【技术实现步骤摘要】
一种中子探测器及探测系统
[0001]本申请涉及中子探测
,尤其涉及一种中子探测器及探测系统。
技术介绍
[0002]在核辐射探测器技术中,中子探测器技术广泛应用于国防、武器、科研等领域和多种大型科学装置和核设施上,现有技术中主要的中子探测器有气体探测器、闪烁体探测器、半导体探测器、热释光探测器、径迹探测器和自给能探测器,然而,相关技术中的中子探测器的探测效率低。
技术实现思路
[0003]有鉴于此,本申请实施例期望提供一种探测效率高的中子探测器及探测系统。
[0004]为达到上述目的,本申请实施例的第一方面提供了一种中子探测器,包括:
[0005]氮化硼半导体,所述氮化硼半导体具有相对设置的第一表面和第二表面;
[0006]电极,所述电极为两个,其中一个所述电极与所述第一表面接触,另一个所述电极与所述第二表面接触。
[0007]一种实施方式中,所述氮化硼半导体通过低压化学气相沉积成型。
[0008]一种实施方式中,所述第一表面和所述第二表面平行设置,且所述第一表 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种中子探测器,其特征在于,包括:氮化硼半导体(10),所述氮化硼半导体(10)具有相对设置的第一表面和第二表面(10a);电极(20),所述电极(20)为两个,其中一个所述电极(20)与所述第一表面接触,另一个所述电极(20)与所述第二表面(10a)接触。2.根据权利要求1所述的中子探测器,其特征在于,所述氮化硼半导体(10)通过低压化学气相沉积成型。3.根据权利要求1所述的中子探测器,其特征在于,所述第一表面和所述第二表面(10a)平行设置,且所述第一表面和所述第二表面(10a)分别为所述氮化硼半导体(10)上相对间距最小的两个表面。4.根据权利要求1所述的中子探测器,其特征在于,所述电极(20)为金属膜,所述金属膜通过蒸镀形成在所述第一表面和所述第二表面(10a)上。5.根据权利要求4所述的中子探测器,其特征在于,所述金属膜的材质为金、镍或铝。6.根据权利要求1
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5任意一项所述的中子探测器,其特征在于,所述中子探测器(100)包括电绝缘基座(30),所...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵江滨,何高魁,田华阳,刘洋,郝晓勇,
申请(专利权)人:中国原子能科学研究院,
类型:发明
国别省市:
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