006]为了实现上述目的，本申请实施例提供如下技术方案：
[0007]本申请实施例提供了一种蒸镀设备，用于在待蒸镀基板上形成蒸镀膜层，其包括加热装置及坩埚；所述加热装置包括具有容纳腔的壳本体，所述容纳腔内设置有导热液体；所述坩埚设置于所述容纳腔内，所述坩埚的加热区位于所述导热液体内，且所述导热液体能够为所述坩埚提供蒸镀所需的热量。
[0008]在一种可选的实施例中，所述加热装置还包括加热组件；所述壳本体为导热壳体，所述加热组件用于对所述壳本体进行加热。
[0009]在一种可选的实施例中，所述坩埚用于放置蒸镀材料；所述导热液体的沸点大于所述蒸镀材料的蒸发温度。
[0010]在一种可选的实施例中，所述导热液体包括将氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者混合于四甲基硅酸酯的混合物。
[0011]在一种可选的实施例中，所述坩埚漂浮在所述导热液体上；所述坩埚包括坩埚本体和盖板，所述坩埚本体内设置有蒸发腔，所述蒸发腔用于放置蒸发材料；所述坩埚本体的顶部具有与所述蒸发腔连通的敞口，所述盖板盖设在位于所述坩埚本体的敞口处，且所述盖板设置有开口。
[0012]在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括多个辅助浮体；所述辅助浮体为设置在所述坩埚本体的底面上的空心壳体；和/或，
[0013]所述蒸镀设备还包括可伸缩的密封板；所述密封板设置在所述坩埚与所述壳本体
之间，用于密封所述坩埚与所述壳本体之间的缝隙。
[0014]在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括高度调节装置；所述高度调整装置用于调整所述坩埚相对所述壳本体的安装高度。
[0015]在一种可选的实施例中，所述高度调节装置包括调节板、立板及升降机构；所述立板设置在所述壳本体上，所述调节板的一侧滑动安装在所述立板上，所述调节板的另一侧与所述坩埚连接；所述升降机构设置于所述立板上，并带动所述调节板沿所述立板上下滑动；
[0016]优选的，所述升降机构包括丝杆、滑块及驱动电机；所述滑块套设在所述丝杆上，且所述滑块与所述调节板连接；所述驱动电机用于驱动所述丝杆转动，使得所述滑块沿所述立板上下移动。
[0017]在一种可选的实施例中，所述高度调节装置还包括控制单元及与其信号连接的液位检测装置；所述壳本体的侧壁设置有与所述容纳腔连通的液位检测口，所述液位检测装置的检测端安装在所述液位检测口；所述控制单元用于接收所述液位检测装置的液位变化值，以计算所述调节板的移动量H，并传输至所述驱动电机；所述驱动电机根据所述调节板的移动量H调整所述调节板的高度；
[0018]优选的，所述调节板的移动量H满足：H＝(1+K1‑
K2)
·
(H0‑
H
t
)；
[0019]H0为初始时蒸镀材料的蒸发面与待蒸镀基板之间的距离符合蒸镀条件时，所述导热液体对应的液位；H
t
为在至少一个待蒸镀基板上形成蒸镀膜层后，所述导热液体对应的液位；K1为蒸镀材料的蒸发面的下降高度H
耗料
与导热液体的液面下降高度H
液降
之间的比例系数；
[0020]K1＝H
耗料
/H
液降
＝ρ
液
S
液
/ρ
料
S
耗料
；
[0021]K2为坩埚整体上升高度H
坩埚
与导热液体的液面下降高度H
液降
之间的比例系数，其中，ρ
液
gS
液
H
液降
＝ρ
坩埚整体
gS
坩埚
H
坩埚
；
[0022]其中，ρ
液
为导热液体的密度，S
液
为壳本体内的横截面积；ρ
料
为蒸镀材料的密度；S
耗料
为蒸镀材料蒸发面的表面积；ρ
坩埚整体
为坩埚与蒸镀材料的总体重量与坩埚的体积的比值；S
坩埚
为坩埚的截面积。
[0023]在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括多个水平方向调整机构；沿所述壳本体的周向，各所述水平方向调整机构分别安装在所述壳本体的侧壁上；位于所述壳本体内的所述水平方向调整机构的一端与所述坩埚本体的侧壁抵接；
[0024]优选的，所述水平方向调整机构包括调节杆，所述调节杆与所述壳本体通过螺纹连接；所述调节杆远离所述坩埚本体的一端设置有旋钮，所述调节杆靠近所述坩埚的一端设置有导轮，且所述导轮与所述坩埚本体的侧壁抵接。
[0025]与相关技术相比，本申请实施例提供的蒸镀设备具有以下优点；
[0026]本申请实施例提供的蒸镀设备，其包括加热装置及坩埚；加热装置包括壳本体，壳本体具有容纳腔，容纳腔内设置有导热液体，坩埚设置在容纳腔内，且坩埚的加热区与导热液体接触，从而导热液体内的热量可为坩埚提供蒸镀所需的热量。
[0027]与相关技术中通过电阻丝直接对坩埚进行加热相比，本申请实施例中的加热装置利用导热液体对坩埚进行加热，导热液体内的热量可均匀传输至坩埚的加热区，可使坩埚的加热区受热均匀，可提升蒸镀效率及蒸镀质量。
附图说明
[0028]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1为本申请实施例提供的蒸镀装置与待蒸镀基板的布置示意图；
[0030]图2为本申请实施例提供的坩埚的结构示意图；
[0031]图3为本申请实施例提供的高度调节装置与坩本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀设备，用于在待蒸镀基板上形成蒸镀膜层，其特征在于，所述蒸镀设备包括加热装置及坩埚；所述加热装置包括具有容纳腔的壳本体，所述容纳腔内设置有导热液体；所述坩埚设置于所述容纳腔内，所述坩埚的加热区位于所述导热液体内，且所述导热液体能够为所述坩埚提供蒸镀所需的热量。2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述加热装置还包括加热组件；所述壳本体为导热壳体，所述加热组件用于对所述壳本体进行加热。3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚用于放置蒸镀材料；所述导热液体的沸点大于所述蒸镀材料的蒸发温度。4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述导热液体包括将氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者混合于四甲基硅酸酯的混合物。5.根据权利要求1至4中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚漂浮在所述导热液体上；所述坩埚包括坩埚本体和盖板，所述坩埚本体内设置有蒸发腔，所述蒸发腔用于放置蒸发材料；所述坩埚本体的顶部具有与所述蒸发腔连通的敞口，所述盖板盖设在位于所述坩埚本体的敞口处，且所述盖板设置有开口。6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括多个辅助浮体；所述辅助浮体为设置在所述坩埚本体的底面上的空心壳体；和/或，所述蒸镀设备还包括可伸缩的密封板；所述密封板设置在所述坩埚与所述壳本体之间，用于密封所述坩埚与所述壳本体之间的缝隙。7.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括高度调节装置；所述高度调整装置用于调整所述坩埚相对所述壳本体的安装高度。8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，所述高度调节装置包括调节板、立板及升降机构；所述立板设置在所述壳本体上，所述调节板的一侧滑动安装在所述立板上，所述调节板的另一侧与所述坩埚连接；所述升降机构设置于所述立板上，并带动所述调节板沿所述立板上下滑动；优选的，所述升降机构包括丝杆、滑块及驱动电机；所述滑块套设在所述丝杆上，且所述滑块与所述调节板连接；所述驱动电机用于驱动所述丝杆转动，使得所述滑块沿所述立板上下移动。9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，所述高度调节装置还包括控制单元及与其信号连接的液位检测装置；所述壳本体的侧壁设置有与所述容纳腔连通的液位检测口，所述液位检测装置的检测端安装在所述液位检测口；所述控制单元用于接收所述液位检测装...

【专利技术属性】
技术研发人员：王晃，
申请(专利权)人：合肥维信诺科技有限公司，
类型：发明
国别省市：